本发明公开了一种硅胶粉碎机，具体涉及硅胶粉碎技术领域，包括外壳组件，包括第二支架，以及固定安装在第二支架顶部的第一支架，所述第一支架和第二支架的上部分别安装有粉碎机外壳和吹风机外壳；粉碎组件，包括转动安装在粉碎机外壳内部一侧的多组第一转...

本发明公开了一种硅胶制备用反应釜混合异味气体的除味装置，涉及反应釜技术领域，包括固定架、反应釜和釜盖，所述固定架的内侧安装有反应釜，所述反应釜的顶部套接有密封圈，所述密封圈的顶部安装有釜盖打开进气孔，连通反应釜和负压室时，负压室与反应釜...

本实用新型公开一种能有效提高混合效率的精馏装置，包括精馏组件、混料组件、回料组件、降噪层和抗震组件；所述精馏组件包括梯形的反应箱、隔板和斜板；所述反应箱上分别开设有进料口和出料口；所述隔板安装于所述反应箱内部，位于所述隔板的两侧倾斜安装...

本实用新型公开了一种DMC用处理废硅胶的粉碎装置的结构，属于废硅胶处理技术领域。该DMC用处理废硅胶的粉碎装置，包括基座和抽尘组件。所述基座包括处理箱、底座、粉碎辊和筛分盒，所述处理箱顶部连通安装有进料斗，所述粉碎辊底部设置有导流块，所...

本申请公开了一种DMC原料粉碎用降尘装置，DMC原料粉碎用降尘装置，包括粉碎结构、烘干结构和降尘结构，所述粉碎结构包括第一箱体、第一进料管、粉碎组件和排料组件，所述第一进料管与所述第一箱体连通，所述粉碎组件设置于所述第一箱体内部，所述排...

本实用新型公开一种能提高回收效率的蒸馏罐，包括罐体、加热器、支撑组件、回收组件和蓄水组件；所述罐体底部安装有所述加热器，上端开设有蒸汽出口；所述支撑组件设置于所述罐体外周面；所述回收组件包括壳体、承载板、转动电机、轴体、导水板和干燥部；...

本实用新型公开一种生产二甲基环硅氧烷的粉碎机，包括机壳、粉碎组件、筛网、回料组件、降温组件和集料箱；所述机壳上开设有进料口，所述粉碎组件安装于所述机壳内，用于粉碎物料；所述回料组件包括两隔板、网板和吹风机；两所述隔板对称设置于所述粉碎组...

本发明公开了一种DMC废硅胶处理用废气回收装置，属于DMC生产技术领域，该DMC废硅胶处理用废气回收装置，包括回收组件、第一处理组件和第二处理组件。所述第一处理组件包括第二箱体、吸附过滤网、粗过滤网、清扫件和回收盒，所述第二箱体固定连接...

本发明公开了一种DMC生产用废硅胶清洗装置，属于DMC生产技术领域。该DMC生产用废硅胶清洗装置包括搅拌组件和清洗组件。在搅拌组件的基础上增加了清洗装置，利用搅拌组件的搅拌结构来实现清洗效果，还进一步提高了搅拌效果，两个组件相辅相成，结...

本实用新型公开一种DMC储存装置，包括储存罐、搅动组件、机壳、供热组件、抽料泵、导热组件和温度传感器；所述储存罐上开设有料孔，内部从上至下设有加热腔和导料腔；所述加热腔与所述导料腔之间通过连通管连通；所述搅动组件包括设置于所述加热腔的轴...

本实用新型公开一种DMC反应釜，包括反应釜本体、搅拌组件、运料组件、电加热块和供水泵；所述反应釜本体包括外箱体，以及设置于所述外箱体内的内箱体；所述内箱体与所述外箱体内壁保持间隙，并形成一蓄水区域；所述搅拌组件的搅拌端设置于所述内箱体内...

本实用新型公开了一种DMC进料除尘装置，属于DMC生产技术领域，包括反应釜及吸尘机构，吸尘机构包括安装罩、吸尘组件、驱动组件及除尘组件。安装罩罩设于反应釜的进料口，且安装罩开设有一与进料口连通的缺口；吸尘组件置于安装罩内部，且其具有一与...

本实用新型公开了一种加工搅拌系统，属于DMC生产技术领域，包括箱体、第一搅拌机构、第二搅拌机构及刮板；第一搅拌机构包括连接框、若干个搅拌组件、传动组件及第一电机，连接框转动连接于箱体且其内部形成一活动腔，第一电机用于驱动传动组件的驱动件...

本发明公开一种二甲基环硅氧烷用粉碎机，包括机箱、粉碎组件、驱动组件、水箱和降温组件；所述粉碎组件包括第一粉碎轴、第二粉碎轴、若干导热块和若干刀片；所述第一粉碎轴与所述第二粉碎轴均为中空轴体，且竖直安装于所述机箱内；若干所述导热块交错安装...

本发明公开一种硅胶清洗装置，包括漂洗组件、导流组件、冲洗组件、水箱和烘干组件；所述漂洗组件包括底箱、搅拌杆和抽料泵；所述搅拌杆转动连接于所述底箱内，用于搅拌清洗硅胶；所述抽料泵安装于所述导流组件外部，用于将所述硅胶导入所述导流组件中；所...

本发明公开了一种生产二甲基环硅氧烷的粉碎机，属于粉碎机技术领域，包括：搅碎结构、导料结构、粉碎结构及导风结构。搅碎结构包括一搅碎组件及一第一电机；导料结构的进料端与搅碎腔的出料端对应且其内部设有一贯穿导料结构并与搅碎组件同轴相连的螺旋杆...

本发明公开了一种硅胶清洗装置，属于硅胶生产清洗设备技术领域，包括：第一水箱、传送装置、第一清洗构件、第二清洗构件、收集装置及两个第三清洗构件。第一水箱内部形成一清洗腔；传送装置包括两个带轮、传动带、若干个橡胶块及第一电机；第一清洗构件位...

本发明公开了一种加工过滤处理系统，属于DMC生产技术领域，包括：反应釜、清洗结构、过滤结构、清扫结构及回收结构；反应釜内部形成一腔体、其顶部设有与其腔体连通的进料管，反应釜内部分别放置有一水箱及一反应箱；清洗结构包括连接箱、喷头及连接管...

本发明公开了一种恒温处理系统，属于DMC生产技术领域，包括安装机构、搅拌机构、加料机构及排液机构；安装机构包括工作台及保温箱体，保温箱体与工作台相连且其与工作台之间形成一保温腔反应机构包括加热装置、反应装置及两个恒温装置，恒温箱底部开设...

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体为一种便于内部清洁的化工反应釜，包括壳体，所述壳体的上端固定连接有支架，所述支架的内部开设有通孔，所述支架的上端固定连接有减速机，所述减速机的上端固定连接有电机，所述电机的主轴通过减速机与联轴器固定连...