一种用于磁控溅射工艺的电弧检测及抑制方法技术

技术编号:10019645 阅读:165 留言:0更新日期:2014-05-08 18:58
本发明专利技术公开了一种用于磁控溅射工艺的电弧检测及抑制方法,由电压霍尔传感器和电流霍尔传感器实施对磁控溅射电源负载电压和负载电流的采样,采用电压电流共同变化阈值检测方法作为电弧检测判定依据,如果判定没有电弧,则维持当前状态;当检测到电弧时,则立即通过降低输出电压幅值来进行抑制;当累积产生超过设定数量的电弧时,则强行对靶(“阴极”)进行清洗。本发明专利技术方法,能够更可靠、更高效、更全面地检测电弧的出现,尽可能减少了工艺区间的丢失,从而提高了磁控溅射镀膜工艺的效率和膜层的质量。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:孙强宁波陈桂涛黄西平孙向东
申请(专利权)人:西安理工大学
类型:发明
国别省市:

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