半导体系统及方法可包括具有气箱的半导体处理腔室，此气箱限定了至此半导体处理腔室的入口。此腔室可包括间隔件，该间隔件由与气箱耦接的第一表面表征，及此间隔件可限定在第一表面的内部部分上的凹进壁架。此腔室可包括安装在凹进壁架上的支架，该凹进壁...

一种研磨模块包含：夹具，所述夹具具有基板接收表面和；以及一个或更多个研磨垫组件，所述一个或更多个研磨垫组件绕着所述夹具的所述周边定位，其中所述一个或更多个研磨垫组件的每一个耦合至致动器，所述致动器提供相应的研磨垫组件相对于所述基板接收表...

于此所公开的实施例通常关于用于提供处理气体到半导体处理腔室中的改进的均匀分配的气体分配组件。气体分配组件包括气体分配板、区隔板和双区喷头。气体分配组件提供独立的中心到边缘的流动地带性、独立的两种前驱物输送、经由混合歧管的两种前驱物混合及...

本文公开的实施方式涉及一种处理腔室，所述处理腔室中设置有透镜。在一个实施方式中，所述处理腔室包括：腔室主体、基板支撑组件、光源、和透镜。所述腔室主体限定所述处理腔室的内部容积。所述内部容积具有第一区域和第二区域。所述基板支撑组件设置在所...

于此披露的实施方式包括等离子体减量工艺，其从处理腔室取出流出物并藉由将水蒸气反应物注入到前级管线或等离子体源中而将流出物与放置在前级管线中的等离子体源内的水蒸气反应物反应。存在于流出物中的材料以及水蒸气反应物藉由等离子体源而激发，将材料...

本公开内容提供用于清洁在制造OLED装置中使用的的真空系统的方法(100)。此方法(100)包括执行预清洁以清洁真空系统的至少一部分，和使用远程等离子体源执行等离子体清洁。

描述一种用于在基板上沉积一种或多种材料的真空系统(100)。真空系统(100)包括：第一运输系统(110)，经配置以在主要运输方向(P)上沿着主要运输路径(101)运输基板(10)；和至少一个沉积模块(104)，在相对于主要运输方向(P...

提供一种用于非接触式运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以...

本公开内容提供了一种用于清洁真空腔室(210)的方法(100)。所述方法(100)包括降低所述真空腔室(210)中的压力，以蒸发容纳在所述真空腔室(210)中的溶剂的至少一部分。

描述一种用于在基板上沉积多个材料的真空系统(100)。真空系统包括多个沉积模块(110)，多个沉积模块(110)沿着主传送方向(P)布置并且包括沉积源(105)，沉积源(105)在主传送方向(P)中是可移动的；和传送系统，具有多个轨道(...

提供用于沉积源的无接触传输的设备。该设备包含沉积源组件。沉积源组件包含沉积源。沉积源组件包含第一主动磁性单元。该设备包含在源传输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿着引导结构为可移动的。第一主动磁性单元及引导结构被配置为提供第一磁性悬浮力...

提供一种用于在真空中连续处理柔性基板的设备(100)。所述设备包括处理辊(110)；具有在处理辊(110)的轴方向中延伸的刮刀(121)的刮刀组件(120)；和经配置而用于使刮刀组件(120)朝向处理辊(110)的表面(111)移动的力...

一种机械手子组件包括陶瓷或玻璃终端受动器的横摆、纵倾和/或垂直方位的调整能力。所述机械手子组件包括机械手部件、耦接至机械手部件的安装板、及耦接至安装板的易碎陶瓷或玻璃终端受动器，其中安装板包括相对于机械手部件的可调整方位。揭露调整机械手...

本公开内容涉及用于高纵横比共形自由基氧化的蒸汽氧化反应，基板氧化组件包括：界定处理容积的腔室主体；设置在处理容积中的基板支撑件；耦接到处理容积的等离子体源；流动耦接到处理容积的蒸汽源；和基板加热器。半导体器件包括含硅和氮层；在含硅和氮层...

描述利用物理气相沉积(PVD)形成的氮化铝缓冲层来制造氮化镓基发光装置。亦描述用于PVD AlN缓冲层的工艺条件。亦描述用于PVD氮化铝缓冲层的基板预处理。在一实例中，制造缓冲层于基板上的方法包含预处理基板表面。所述方法亦包含随后利用氮...

本公开内容的实施方式总体提供形成可用作具有高介电常数以及高膜品质的电容器层或栅极绝缘层的混合膜堆叠的方法，以供显示应用。在一个实施方式中，一种薄膜晶体管结构包括形成在基板上的栅极电极、源极电极和漏极电极，和形成在基板上的绝缘层，其中所述...

本公开内容的实施方式总体提供一种形成具有高介电常数以及低膜电流泄漏和期望的膜质量的电容器层或栅极绝缘层以供显示器应用的方法。在一个实施方式中，一种薄膜晶体管结构包括：介电层，在基板上形成，其中介电层是包含铝的含锆材料；和栅极电极、源极电...

本公开内容的实施方式一般涉及用于执行光刻工艺的设备和系统。更具体地，提供用于将图像投影到基板上的紧凑照射工具。在一个实施方式中，一种照射工具包括微LED阵列，所述微LED阵列包括一个或多个微LED。每个微LED产生至少一个光束。所述照射...

描述了一种用于处理基板的设备。更具体地，本公开内容的实施方式涉及一种用于在处理期间使用湍流加热和冷却基板的改进的基板支撑件。通过在通道内产生湍流，在较短的时间段内传递更大量的热。本设计是具有成本效益的并有利地提供温度传递的更均匀的分布。...

本发明的实施例提供了用于改进的基板运送组件的系统、设备及方法。实施例包括一对致动臂；一对基板撷取尖端，每个撷取尖端形成在每个致动臂的不同远端中；致动器，该致动器耦合到致动臂的近端并且可经操作以致动该致动臂；以及硬停器(hard stop...