提供一种具有高分散性、高降解性的包含聚硅氧烷结构的橡胶粒子、复合粒子及其制造方法。所述橡胶粒子为包含含有聚酯结构和有机聚硅氧烷结构的共聚物的橡胶粒子，该共聚物为(A)一分子中具有至少2个脂肪族不饱和基团的聚酯和(B)一分子中具有至少2个...

本发明涉及一种成膜方法，其为对经雾化的原料溶液进行热处理而进行成膜的成膜方法，其特征在于，将金属镓溶解于含有氢溴酸及氢碘酸中的至少一种的酸性溶液中，制备金属杂质的浓度小于2％的所述原料溶液，将该原料溶液雾化并进行成膜。由此，能够提供一种...

本发明为一种半导体层叠体，其至少包括基体、缓冲层及至少包含一种金属元素的具有刚玉结构的结晶性金属氧化物半导体膜，所述半导体层叠体在所述基体的主表面上直接或隔着其他层具有所述缓冲层、在所述缓冲层上具有所述结晶性金属氧化物半导体膜，所述半导...

本发明涉及热固性树脂组合物，其特征在于，其含有：(A)热固性树脂、(B)激光直接成型添加剂、(C)无机填充材料及(D)偶联剂，所述(D)偶联剂含有选自由三嗪官能团型、异氰酸酯官能团型、异氰脲酸官能团型、苯并三唑官能团型、酸酐官能团型、氮...

本发明提供一种荧光体颗粒，其包含Mn掺杂的复合氟化物红色荧光体颗粒和附着在每个红色荧光体颗粒表面上的无机微粒。含Mn掺杂的复合氟化物红色荧光体的荧光体颗粒在相互粘合和聚集方面受到抑制，在与硅树脂或环氧树脂混合期间流动良好，并且具有优异的...

本发明涉及反射型掩模坯料和反射型掩模。所述反射型掩模坯料，包括基板、在所述基板的一个主表面上形成并反射曝光光的多层反射膜。所述多层反射膜具有在其中交替层叠低折射率层和高折射率层的周期性层叠结构部，并且所述低折射率层中的至少一个具有两层结...

本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显...

本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制，具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有末...

本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法以及有机膜形成用化合物及聚合物。该课题的解决手段为一种有机膜形成用组成物，其特征为含有：下述通式(I)及/或通式(II)表示的有机膜形成材料、及有机溶剂。式中，R1、R4为氢原子、烯丙基、或炔丙...

本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制，具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有末...

本发明涉及一种抗硫化涂布材料，其特征在于，其含有：(A)下述通式(1)表示的直链状有机聚硅氧烷；(B)一分子中具有2个以上键合于硅原子的氢原子的有机氢聚硅氧烷；(C)选自晶体二氧化硅及滑石中的1种以上；(D)一分子中具有1个以上的苯基且...

本发明涉及激光损伤阈值高的顺磁性石榴石型透明陶瓷，其为由下述式(1)表示的含有Tb的稀土铝石榴石的烧结体，其特征在于，平均烧结粒径为10μm以上且40μm以下，在长度20mm的试样的长度方向上光学有效区域内的波长1064nm的插入损耗为...

本发明涉及用于光学元件的窗材料、用于光学元件封装的盖、光学元件封装和光学装置。本发明的用于光学元件的窗材料由合成石英玻璃形成，所述合成石英玻璃能够经受成型加工，可以以低成本制造和具有平板形状。即使所述用于光学元件的窗材料具有平板形状，例...

本发明涉及抑制半导体基板图案崩塌用的填充膜形成材料及半导体基板的处理方法。一种抑制半导体基板图案崩塌用的填充膜形成材料，其特征为：含有(A)具有下列通式(1)表示的结构单元的聚合物、(B)含有下列通式(2)表示的化合物的残留溶剂脱离促进...

本发明提供一种比以往光催化活性高的氧化钛粒子、及其分散液、使用所述分散液所形成的光催化剂薄膜、在表面上具有光催化剂薄膜的构件和氧化钛粒子分散液的制造方法。其中，所述氧化钛粒子为在其表面上附着有钛成分和硅成分，且钛成分与氧化钛的摩尔比(T...

本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。本发明提供具有优良的填埋特性、密合性、及良好的平坦化特性的抗蚀剂下层膜材料、使用此材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜的形成方法。一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使...

一种具有磁体结合表面的音圈马达磁轭包括在磁体结合表面上的结合区域内的环形槽，该结合区域具有与要结合在磁轭的磁体结合表面上的磁体的轮廓基本相同的形状。由磁体结合面上的环形槽包围的区域是粘合剂施加区域。一种音圈马达，包括：一对音圈马达磁轭；...

有机硅乳液组合物，其含有(A)由下述平均组成式(1)所表示、25℃下的粘度为5～50000mPa

本发明提供：在以Nd2Fe

本发明涉及分子抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，感度、解析性及LWR优良的分子抗蚀剂组成物、以及使用该分子抗蚀剂组成物的图案形成方法。解决手段是一种分子抗蚀剂组成物，含有下式(1)或(2)表示的锍...