一种半导体器件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种半导体器件的制造方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成蚀刻停止层、低k介电层、缓冲层和金属硬掩膜层；对所述金属硬掩膜层实施热处理，以增强所述金属硬掩膜层的抗侵蚀性；在金属硬掩膜层中形成第一开口，以露出缓冲层；在缓冲层和低k介电层中形成第二开口；在低k介电层中形成铜金属互连结构；在铜金属互连结构中形成铜金属层。根据本发明专利技术，在形成金属硬掩膜层之后，对半导体衬底实施热处理，可以增强金属硬掩膜层的抗侵蚀性，防止其构成材料与蚀刻金属硬掩膜层时产生的聚合物结合而成湿法清洗工艺难以去除的物质，避免后续形成的铜金属互连结构的开路。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成蚀刻停止层、低k介电层、缓冲层和金属硬掩膜层；对所述金属硬掩膜层实施热处理，以增强所述金属硬掩膜层的抗侵蚀性；在金属硬掩膜层中形成第一开口，以露出缓冲层；在缓冲层和低k介电层中形成第二开口；在低k介电层中形成铜金属互连结构；在铜金属互连结构中形成铜金属层。根据本专利技术，在形成金属硬掩膜层之后，对半导体衬底实施热处理，可以增强金属硬掩膜层的抗侵蚀性，防止其构成材料与蚀刻金属硬掩膜层时产生的聚合物结合而成湿法清洗工艺难以去除的物质，避免后续形成的铜金属互连结构的开路。【专利说明】
本专利技术涉及半导体制造工艺，具体而言涉及一种改进双大马士革工艺的方法。
技术介绍
在半导体器件的后段制程(BEOL)中，通常采用双大马士革工艺形成半导体器件中的铜金属互连层，图1A-图1E示出了一种双大马士革工艺过程。 首先，如图1A所示，提供半导体衬底100，采用化学气相沉积工艺在半导体衬底100上依次形成蚀刻停止层101、低k介电层102、缓冲层103和硬掩膜层104。 在半导体衬底100上形成有前端器件，为了简化，图例中未予示出。所述前端器件是指在BEOL之前形成的器件，在此并不对前端器件的具体结构进行限定。通常采用超低k介电材料构成低k介电层102,所述超低k介电材料是指介电常数(k值)小于2的介电材料。缓冲层103由自下而上依次堆叠的OMCTS (八甲基环化四硅氧烷)层103a和TEOS (正硅酸乙酯)层103b构成，TEOS层103b的作用是在后续研磨填充的铜互连金属时避免机械应力对超低k介电材料的多孔化结构造成损伤，OMCTS层103a的作用是作为超低k介电材料和TEOS之间的过渡材料层以增加二者之间的附着力。硬掩膜层104由自下而上依次堆叠的金属硬掩膜层104a和氧化物硬掩膜层104b构成，这种双层硬掩膜层的结构能够保证双重图形化或者多重图形化的工艺精度。 接着，如图1B所示，在硬掩膜层104中形成第一开口 105，以露出下方的缓冲层103。第一开口 105用作铜金属互连结构中的沟槽的图案，其可以包括多个具有不同特征尺寸的图形。 接着，如图1C所示，在缓冲层103和低k介电层102中形成第二开口 106，所述第二开口 106用作铜金属互连结构中的通孔的图案，其也可以包括多个具有不同特征尺寸的图形。 接着，如图1D所示，以硬掩膜层104为掩膜，执行一体化刻蚀(All-1n-one Etch)工艺蚀刻缓冲层103和低k介电层102 (即同步蚀刻缓冲层103和低k介电层102)，以在低k介电层102中形成铜金属互连结构107。 由于第一开口 105的特征尺寸很小，且形成第一开口 105所采用的蚀刻工艺会在金属硬掩膜层104a的侧壁上留下聚合物，其将侵蚀金属硬掩膜层104a而形成后续实施的湿法清洗工艺难以去除的物质，例如，当金属硬掩膜层104a的材料为TiN时，所述聚合物中的氟(F)与TiN中的Ti结合而成湿法清洗工艺难以去除的物质TixFy，进而造成第一开口 105的图形精度的降低，影响后续第二开口 106的形成，最终导致形成的铜金属互连结构107的部分开路。 因此，需要提出一种方法，以解决上述问题。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供，包括:提供半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成蚀刻停止层、低k介电层、缓冲层和金属硬掩膜层；对所述金属硬掩膜层实施热处理，以增强所述金属硬掩膜层的抗侵蚀性。 进一步，所述热处理的方式包括除气或者炉管退火。 进一步，所述除气的实施时间为l_5min，温度为200-400°C。 进一步，所述炉管退火的实施时间为10_60min，温度为200-400°C。 进一步，在所述热处理之后，还包括以下步骤:在所述金属硬掩膜层中形成第一开口，以露出缓冲层；在所述缓冲层和所述低k介电层中形成第二开口 ；在所述低k介电层中形成铜金属互连结构；在所述铜金属互连结构中形成铜金属层。 进一步，所述第一开口用作所述铜金属互连结构中的沟槽的图案，所述第二开口用作所述铜金属互连结构中的通孔的图案。 进一步，以所述金属硬掩膜层为掩膜，同步蚀刻所述缓冲层和所述低k介电层，以在所述低k介电层中形成所述铜金属互连结构。 进一步，在所述蚀刻结束之后，还包括去除通过所述铜金属互连结构露出的蚀刻停止层以及实施蚀刻后处理的步骤。 进一步，形成所述铜金属层之前，还包括在所述铜金属互连结构的底部和侧壁上依次形成铜金属扩散阻挡层和铜金属种子层的步骤。 进一步，所述缓冲层由自下而上层叠的八甲基环化四硅氧烷层和正硅酸乙酯层构成。 进一步，所述金属硬掩膜层的构成材料为TiN、BN、AlN或者其组合。 进一步，在形成所述第一开口之前，还包括在所述金属硬掩膜层上形成氧化物硬掩膜层的步骤。 进一步，所述氧化物硬掩膜层的构成材料包括S12或S1N，且相对于所述金属硬掩膜层的构成材料具有较好的蚀刻选择比。 根据本专利技术，在形成金属硬掩膜层之后，对半导体衬底实施热处理，可以增强金属硬掩膜层的抗侵蚀性，防止其构成材料与蚀刻金属硬掩膜层时产生的聚合物结合而成湿法清洗工艺难以去除的物质，避免后续形成的铜金属互连结构的开路。 【专利附图】【附图说明】 本专利技术的下列附图在此作为本专利技术的一部分用于理解本专利技术。附图中示出了本专利技术的实施例及其描述，用来解释本专利技术的原理。 附图中: 图1A-图1D为根据现有的示范性双大马士革工艺依次实施的步骤所分别获得的器件的示意性剖面图； 图2A-图2F为根据本专利技术示例性实施例的方法依次实施的步骤所分别获得的器件的示意性剖面图； 图3为根据本专利技术示例性实施例的方法改进双大马士革工艺的流程图。 【具体实施方式】 在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本专利技术更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本专利技术可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本专利技术发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。 为了彻底理解本专利技术，将在下列的描述中提出详细的步骤，以便阐释本专利技术提出的改进双大马士革工艺的方法。显然，本专利技术的施行并不限定于半导体领域的技术人员所熟习的特殊细节。本专利技术的较佳实施例详细描述如下，然而除了这些详细描述外，本专利技术还可以具有其他实施方式。 应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。 下面，参照图2A-图2F和图3来描述根据本专利技术示例性实施例的方法改进双大马士革工艺的详细步骤。 参照图2A-图2F，其中示出了根据本专利技术示例性实施例的方法依次实施的步骤所分别获得的器件的示意性剖面图。 首先，如图2A所示，提供半导体衬底200，采用化学气相沉积工艺在半导体衬底200上依次形成蚀刻停止层201、低k介电层202、缓冲层203和硬掩膜层204。 在半导体衬底200上形成有前端器件，为了简化，图例中未予示出。所述前端器件是指在BEOL之前形成的器件，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体器件的制造方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成蚀刻停止层、低k介电层、缓冲层和金属硬掩膜层；对所述金属硬掩膜层实施热处理，以增强所述金属硬掩膜层的抗侵蚀性。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵简，曹轶宾，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31