本发明涉及盐化合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中不损及感度且CDU、LWR等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、使用于其中的酸扩散抑制剂、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为提供下...

本发明涉及一种制备3,7

组合物的制造方法，其是包含有机硅化合物(A)和(B)的组合物的制造方法，其中，在120℃以下使由式(3)所示的有机硅化合物、由式(4)所示的碱金属氰酸盐、和由式(5)所示的酰胺化合物反应以制造由式(1)所示的有机硅化合物(A)，从而以包...

本发明为一种混炼型硅橡胶组合物，其特征在于，含有：100质量份的(A)有机聚硅氧烷，其作为杂质所包含的聚合度为10以下的低分子硅氧烷的含量小于1,000ppm，聚合度为100以上且由下述平均组成式(1)表示；5～100质量份的(B)处理...

本发明的光掩模坯料具有基板以及由含铬材料构成的多层膜。所述多层膜从远离所述基板的一侧开始具有第一层、第二层及第三层。所述第以一层含有铬、氧、氮和碳，其中铬含有率为43原子％以下，氧含有率为32原子％以上，氮含有率为25原子％以下，碳含量...

含有(A)式(1)所示的聚合物[X为由式(2)所示的基团，Y为由式(3)～(5)中的任一个所示的基团，Y为由式(6)或(7)所示的基团，m为0～12的整数。]、(B)由式(10)所示的其中烯基含量为0.2mol/100g以上的有机聚硅氧...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其能形成具有极高分辨率，LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含基础聚合物，该基...

本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，其能形成具有极高分辨率，LER小而矩形性优异且能形成显影负载的影响受抑制的图案的抗蚀剂膜。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含基础聚合物，该基...

本发明提出下述方法及装置，即：针对排列于第一基板上的元件，一边修正其位置偏移一边使用激光向第二基板移载。获取第一基板上的元件的实际位置信息，按照基于可容许的位置偏移量所决定的基准进行分组，以各组为单位，以元件的位置限制于可容许的位置偏移...

本发明是一种发光二极管供给基板的制造方法，该发光二极管供给基板用于转移多个发光二极管，其特征在于，包括：第一搭载工序，在供给基板上搭载多个发光二极管；选择去除工序，选择性去除所述供给基板上的不良发光二极管；以及第二搭载工序，将正常发光二...

本发明涉及全氟聚醚系的粘接剂组合物，其含有：(A)在1分子中具有2个以上的烯基、数均分子量为2000以上、在150℃下加热1小时时的质量减少率为1％以下的直链状全氟聚醚化合物；(B)具有1个以上含氟有机基团、不含环氧基及三烷氧基甲硅烷基...

本发明涉及密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是提供：如下的密合膜的密合膜形成材料，该密合膜在半导体装置制造步骤中利用多层抗蚀剂法所为的微细图案化制程中，具有和抗蚀剂上层膜的高密合性且具有抑制微细图案的崩塌的效...

本发明提供了用于在微流路装置中使用的合成石英玻璃基板、合成石英玻璃微流路装置及其制造方法，在制造微流路装置时可将通过光学接触的接合应用于该微流路装置，并且其在接合界面中具有高黏着性，并且不会导致例如未结合和基板的破损的缺陷以及气泡夹在接...

本发明涉及紫外线发光元件用外延晶圆，其具有：耐热性的第一支撑基板；至少设置于所述第一支撑基板的上表面且厚度为0.5～3μm的平坦层；通过贴合而接合于该平坦层的上表面且厚度为0.1～1.5μm的III族氮化物单晶的晶种层；及，在该晶种层上...

本发明提供一种能够进行喷墨喷射并能够赋予具有优异的橡胶物性的固化物的紫外线固化性有机硅组合物。所述紫外线固化性有机硅组合物包括：(A)以下述通式(1)表示的单末端聚合性有机聚硅氧烷，(在通式(1)中，R1～R5分别独立地为碳原子数为1～...

本发明的目的在于提供一种激光热转印膜，其通过将膨胀率大的双马来酰亚胺树脂用于粘结剂从而改善了转印特性。所述激光热转印膜依次层叠有基材膜、光热转换层、粘着层，所述光热转换层在常温下为固体且含有通式(1)表示的红外线吸收剂与通式(3)表示的...

提供：一种粘着剂，其基本上不包含表面改性剂，并且在薄膜组件分离后留下较少的残留物；一种薄膜组件；以及一种选择留下较少残留物的粘着剂的方法。更具体地说，提供：一种薄膜组件用粘着剂，该粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为一种薄膜组件，其包括薄膜...

含有(A)由式(1)表示的聚合物[式中，X各自独立地为由式(2)表示的2价基团，Y各自独立地为由式(3)～(5)中的任一个表示的1价基团，Y

本发明提供一种向载体基板的移载方法，用于显示器的像素间距并非排列于蓝宝石基板上的光器件的间距的整数倍的情况。根据形成于蓝宝石基板上的光器件(2)的排列间距(3、4)、及计划向载体基板(6)上移载的光器件的排列间距(5、7)，决定供体基板...

本发明的目的在于提供一种导电性高分子组合物，其能够适宜地用于过滤性及在电子束抗蚀剂上的平坦膜成膜性良好，并且在电子束描绘工序中也显示优良的抗静电性能，且将因该膜扩散的酸的影响降至最低限度，剥离性也优异的电子束抗蚀剂描绘用抗静电膜。所述导...