用于处理基板的设备、处理系统和方法技术方案

叙述一种用于处理基板的设备(100)。该设备包含第一真空处理装置(101)、第二真空处理装置(102)、和支撑结构(103)，该支撑结构(103)配置在第一真空处理装置(101)和第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。

Equipment, Processing System and Method for Processing Substrates

A device (100) for processing a substrate is described. The device comprises a first vacuum processing device (101), a second vacuum processing device (102) and a support structure (103), which is arranged in the atmospheric space (108) between the first vacuum processing device (101) and the second vacuum processing device (102).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理基板的设备、处理系统和方法
本公开内容的实施方式涉及用于处理基板的设备、用于处理基板的处理系统、和用于保养设备的方法。本公开内容的实施方式特别是涉及用于处理二或更多个基板的真空处理设备，例如用于显示器制造，涉及配置成用于基板的真空处理以制造显示器装置的处理系统，和涉及用于从提供在两个真空处理装置(processingarrangement)之间的大气空间保养真空处理设备的方法。
技术介绍
用于基板上的层沉积的技术，例如包含溅射沉积、热蒸镀、和化学气相沉积。溅射沉积工艺能用于在基板上沉积材料层，例如导电材料或绝缘材料的层。在溅射沉积工艺期间，具有待沉积在基板上的靶材料的靶受到在等离子体区中产生的离子轰击，以从靶的表面逐出靶材料的原子。被逐出的原子能在基板上形成材料层。在反应性溅射沉积工艺中，被逐出的原子能和等离子体区中的气体如氮或氧反应，以在基板上形成靶材料的氧化物、氮化物、或氮氧化物。经涂布的材料可用在数种应用和数种
中。举例来说，一种应用是在微电子学的领域，例如产生半导体装置。此外，用于显示器的基板经常通过溅射沉积工艺来涂布。另外的应用包含绝缘面板、带有薄膜晶体管(TFT)的基板、彩色滤光片、或类似者。举例来说，在显示器制造中，降低显示器的制造成本是有利的，所述显示器例如用于手机、平板计算机、电视屏幕、和类似者。制造成本的降低，能例如通过增加真空处理系统如溅射沉积系统的产量来实现。另外，占地能是降低持有真空处理系统的成本的相关因素。考虑到上述情况，克服至少一些
中的问题的设备、系统、和方法是有利的。本公开内容特别是致力于提出提供用于增加产量、降低真空处理系统的占地、以及降低操作、维护、和制造成本之中的至少一者的设备、系统、和方法。
技术实现思路
鉴于上述情况，提供用于处理基板的设备、用于处理基板的处理系统、和用于保养设备的方法。本公开内容另外的方面、优点、和特征从权利要求书、说明书、和所附附图而明朗。根据本公开内容的一个方面，提供一种用于处理基板的设备。该设备包含第一真空处理装置、第二真空处理装置、和支撑结构。支撑结构配置在第一真空处理装置和第二真空处理装置之间的大气空间中。根据本公开内容的另一个方面，提供一种用于处理基板的设备。该设备包含第一真空处理装置、第二真空处理装置、和支撑结构。支撑结构配置在第一真空处理装置和第二真空处理装置之间的大气空间中。另外，支撑结构包含基座架结构，该基座架结构支撑第一真空处理装置的第一真空腔室的第一底壁。此外，支撑结构的基座架结构支撑第二真空处理装置的第二真空腔室的第二底壁。另外，支撑结构包含强化架结构，该强化架结构连接至第一真空腔室的第一背壁，并连接至第二真空腔室的第二背壁。第一真空腔室相对于第二真空腔室配置。根据本公开内容的又另一个方面，提供一种用于处理基板的处理系统。该处理系统包含根据任何叙述于此的实施方式的用于处理基板的设备。另外，该处理系统包含基板装载模块，该基板装载模块用于将基板装载至用于处理基板的该设备中。基板装载模块包含固持装置和摆动模块，固持装置用于固持基板，摆动模块用于在水平定向和垂直定向之间改变基板定向。根据本公开内容的再一个方面，提供一种用于保养用在处理基板的设备的方法，该设备包含第一真空处理装置和第二真空处理装置，第一真空处理装置和第二真空处理装置由共享的支撑结构所支撑。该方法从提供在支撑结构的基座架结构上方的大气空间保养第一真空处理装置和/或第二真空处理装置。实施方式也涉及用于进行所公开的方法的设备，并包含用于执行各个所述方法方面的设备部分。这些方法方面可通过硬件部件、以适当软件编程的计算机、通过二者的任意组合、或以任何其他方式来执行。再者，根据本公开内容的实施方式也涉及用于操作所述设备的方法。用于操作所述设备的方法包含用于进行设备的每个功能的方法方面。附图说明为了能理解本公开内容上述特征的细节，可通过参照实施方式来得到对于简单总括于上的公开内容更详细的叙述。所附附图涉及本公开内容的实施方式，并如下所述：图1示出根据叙述于此的实施方式的用于处理基板的设备的侧视示意图。图2A-2C示出根据另外的叙述于此的实施方式的用于处理基板的设备的俯视示意图。图3A示出根据叙述于此的实施方式的处理系统的透视示意图。图3B示出根据叙述于此的实施方式的处理系统的俯视示意图。图4示出用于阐明根据叙述于此的实施方式的用于保养用在处理基板的设备的方法的流程图。具体实施方式现在将对于本公开内容的各种不同的实施方式进行详细说明，其一或多个示例于附图中阐明。在以下对于附图的叙述中，相同的附图标记指示相同的部件。只对于个别实施方式的不同之处进行叙述。各个示例以解释本公开内容的方式来提供，而非意味作为本公开内容的限制。另外，作为一个实施方式的一部分而被阐明或叙述的特征，能被用在或结合任一其他实施方式，以产生又另一实施方式。叙述内容意欲包含这类修改和变化。在详细叙述本公开内容各种不同的实施方式之前，先解释关于使用于此的一些用词和表达的一些方面。在本公开内容中，“用于处理基板的设备”能被理解成如叙述于此的配置成用于处理基板的设备。特别是，用于处理基板的设备能配置成用于处理垂直基板，例如用于显示器制造。更特别地，用于处理基板的设备能配置成用于处理大面积基板，例如通过在真空沉积腔室中于基板上沉积一或多个层。另外，应该注意的是在本公开内容中，“用于处理基板的设备”也可被称为“处理设备”。在本公开内容中，如使用于此的用词“基板”或“大面积基板”，应特别囊括非柔性基板，例如玻璃板和金属板。然而，本公开内容不受限于此，用词“基板”也能囊括柔性基板，例如卷材或箔。根据一些实施方式，基板能由任何适合用于材料沉积的材料制成。举例来说，基板能由选自于由下列选项构成的群组的材料制成：玻璃(例如钠钙玻璃、硼硅玻璃等等)、金属、聚合物、陶瓷、化合物材料、碳纤维材料、云母、或任何其他能由沉积工艺涂布的材料或材料的组合。举例来说，如叙述于此的“大面积基板”能具有至少0.01平方米的尺寸，特别是至少0.1平方米，更特别是至少0.5平方米。举例来说，大面积基板或载具能为对应至约0.67平方米的基板(0.73米×0.92米)的第4.5代、对应至约1.4平方米的基板(1.1米×1.3米)的第5代、对应至约4.29平方米的基板(1.95米×2.2米)的第7.5代、对应至约5.7平方米的基板(2.2米×2.5米)的第8.5代、或甚至对应至约8.7平方米的基板(2.85米×3.05米)的第10代。更大的代如第11代和第12代以及对应的基板面积能以类似的方式实施。因此，基板能选自于由下列选项构成的群组：第1代、第2代、第3代、第3.5代、第4代、第4.5代、第5代、第6代、第7代、第7.5代、第8代、第8.5代、第10代、第11代、和第12代。特别是，基板能选自于由下列选项构成的群组：第4.5代、第5代、第7.5代、第8.5代、第10代、第11代、和第12代、或更大的代的基板。另外，基板厚度能从0.1至1.8毫米(mm)，特别是约0.9毫米或更低，例如0.7毫米或0.5毫米。在本公开内容中，“真空处理装置”能被理解成具有一或多个真空腔室的处理装置。“真空腔室”能被理解成具有用于产生技术真空(t本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板的设备(100)，包括：第一真空处理装置(101)；第二真空处理装置(102)；和支撑结构(103)，配置在所述第一真空处理装置(101)和所述第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于处理基板的设备(100)，包括：第一真空处理装置(101)；第二真空处理装置(102)；和支撑结构(103)，配置在所述第一真空处理装置(101)和所述第二真空处理装置(102)之间的大气空间(108)中。2.权利要求1所述的设备(100)，其中所述支撑结构(103)连接至所述第一真空处理装置(101)的第一壁(104)，并连接至所述第二真空处理装置(102)的第二壁(105)，其中所述第二壁(105)面向所述第一壁(104)。3.权利要求1或2所述的设备(100)，其中所述第一真空处理装置(101)为第一串联式处理装置，且其中所述第二真空处理装置(102)为第二串联式处理装置。4.权利要求1至3中任一项所述的设备(100)，其中所述第一真空处理装置(101)为第一垂直处理装置，且其中所述第二真空处理装置(102)为第二垂直处理装置。5.权利要求1至4中任一项所述的设备(100)，其中所述支撑结构(103)包括基座架结构(106)，所述基座架结构(106)支撑所述第一真空处理装置(101)的第一底壁(104B)，并支撑所述第二真空处理装置(102)的第二底壁(105B)。6.权利要求1至5中任一项所述的设备(100)，其中所述支撑结构(103)包括强化架结构(107)，所述强化架结构(107)连接至所述第一真空处理装置(101)的第一背壁(104A)，并连接至所述第二真空处理装置(102)的第二背壁(105A)。7.权利要求5和6所述的设备(100)，其中所述强化架结构(107)连接至基座架结构(106)。8.权利要求1至7中任一项所述的设备(100)，其中所述第一真空处理装置(101)和所述第二真空处理装置(102)之间的所述大气空间(108)提供保养区，所述保养区用于提供对所述第一真空处理装置(101)的第一背侧的进出和对所述第二真空处理装置(102)的第二背侧的进出。9.权利要求1至8中任一项所述的设备(100)，其中所述支撑结构(103)连接至所述第一真空处理装置(101)的第一真空腔室(110)，并连接至所述第二真空处理装置(102)的第二真空腔室(120)，其中所述第一真空腔室(110)相对于所述第二真空腔室(120)配置。10...

【专利技术属性】
技术研发人员：约翰·M·怀特，岭·灿，拉尔夫·林登贝格，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US