本文提供用于在基板处理腔室中使用的准直器的实施方式。在一些实施方式中，准直器包含：本体，所述本体具有中央区域、周边区域以及设置在中央区域和周边区域之间的过渡区域；在中央区域中的多个具有第一深宽比的第一孔；在周边区域中的多个具有第二深宽比...

本文所述的实施方式一般地涉及金属电极；更具体地说，涉及含锂的阳极、包含上述含锂电极的诸如二次电池的高性能电化学装置及其制造方法相关。在一实施方式中，提供可重复充电电池。可充电电池包括阴极膜、隔膜、固体电解质界面膜、被耦接至该固体电解质界...

本文提供处理配件及包含此处理配件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，处理配件包括沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置为搁置在所述基板...

描述了包括在基板表面的至少一个特征上形成膜的方法。所述膜被膨胀以填充所述至少一个特征并造成所述膜从至少一个特征的生长。也描述了形成自我对准通孔的方法。

基板支撑件包括包含顶表面和底表面的板，其中所述顶表面支撑基板。所述板进一步包括电极、一个或多个电阻加热元件、第一多个通道和所述第一多个通道中的多个光纤，其中所述多个光纤可从所述基板支撑件移除。

提供了一种适于处理多个基板的用于处理系统的传送腔室及其使用方法。所述传送腔室包括：盖；底部，与所述盖相对地设置；多个侧壁，将所述盖密封地耦接到所述底部并限定内部容积，其中所述多个侧壁形成十二边形的面。开口形成在所述面中的每个面中，其中所...

本文提供固化聚酰亚胺以调整热膨胀系数的方法。一些实施方式中，于基板上固化聚合物层的方法包括：(a)施加可变频率的微波能量至该基板，以将该聚合物层及该基板加热至第一温度；和(b)调整该可变频率的微波能量，以将该聚合物层及该基板的温度增加至...

本文提供了用于化学蚀刻硅的改进方法。在一些实施例中，蚀刻硅材料的方法包括以下步骤：(a)将硅材料暴露于含卤素气体；(b)从半导体处理腔室排出含卤素气体；(c)将硅材料暴露于胺蒸气以蚀刻硅材料的单层；(d)从半导体处理腔室排出胺蒸气；(e...

提供了一种用于加热的基板支撑基座的方法及装置。在一个实施例中，该加热的基板支撑基座包括：主体，包括陶瓷材料；多个加热元件，封装在该主体内。柱耦合至该主体的底面。多个加热器元件、顶电极及屏蔽电极安置在该主体内。该顶电极安置在该主体的顶面附...

根据本公开内容的一个方面，提供一种溅射沉积源(100)，所述溅射沉积源(100)具有至少一个电极组件(120)，所述至少一个电极组件(120)经构造以用于双侧溅射沉积。所述电极组件(120)包括：阴极(125)，用于提供待沉积的靶材材料...

本文描述自适应背光模块及用于生产自适应背光模块的方法及系统。在一个示例中，自适应背光模块包含：光源；偏光器；至少一个增强膜，所述增强膜设置于所述光源与所述偏光器之间；及扩散器，所述扩散器设置于所述光源与所述增强膜之间。所述扩散器包含第一...

根据本公开内容的一个方面，提供了一种制造多层膜结构(100)的方法，所述多层膜结构(100)被构造为贴附到支撑元件。所述方法包含：提供具有第一主表面(112)和第二主表面(114)的柔性基板(110)，其中所述第一主表面是自粘合的；以及...

本发明涉及用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法。一种制造制品的方法包括提供用于蚀刻反应器的环。随后，执行离子辅助沉积(IAD)以在环的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是抗等离子体的稀土氧化物膜，所述抗等离子体的稀土氧化物膜具有小...

本实用新型描述了图像投影装置和系统。本实用新型的实施方式总体涉及用于执行光刻工艺的装置和系统。更具体地，提供用于将图像投影到基板上的紧凑装置。在一个实施方式中，图像投影装置包括耦接到第一安装板的光导管，以及耦接到第二安装板的受抑棱镜组件...

在一个示例中，一种分选单元包括分选系统和多个料箱，基板分选到所述料箱中。分选单元包括料箱搬运装置，料箱搬运装置具有用于接收多个料箱中的一个料箱的第一终端受动器和用于将空的料箱安置于所接收的料箱的先前位置中的第二终端受动器。在一个示例中，...

叙述一种用于处理基板的设备(100)。该设备包含第一真空处理装置(101)、第二真空处理装置(102)、和支撑结构(103)，该支撑结构(103)配置在第一真空处理装置(101)和第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。

提供一种脉冲直流电源供应器。脉冲直流电源供应器被配置为提供单极脉冲直流电源。脉冲直流电源供应器包括脉冲单元，脉冲单元用于交替地在脉冲直流电源供应器的单极脉冲周期的开启周期期间设定标称开启周期直流电压以及在关闭周期期间设定标称关闭周期电压...

在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的...

说明了一种用于溅射沉积的沉积源和一种真空沉积设备。沉积源包括：阴极(130,230)，用于提供待沉积的靶材料；至少一个阳极组件(110,210)，至少具有第一阳极区段(111,211)和第二阳极区段(112,212)，第一阳极区段面对阴...

一种掩模组件(100)包括：掩模框(102)及掩模屏(104)，该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成；及金属涂层(105)，该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。