用于处理柔性基板的设备及清洗其处理腔室的方法技术

根据本公开，提供一种用于处理柔性基板的设备。此设备包括处理腔室、涂布滚筒(110)、一个或更多个沉积源以及快门装置(200)，所述涂布滚筒在处理腔室内并配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内并配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔(300)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开的实施例涉及一种薄膜处理设备，特别涉及一种用以处理柔性基板的设备，且更特别地涉及卷对卷式(Roll-to-Roll,R2R)系统。本公开的实施例特别涉及对卷对卷式化学气相沉积(CVD)系统的处理腔室进行等离子体清洗的设备及方法。
技术介绍
柔性基板(诸如，塑料膜或箔)的处理在封装产业、半导体产业及其他产业中具有高的需求。处理可包括利用所需材料(诸如，金属、半导体及电介质材料)对柔性基板进行涂布、蚀刻、以及在基板上执行的其他处理步骤以便于所需的应用。执行这项任务的系统大致包括涂布滚筒(coating drum)(例如，圆柱形辊)，其耦接至处理系统以用来传送基板，在所述涂布滚筒上处理基板的至少一部分。卷对卷式涂布系统可因此提供高产量系统。通常，涂布工艺(诸如，化学蒸发工艺或热蒸发工艺)可用来将薄的材料层沉积于柔性基板上。然而，卷对卷式沉积系统在显示器产业及光伏(PV)产业中也历经了强烈的需求增长。举例来说，触控面板元件、柔性显示器及柔性PV模块导致在卷对卷式涂布机中沉积适合的层(尤其在低制造成本的情况下)的需求增加。然而，这种装置通常具有若干层，其通常以CVD工艺、特别还是PECVD工艺来制造。具有例如CVD、PECVD和/或PVD源的沉积设备可能在沉积源的屏蔽件和/或周围部件上产生沉积。为了避免交叉污染效应并且确保长期工艺稳定性，必须执行设备清洗程序以便后续使用。通常，针对此目的，手动打开并清洗处理腔室。然而，这是耗费时间的，且可能导致机器停机时间增加，使得难以在与对腔室通气之前相同的条件下在后续的或替换的柔性基板上进行处理。因此，本领域中需要一种用于处理柔性基板(诸如OLED结构、半导体结构及其他现代的更为复杂的装置)的高效设备以确保基板产量最大化，且停机时间最小化。
技术实现思路
鉴于上述，提供一种用于处理柔性基板的设备及清洗其处理腔室的方法。本专利技术的进一步的方面、优点及特征从从属权利要求、说明书及所附附图中变得显而易见。在一方面，提供一种用于处理柔性基板的设备。设备包括处理腔室、涂布滚筒、一个或更多个沉积源以及一快门装置，所述涂布滚筒在处理腔室中并且配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内并且配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。在另一方面，提供一种用于处理柔性基板的设备的屏蔽箔。屏蔽箔包括一个或更多个切口，这些切口对应于设备的一个或更多个沉积源的位置。在又一其他方面，提供一种用于在不破坏处理腔室中的真空的情况下清洗柔性基板处理设备的处理腔室的方法。设备包括快门装置，所述快门装置设置在处理腔室内并且配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。此方法包括由快门装置在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间引导屏蔽箔；在处理腔室中开始第一抽吸和净化工艺；提供清洗或蚀刻气体至处理腔室；等离子体清洗处理腔室；以及在处理腔室中开始第二抽吸和净化工艺。在又另一方面，提供一种用于处理柔性基板的设备。设备包括处理腔室、涂布滚筒、一个或更多个沉积源以及快门装置，所述涂布滚筒在处理腔室内并且配置成支撑柔性基板，所述一个或更多个沉积源布置在处理腔室中，所述快门装置设置在处理腔室内。快门装置包括至少一个臂，所述至少一个臂具有第一部分及第二部分，其中第一部分提供此臂的旋转轴，且其中屏蔽箔可连接至第二部分。快门装置配置成通过臂绕着旋转轴的旋转在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。实施例还针对用于实行所公开的方法的设备，并包括用于执行每一个所公开的方法步骤的设备部件。这些方法步骤可通过硬件组件、由合适的软件编程的计算机、这两者的任何组合或以任何其他的方式来执行。再者，根据专利技术的实施例还针对上述设备操作所用的方法。此方法包括用于实行设备的每个功能的方法步骤。附图说明因此，为了详细理解本专利技术的上述特征的方式，可通过参考实施例得到以上简要概述的本专利技术的更加具体的说明。所附附图有关于本专利技术的实施例并且描述如下：图1A示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的设备的处理腔室的部分的示意图。图1B示出根据本文所述实施例的用于沉积或涂布薄膜的卷对卷式沉积设备的示意图。图2示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的设备的涂布滚筒的侧视剖面图。图3示出图2所示的用于处理柔性基板的设备的快门装置的示意图。图4示出用于处理柔性基板的设备以及处于不同位置的快门装置的详细立体图。图5示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的设备的涂布滚筒的前视剖面图。图6示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的设备的区段的平面图。图7示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的另一设备的处理部分的侧视剖面图。图8示出根据本文所述实施例的图7的设备和具有切口的屏蔽箔的前视图。图9示出根据本文所述实施例的用于处理柔性基板的又一设备的处理部分的侧视剖面图。图10示出根据本文所述实施例的用于清洗柔性基板处理设备的处理腔室的方法的流程图。具体实施方式现将详细参考本专利技术的各种实施例，实施例中的一个或多个示例在附图中示出。在以下对附图的描述中，相同的参考标号指称相同的部件。大体上，仅相对于个别实施例的不同点进行说明。每一个示例作为对本专利技术的解释来提供，且不应视为对本专利技术的限制。进一步，作为一个实施例的一部分所描绘或描述的特征可使用在其他实施例上或与其他实施例结合使用，以产生另一实施例。此描述意在包括这样的修改与变型。这里要注意的是，本文所述实施例中所使用的柔性基板或腹板(web)可通常表征为它是可弯曲的。用语“腹板(web)”可与用语“条带(strip)”或用语“柔性基板”同义地使用。举例来说，本文实施例中所述的腹板可以是箔或其他柔性基板。本文所使用的用语“屏蔽箔(shielding foil)”意在表示通常由不同于柔性基板的材料的材料所制成的箔。例如，此箔可由金属合金(诸如，例如不锈钢)所构成。根据本文的实施例，屏蔽箔可例如具有10微米至300微米的厚度，特别是50微米至125微米的厚度。用语“屏蔽箔”的意思可等同于用语“牺牲箔(sacrificial foil)”。本文所述的实施例总体上涉及一种用于处理柔性基板的设备，以及用于在不破坏处理腔室中的真空的情况下清洗柔性基板处理设备的处理腔室的方法。设备包括处理腔室内的快门装置(shutter device)。快门装置配置成在涂布滚筒与一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。具体来说，屏蔽箔可覆盖沉积源下方的区域，且可进行等离子体清洗而不影响柔性基板和/或涂布滚筒。在本文所公开的实施例中，不需要在清洗之前破坏真空，由于快门装置可在清洗工艺期间、甚至当处理腔室密封或排空时，移动屏蔽箔以保护涂布滚筒。进一步，本实施例允许在不移除柔性基板(例如，从等离子体清洗区域)的情况下执行清洗工艺(诸如，NF3清洗工艺)。对腔室进行净化和抽吸不一定需要移除柔性基板。柔性基板(诸如，腹板箔)的长度可以长达数百米。即使某些工艺必须要它们之间进行清洗(例如在整个基板长度被处理之前)，在不移除柔性基板的情况下进行也是有可能的。本文所描述的实施例尤其可在腹板涂布机器中使用。根据本文所述的实施例，用于处理柔性基板的设备100的处理腔室的一部分(特别是用于将薄膜沉积在柔性基板上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理柔性基板的设备，包括：处理腔室；涂布滚筒，所述涂布滚筒在所述处理腔室中并且配置成支撑所述柔性基板；一个或更多个沉积源，所述一个或更多个沉积源布置在所述处理腔室中；以及快门装置，所述快门装置设置在所述处理腔室内并且配置成在所述涂布滚筒与所述一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理柔性基板的设备，包括：处理腔室；涂布滚筒，所述涂布滚筒在所述处理腔室中并且配置成支撑所述柔性基板；一个或更多个沉积源，所述一个或更多个沉积源布置在所述处理腔室中；以及快门装置，所述快门装置设置在所述处理腔室内并且配置成在所述涂布滚筒与所述一个或更多个沉积源之间移动屏蔽箔。2.如权利要求1所述的设备，进一步包括一个或更多个辊接收器，配置用来卷绕和/或退绕所述屏蔽箔，特别其中所述一个或更多个辊接收器设置在所述涂布滚筒的下方。3.如权利要求2所述的设备，其中所述一个或更多个辊接收器设置在所述处理腔室内。4.如权利要求2或3所述的设备，其中所述辊接收器包括第一辊接收器，配置用来卷绕和退绕所述屏蔽箔，特别其中所述屏蔽箔的第一端部可连接至所述第一辊接收器；以及第二辊接收器，配置用来卷绕和退绕所述屏蔽箔，特别其中所述屏蔽箔的第二端部可连接至所述第二辊接收器。5.如权利要求4所述的设备，其中所述第一辊接收器设置在所述涂布滚筒的下方，和/或所述第二辊接收器设置在所述涂布滚筒的上方。6.如权利要求1至5中的一项所述的设备，其中所述快门装置包括至少一个臂，所述至少一个臂具有第一部分与第二部分，其中所述第一部分提供所述臂的旋转轴，且其中所述屏蔽箔可连接至所述第二部分。7.如权利要求6所述的设备，其中所述臂的所述旋转轴基本上平行于所述涂布滚筒的旋转轴，特别其中所述臂的旋转轴对应于所述涂布滚筒的旋转轴。8.如权利要求6或7所述的设备，其中所述第一部分基本上垂直于所述涂布滚筒的所述旋转轴延伸，并且具体来说所述第一部分从所述涂布滚筒的所述旋转轴至少延伸至所述涂布滚筒的圆周表面，和/或其中所述第二部分平行与所述涂布滚筒的所述旋转轴延伸，具体来说沿着所述涂布滚筒的圆周表面的至少一部分延伸。9.如权利要求4或5所述的设备，其中所述快门装置进一步包...

【专利技术属性】
技术研发人员：F·里斯，A·索尔，N·莫里森，T·斯托利，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US