磁记录介质的制造方法技术

一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量。所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。

【技术实现步骤摘要】
磁记录介质的制造方法
本专利技术涉及一种磁记录介质的制造方法。
技术介绍
近年，磁存储装置被安装在个人计算机、录像机、数据服务器等各种各样的产品中，其重要性日益增加。磁存储装置是一种具有通过磁记录对电子数据进行保存的磁记录介质的装置，例如，可包括磁盘装置、可挠性(软)盘装置、及磁带装置等。磁盘装置例如可包括硬盘驱动器(HDD：HardDiskDrive)等。一般的磁记录介质具有多层膜积层结构，该多层膜积层结构例如可通过在非磁性基板上按底层(或称基层)、中间层、磁记录层、及保护层的顺序进行成膜，然后在保护层的表面涂敷润滑层而形成。为了防止杂物(不纯物)等混入磁记录介质的各层之间，在磁记录介质的制造中使用了一种可在减压状态下连续地对各层进行积层的串列式(Inline)真空成膜装置(例如，参照专利文献1)。在串列式真空成膜装置中，具有可在基板上进行成膜的成膜单元的多个(本文中指2个以上)成膜室、进行加热处理的加热室、及预备室等一起介由闸阀(GateValve)进行连接，形成了一条成膜线。在搬运单元上安放基板并使其通过成膜线的过程中，基板上可形成预定层的膜，据此，可制成预期的磁记录介质。一般而言，成膜线被配置为环状，成膜线上具有基板装卸室，用于将基板安放至搬运单元或从搬运单元上将其拆卸下来。在成膜室间绕了一圈的搬运单元被送入基板装卸室，从搬运单元上拆下成膜后的基板，并在成膜后的基板被拆下了的搬运单元内再安装新的基板。另外，作为在磁记录介质的表面形成润滑层的方法，提出了一种在真空成膜容器内载置磁记录介质，并在成膜容器内导入气化润滑剂的汽相润滑(Vapor-PhaseLubrication)成膜方法(例如，参照专利文献2)。另外，还提出了一种磁记录介质，其中，形成了2层润滑层，在保护层侧具有固定层(或结合层)，其化学性稳定并且与保护层的密着性适当，在表面侧具有流动层(或自由层)，其主要由低摩擦系数材料构成(例如，参照专利文献3)。另外，为了将保护层和润滑层的结合率(或称“粘合比”)提高至70％以上，还提出了采用氮化碳来形成保护层，采用具有包含胺结构的末端基的全氟聚醚(PFPE)来形成润滑层的方案(例如，参照专利文献4)。这里，需要说明的是，在专利文献4中，结合率被定义如下，即：将形成了润滑层的磁记录介质浸渍至碳氟化合物(Fluorocarbon)溶媒中并对其施加5分种的超音波，之后，采用ESCA(ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis)方法，对同一介质的同一位置处的浸渍前后的1270cm－1付近的吸光度进行测定，并将所测定的两个吸光度的比值的百分率((浸渍后吸光度/浸渍前吸光度)×100)定义为所述结合率。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]特开平8－274142号公报[专利文献2]特开2004－002971号公报[专利文献3]特开2006－147012号公报[专利文献4]特开2000－222719号公报
技术实现思路
[专利技术要解决的课题]如果考虑到磁记录介质和磁头的接触，则润滑层的摩擦系数最好为较低。另一方面，如果考虑到磁记录介质的耐腐蚀性，则基于润滑层的保护层表面的被覆率最好为较高。因此，本专利技术的目的在于提供一种磁记录介质的制造方法，其可降低润滑层的摩擦系数，并可提高基于润滑层的保护层表面的被覆率。[用于解决课题的手段]根据本专利技术的一方面，提供一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包括：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第1润滑剂；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，在所述被积层体上涂敷第2润滑剂。其中，所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量，所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。根据本专利技术的另一方面，提供一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包括：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。其中，所述第1润滑剂的分子量高于所述第2润滑剂的分子量，所述第1润滑剂的极性低于所述第2润滑剂的极性。将所述第2润滑剂涂敷至所述被积层体的步骤为，将被涂敷至所述被积层体的所述第1润滑剂的一部分置换为所述第2润滑剂的步骤。[专利技术的效果]根据所公开的磁记录介质的制造方法及装置，可降低润滑层的摩擦系数，并可提高基于润滑层的保护层的表面被覆率。附图说明[图1]对本专利技术的一个实施方式中所使用的磁记录介质的制造装置的一个例子进行表示的模式图。[图2]对由图1的制造装置所制造的磁记录介质的一个例子进行表示的截面图。[图3]对具有在本实施方式中所制造的磁记录介质的磁气记忆装置的结构的一个例子进行表示的斜视图。[符号说明]1磁记录介质100基板101成膜装置110密着层111、112、940、941、946机器人120软磁性底层130配向控制层140非磁性下地层150垂直记录层160保护层170润滑层903基板装卸室904、907、914、917拐角室905、906、908～913、915、916、918～920处理室921预备室944a第1汽相润滑处理室944b分离室944c第2汽相润滑处理室G、G1～G12闸阀具体实施方式以下参照附图对本专利技术的各实施方式的磁记录介质的制造方法及装置进行说明。由本专利技术人的研究可知，如果以使被积层体不与大气接触的方式连续地执行磁记录介质的从磁记录层至润滑层的形成过程，则润滑层所含的粘合层的比率(或称“粘合比(bondedratio)”)根据润滑剂的种类的不同可高达100％。但是，由本专利技术人的研究还可知，润滑层的粘合比不一定100％就是最佳。如果从对磁记录介质和磁头接触时的摩擦系数进行降低的观点来看，则润滑层最好包含适当的自由层。另一方面，如果从对磁记录介质的耐腐蚀性进行提高的观点来看，则基于润滑层的保护层表面的被覆率最好较高。因此，本专利技术人如以下所述的那样提出了一种磁记录介质的制造方法，其通过在适当的范围内提高润滑层的相对于保护层表面的粘合比，不仅使润滑层包含了适当的自由层，还提高了基于润滑层的保护层表面的被覆率。就磁记录介质的润滑层而言，保护层侧需要具有可与保护层牢固结合(即，粘合比较高)并且化学性稳定的粘合层，而表面侧则需要具有主要由低摩擦系数的材料所形成的自由层。这里，如果采用汽相润滑成膜方法，则可容易地形成所述粘合层。然而，这难以使保护层表面的基于润滑剂的被覆率提高，并且，难以使润滑层含有合适的自由层。即，具有这样的特性的磁记录介质的润滑层由特殊润滑剂或该特殊润滑剂与其他润滑剂的混合物所形成的情形较多。然而，在想采用汽相润滑成膜方法对这样的润滑剂进行涂敷时，存在这样的问题，即，分子量较低的低沸点的化合物先蒸发并进行了涂敷，或者，为了同时使化合物蒸发而提高加热温度时，会导致润滑剂内所含的一部分化合物产生分解或热聚合从而变为别的化合物。相对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法，其特征在于：所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体，其中：所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量；及所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。

【技术特征摘要】
2013.04.02 JP 2013-0769591.一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层及润滑层的磁记录介质的制造方法，其特征在于：所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体，其中：所述第1润滑剂的分子量高于所述第2润滑剂的分子量；所述第1润滑剂的极性低于所述第2润滑剂的极性；及将所述第2润滑剂涂敷至所述被积层体的步骤为，将所述被积层体上所涂敷的所述第1润滑剂的一部分置换为所述第2润滑剂的步骤。2.如权利要求1所述的磁记录介质的制造方法，其特征在于：所述第1润滑剂包含分子量在1500～5000范围内的二醇。3.如权利要求1或2所述的磁记录...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈部健彦，藤克昭，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP