【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及感光高分子材料
技术介绍
2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚基苯基丙酮-1是一种具有优良的稳定性的光引发 剂,其光解产物无取代苄基结构,耐黄变性优良,可以用于各种光固化清漆,也可以与其他 光引发剂配合用于光固化有色体系。 异氰酸酯是一类含有一个或多个异氰酸酯基团的化合物。包括脂肪族异氰酸酯、 芳香族异氰酸酯、不饱和异氰酸酯、卤代异氰酸酯、硫代异氰酸酯、含磷异氰酸酯、无机异氰 酸酯及封闭异氰酸酯等。由于其含有高度不饱和的异氰酸酯基团,使其具有很高的化学活 性,能与多种物质发生重要的化学反应,因而广泛应用于聚氨酯、聚氨酯脲和聚脲、高分子 改性、有机合成试剂、农业、医学等领域。 本专利技术公示了一类含双异氰酸根的可光降解型的异氰酸酯预聚物其制备方法。选 用端羟基的2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚基苯基丙酮-1光引发剂和多异氰酸酯如异氟尔 酮二异氰酸酯和六亚甲基二异氰酸酯等制备预聚物。多异氰酸酯的量是光引发剂量得两 倍,最终形成的预聚物分子仍含有两个异氰酸根,并且可光降解。(2)反应步骤少,制备周期 短,操作简便,易于控制,而且副产物少,因而更适于工业生产。
技术实现思路
本专利技术提供了一种含双异氰酸根的可光降解型的异氰酸酯预聚物其制备方法,本 专利技术从分子结构设计出发,通过分子设计在光引发剂2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚基苯基 丙酮-1(2959)的两端羟基处各接上一个多异氰酸酯,形成一种可光降解型的异氰酸酯。制 备原料中常用的多异氰酸酯可以为二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、苯二亚甲基二异氰酸酯 (XDi)、六亚甲基二异氰酸 ...
【技术保护点】
2‑羟基‑2‑甲基‑对羟乙基醚基苯基丙酮‑1光引发剂与MDI、间XDI、对XDI、HDI、IPDI、HMDI的产物可光降解型异氰酸酯预聚物,其结构式如下:
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:马贵平,方大为,聂俊,
申请(专利权)人:北京化工大学常州先进材料研究院,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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