具有抗等离子体涂层的阴影掩模制造技术

技术编号:20123051 阅读:55 留言:0更新日期:2019-01-16 12:59
一种掩模组件(100)包括:掩模框(102)及掩模屏(104),该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成;及金属涂层(105),该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。

Shadow mask with anti-plasma coating

A mask assembly (100) includes a mask frame (102) and a mask screen (104), both of which are made of metal materials, and a metal coating (105), which is placed on one or both of the mask frame (102) and the mask screen (104) exposed surfaces.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有抗等离子体涂层的阴影掩模背景
本公开内容的实施方式涉及在沉积工艺中使用的的阴影掩模,诸如在制造电子设备时所使用的化学气相沉积(CVD)工艺的阴影掩模。尤其是,本公开内容的实施方式涉及用于制造有机发光二极管(OLED)显示设备时所使用的封装工艺的阴影掩模。
技术介绍
OLED用于制造用于显示信息的电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持式设备等等。典型的OLED可包括位在两个电极之间的有机材料层,这些有机材料层都以形成具有可独立通电的像素的矩阵显示面板的方式沉积在基板上。OLED一般放置在两个玻璃面板之间,且玻璃面板的边缘被密封以将OLED封装在其中。制造此种显示设备时遭遇诸多挑战。在某些制造步骤中,OLED材料被封装在一或多个层中以防止湿气损伤OLED材料。在这些工艺期间,一或多个掩模用以遮蔽不包括OLED材料的基板的数个部分。用于这些工艺的掩模必须忍受显著的温差。温度的极端值造成掩模的热膨胀与收缩,此可能导致掩模的破裂、弯曲或断裂,其中的任一者皆可能造成基板的数个部分的污染。此外,这些工艺中的一些利用可能以产生微粒的方式与掩模材料进行反应的等离子体,这些微粒可能造成基板的部分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模组件,包括:掩模框及掩模屏,所述掩模框及所述掩模屏两者以金属材料制成;及金属涂层,安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种掩模组件,包括:掩模框及掩模屏,所述掩模框及所述掩模屏两者以金属材料制成;及金属涂层,安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。2.如权利要求1所述的掩模组件,其中所述金属材料包括镍:铁合金。3.如权利要求2所述的掩模组件,其中所述金属涂层包括镍材料。4.如权利要求2所述的掩模组件,其中所述金属涂层包括选自铂族元素的金属。5.如权利要求2所述的掩模组件,其中所述金属涂层选自由镍合金、钌、铑、钯及金所组成的群组。6.如权利要求1所述的掩模组件,其中所述金属涂层包括约1微米至约35微米的厚度。7.如权利要求1所述的掩模组件,其中所述金属材料包括具有低热膨胀系数的金属。8.如权利要求7所述的掩模组件,其中所述金属涂层包括镍材料。9.如权利要求7所述的掩模组件,其中所述金属涂层包括选自铂族元素的金属。...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄曦彭飞基兰·克里希纳布尔瑞平·王伊恩·杰里·陈史蒂文·韦尔韦贝克罗伯特·简·维瑟
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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