应用材料公司专利技术

应用材料公司共有6594项专利

  • 无刮擦且耐用的基板支撑销及处理腔室
    本文所描述了一种基板支撑销和利用所述基板支撑销的处理腔室。在一个实施例中,提供了基板支撑销,所述基板支撑销包括细长的主体、杯和头部。所述杯以允许所述杯的中心线移动至不与所述主体的中心线对准的取向的方式被固定至所述主体。所述头部固定至所述...
  • 电镀设备
    一种电镀处理器,所述电镀处理器包括基部,所述基部具有容器主体。包括隔膜壳的隔膜组件附接到隔膜板。隔膜提供在附接到所述隔膜壳的隔膜支撑件上。阳极组件包括阳极杯以及位于所述阳极杯中的一个或更多个阳极。阳极板被附接到所述阳极杯。位于所述阳极板...
  • 一种用于切割半导体基板的系统
    公开了一种用于切割半导体基板的系统,所述半导体基板包含数个IC,所述系统包含集群工具,集群工具包括:等离子体蚀刻腔室;机器手传送腔室,所述机器手传送腔室耦接至所述等离子体蚀刻腔室;以及湿工艺模块,所述湿工艺模块耦接至所述机器手传送腔室。...
  • 内表面具有特征结构的保持环
    保持环的一些实施方式具有内表面,所述内表面具有由多个平面刻面形成的第一部分和沿边界邻接第一部分的第二部分,并且保持环包括从外部朝内向下倾斜的截头圆锥形表面。保持环的一些实施方式具有锯齿状内表面或蜿蜒内表面和/或具有不同表面性质或不同倾斜...
  • 一种自动化沉积工艺
    公开了一种自动化沉积工艺。本发明实施例一般提供在衬底上丝网印刷图案的装置与方法。在一实施例中,图案化层连同多个对准标记被印刷至衬底的表面上。测量这些对准标记相对于衬底的特征结构的位置,以判定图案化层的实际位置。将实际位置与预期位置作比较...
  • 具有高发射率涂层的大型真空腔室主体的电子束熔接
    本发明所揭示的实施方式与已熔接在一起的大型真空腔室主体有关。腔室主体在所述腔室主体中至少一个表面上具有高发射率涂层。由于腔室主体的大型尺寸,腔室主体是通过将数个部件熔接在一起而形成,而非以单一金属部件来锻造主体。这些部件在与主体的弯处相...
  • OLED器件
    描述了一种OLED器件。将封装结构沉积在OLED结构上方,所述封装结构具有夹在阻挡层之间的有机缓冲层和设置于所述有机缓冲层上的界面层。在一个实例中,所述OLED器件包括:第一阻挡层,所述第一阻挡层设置在基板的一区域上,所述区域上设置有O...
  • 用于改进的等离子体处理腔室的系统和设备
    本实用新型的实施例提供用于改进的处理腔室的系统和设备。实施例包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统,所述PECVD系统具有:处理腔室,所述处理腔室具有盖组件和喷淋头;以及RF发生器,所述RF发生器可操作以通过所述盖组件将10kW...
  • 电镀设备
    一种电镀设备,所述电镀设备包括基部,所述基部具有容器主体。包括隔膜壳的隔膜组件附接到隔膜板。隔膜提供在附接到所述隔膜壳的隔膜支撑件上。阳极组件包括阳极杯以及位于所述阳极杯中的一个或更多个阳极。阳极板被附接到所述阳极杯。位于所述阳极板的第...
  • 用于支撑基板于外延生长装置内的基座
    公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流,使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述...
  • 腔室部件
    用于监控腔室部件的磨损的设备在此被公开。在一个具体实施方式中,提供腔室部件。所述腔室部件包括:主体,所述主体包括第一材料;设置在所述第一材料上的第二材料,所述第二材料具有限定所述腔室部件的内部表面的暴露的表面;以及设置在所述第二材料的所...
  • CMP 系统和用于抛光系统的保持环
    本实用新型公开了一种CMP系统和一种用于抛光系统的保持环。在一个实施方式中,用于抛光系统的保持环包括环形主体,所述环形主体具有抛光内径。所述主体具有:底表面,所述底表面具有形成在其中的槽;外径壁;和内径壁,其中所述内径壁被抛光至小于30...
  • 用于多图案化应用的光调谐硬掩模
    一种用于多图案化应用的光调谐硬掩膜。本文的实施方式提供的方法用于形成PVD氧化硅或富硅氧化物、或PVDSiN或富硅SiN、或SiC或富硅SiC、或前述的组合,包括化合物中含有受控的氢掺杂的变化,以上被称为SiOxNyCz:Hw,其中w、...
  • 用于处理柔性基板的设备及清洗其处理腔室的方法
    根据本公开,提供一种用于处理柔性基板的设备。此设备包括处理腔室、涂布滚筒(110)、一个或更多个沉积源以及快门装置(200),所述涂布滚筒在处理腔室内并配置成支撑柔性基板,所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中,所述快门装置设置在处理腔...
  • 光学投影阵列曝光系统
    本公开涉及一种光学投影阵列曝光系统。公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明‑投影光束分离器,该照明模块被配置为提供照明光,其中,该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;该投影模块被配置为将该照明光...
  • 光波分离网格与形成光波分离网格的方法
    本文提供光波分离网格与形成方法。在一些实施方式中,光波分离网格包括:第一层,具有ROXNY的分子式,其中该第一层具有第一折射率;以及第二层,该第二层设置于该第一层顶上且与该第一层不同,该第二层具有R’OXNY的分子式,其中该第二层具有与...
  • 高性能ZnFe液流电池组
    基于碱性锌/铁氰化亚铁可充电(“ZnFe”)的高性能液流电池组和类似液流电池组可包括以下改善中的一或更多者。第一,电池组设计具有电池堆叠,所述电池堆叠包含至少一个正的半电池中的低电阻正极和至少一个负的半电池中的低电阻负极,其中选择正极电...
  • 具有磨损指示器的腔室部件
    用于监控腔室部件的磨损的设备在此被公开。在一个具体实施方式中,提供腔室部件。所述腔室部件包括:主体,所述主体包括第一材料;设置在所述第一材料上的第二材料,所述第二材料具有限定所述腔室部件的内部表面的暴露的表面;以及设置在所述第二材料的所...
  • 形成多孔三维电极微观结构的方法
    一种形成多孔三维电极微观结构的方法,所述方法包含以下步骤:在镀覆液中定位导电基板;使用电镀工艺在所述导电基板的一个或多个表面上形成三维铜‑锡‑铁多孔导电基体,此步骤包括:以第一电流密度通过扩散受限的沉积工艺在所述导电基板上方沉积圆柱金属...
  • 在铝等离子体装备部件上生成紧密的氧化铝钝化层
    用于在铝部件上生成紧密的氧化铝钝化层的工艺包括以下步骤:在去离子水中冲洗部件达至少1分钟;干燥此部件达至少1分钟;以及在低于10℃的温度下,将此部件暴露于浓硝酸达1至30分钟。所述工艺也包括以下步骤:在去离子水中冲洗部件达至少1分钟;干...