光器件的激光诱导向前转移方法及其装置、移设有光器件的受体基板的制造方法、以及显示器的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种向载体基板的移载方法，用于显示器的像素间距并非排列于蓝宝石基板上的光器件的间距的整数倍的情况。根据形成于蓝宝石基板上的光器件(2)的排列间距(3、4)、及计划向载体基板(6)上移载的光器件的排列间距(5、7)，决定供体基板与受体基板的移动速度之比，与所述供体基板的移动同步地进行激光诱导向前转移，即激光转印，由此将蓝宝石基板上的光器件以与显示器的像素间距相同的排列间距向载体基板移载。向载体基板移载。向载体基板移载。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】Transfer，LIFT)，且包括：获取形成于蓝宝石基板上的光器件的排列的基准位置D及排列间距DP的工序；获取计划通过激光诱导向前转移向载体基板上移载的所述光器件的排列的基准位置R及排列间距RP的工序；基于基准位置D及基准位置R，使蓝宝石基板与载体基板相向，以从光器件的表面到载体基板的距离成为规定值的方式，调整蓝宝石基板及载体基板的任一者或两者的位置的工序；根据排列间距DP及排列间距RP来算出蓝宝石基板与载体基板的扫描速度比VR的工序；在蓝宝石基板与光器件的边界面，从蓝宝石基板的背面侧向排成一列的多个光器件照射激光的工序；基于基准位置D及基准位置R，使蓝宝石基板与载体基板的水平面内的相对位置一致，使蓝宝石基板及载体基板以所述速度比VR进行扫描动作的工序；以及与扫描动作连动地照射激光，进行激光诱导向前转移的工序。此处，关于“光器件”，只要可利用所述各工序，则包含激光二极管或光电二极管。
[0017]第二专利技术为第一专利技术的激光诱导向前转移方法，其中，所述排列间距DP是由X方向的排列间距DX、及Y方向的排列间距DY所构成，所述排列间距RP是由X方向的排列间距RX、及Y方向的排列间距RY所构成，所述速度比VR是由根据排列间距DX和排列间距RX所算出的X方向的速度比VRX、及根据排列间距DY和排列间距RY所算出的Y方向的速度比VRY所构成，所述激光诱导向前转移方法还包括下述工序：以速度比VRY将蓝宝石基板上的光器件向载体基板进行激光诱导向前转移后，代替蓝宝石基板而将所述载体基板作为供体基板，相对于扫描方向在水平面旋转90度进行安装，以速度比VRX向第二载体基板进行激光诱导向前转移。
[0018]第三专利技术为第二专利技术的激光诱导向前转移方法，其中，所述激光的照射为使用光掩模的缩小投影，所述光掩模具有：第一开口部，为在Y方向与大致一个光器件对应且在X方向以排列间距DX与两个以上的光器件对应的开口；以及第二开口部，为在X方向与大致一个光器件对应且在Y方向以排列间距RY与两个以上的光器件对应的开口，所述激光诱导向前转移方法还包括下述工序：在以速度比VRY进行激光诱导向前转移的情况下，以使用第一开口部的方式切换掩模，在以速度比VRX进行激光诱导向前转移的情况下，以使用第二开口部的方式切换掩模。
[0019]第四专利技术为第三专利技术的激光诱导向前转移方法，其中，所述光掩模的开口部为对各光器件以大致光器件的形状进行照射的开口群。
[0020]第五专利技术为一种激光诱导向前转移装置，将作为供体基板的蓝宝石基板上的光器件向作为受体基板的载体基板进行激光诱导向前转移，且包括：第一处理部，获取形成于蓝宝石基板上的光器件的排列的基准位置D及排列间距DP；第二处理部，获取计划通过激光诱导向前转移向载体基板上移载的所述光器件的排列的基准位置R及排列间距RP；平台及平台控制器，基于基准位置D及基准位置R，使蓝宝石基板与载体基板相向，以从光器件的表面到载体基板的距离成为规定值的方式，调整蓝宝石基板及载体基板中的任一者或两者的位置；第三处理部，根据排列间距DP及排列间距RP来算出蓝宝石基板与载体基板的扫描速度比VR；缩小投影光学系统，在蓝宝石基板与光器件的边界面，从蓝宝石基板的背面侧向排成一列的多个光器件照射激光；平台及平台控制器，基于基准位置D及基准位置R，使蓝宝石基板与载体基板的水平面内的相对位置一致，使蓝宝石基板及载体基板以所述速度比VR进行扫描动作；以及激光装置，与所述扫描动作连动地照射激光。
[0021]第六专利技术为一种激光诱导向前转移方法，将作为供体基板的蓝宝石基板上的微小元件向具有粘接层的受体基板进行激光诱导向前转移，且包括：获取排列于供体基板上的
微小元件的三维尺寸、所述排列的基准位置D及排列间距DP的工序；获取计划通过激光诱导向前转移向受体基板上封装的所述微小元件的排列的基准位置R及排列间距RP的工序；基于基准位置D及基准位置R，使供体基板与受体基板相向，测定其基板间隔，以从微小元件的下表面到受体基板的距离成为规定值的方式，调整供体基板及受体基板中的任一者或两者的位置的工序；以及使供体基板与受体基板的水平面内的相对位置一致，在供体基板与微小元件的边界面，从供体基板的背面侧进行激光的缩小投影的工序，且进行所述缩小投影的激光为KrF准分子激光，其照射能量密度为0.5J/cm2～2J/cm2，填满所述基板间隔的气体环境的密度为1kg/m3～2kg/m3，所述粘接层的硬度为20～50(日本工业标准(Japanese Industrial Standards，JIS)A型)且厚度为5μm以上，所述规定值处于10μm～200μm的各范围。
[0022]专利技术的效果
[0023]由此，有下述效果，即：即便在显示器的像素间距不满足光器件的间距的整数倍的情况下，也可进行使用压印方式的高速封装。
附图说明
[0024][图1]为作为供体基板的蓝宝石基板上的微LED的排列的图。
[0025][图2]为光掩模图案的一例。
[0026][图3]为向4英寸(直径)蓝宝石基板的激光照射例。
[0027][图4]为Y方向的激光诱导向前转移后的微LED的排列的图。
[0028][图5]为X方向的激光诱导向前转移前后的微LED的排列的图。
[0029][图6]为封装了红绿蓝(Red Green Blue，RGB)的第二载体基板的图。
具体实施方式
[0030]以下，对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术不限定于以下的实施方式。另外，以下所有的附图中，为了在附图上容易识别各结构元件，适当使各结构元件的尺寸及比率与实际不同。
[0031]本实施方式中，设光器件为GaN(氮化镓)系半导体的发光二极管(Light Emitting Diode，LED)来进行说明。LED的制造公司在蓝宝石基板上形成多数个LED，100μm以下的微LED的情况下，将蓝宝石基板直接供给于使用LED制作显示器的公司(以下记作LED显示器厂商)，或者将通过激光举离进行了移载的载体基板供给于所述公司。
[0032]此处，对从蓝宝石基板开始的处理进行说明。
[0033]4英寸蓝宝石基板的情况下，在基板上形成有几百万个微LED。图1为形成于蓝宝石基板上(1)的微LED(2)的排列的图。LED尺寸成为20μm
×
40μm(X
×
Y)，X方向的排列间距(3)成为30μm，Y方向的排列间距(4)成为60μm。
[0034]本蓝宝石基板为利用本实施方式的激光诱导向前转移方法形成有作为对象的光器件的基板的一例。蓝宝石基板的背面以激光透过的方式经研磨，形成有LED的表面以高亮度化为目的而进行了凹凸加工。
[0035]下述表1中记载显示器的种类与像素间距的关系。21英寸显示器的情况下，像素间距成为所述蓝宝石基板的排列间距的正整数倍，因而仅进行通常的激光举离便可制作适于
压印的载体基板，可进行使用压印的高速封装。
[0036][表1][0037]显示器种类像素间距100英寸(4K)0.577mm1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光诱导向前转移方法，其特征在于，将作为供体基板的蓝宝石基板上的光器件向作为受体基板的载体基板进行激光诱导向前转移，所述激光诱导向前转移方法包括：获取形成于所述蓝宝石基板上的光器件的排列的基准位置D及排列间距DP的工序；获取计划通过所述激光诱导向前转移向所述载体基板上移载的所述光器件的排列的基准位置R及排列间距RP的工序；基于所述基准位置D及所述基准位置R，使所述蓝宝石基板与所述载体基板相向，以从所述光器件的表面到所述载体基板的距离成为规定值的方式，调整所述蓝宝石基板及所述载体基板中的任一者或两者的位置的工序；根据所述排列间距DP及所述排列间距RP来算出所述蓝宝石基板与所述载体基板的扫描速度比VR的工序；在所述蓝宝石基板与所述光器件的边界面，从所述蓝宝石基板的背面侧向排成一列的多个光器件照射激光的工序；基于所述基准位置D及所述基准位置R，使所述蓝宝石基板与所述载体基板的水平面内的相对位置一致，使所述蓝宝石基板与所述载体基板以所述速度比VR进行扫描动作的工序；以及与所述扫描动作连动地照射激光，进行所述激光诱导向前转移的工序。2.根据权利要求1所述的激光诱导向前转移方法，其特征在于，所述排列间距DP是由X方向的排列间距DX、及Y方向的排列间距DY所构成，所述排列间距RP是由X方向的排列间距RX、及Y方向的排列间距RY所构成，所述速度比VR是由根据所述排列间距DX和所述排列间距RX所算出的X方向的速度比VRX、及根据所述排列间距DY和所述排列间距RY所算出的Y方向的速度比VRY所构成，所述激光诱导向前转移方法还包括下述工序：在以所述速度比VRY进行所述激光诱导向前转移后，代替所述蓝宝石基板而将所述载体基板作为供体基板，相对于扫描方向在水平面旋转90度进行安装，以所述速度比VRX向第二载体基板进行所述激光诱导向前转移。3.根据权利要求2所述的激光诱导向前转移方法，其特征在于，所述激光的照射为使用光掩模的缩小投影，所述光掩模具有：第一开口部，为在Y方向与大致一个光器件对应且在X方向以所述排列间距DX与两个以上的光器件对应的开口；以及第二开口部，为在X方向与所述大致一个光器件对应且在Y方向以所述排列间距RY与所述两个以上的光器件对应的开口，所述激光诱导向前转移方法还包括下述工序：在以所述速度比VRY进行所述激光诱导向前转移的情况下，以使用所述第一开口部的方式切换掩模，且在以所述速度比VRX进行所述激光诱导向前转移的情况下，以使用所述第二开口部的方式切换掩模4.根据权利要求3所述的激光诱导向前转移方法，其特征在于，所述光掩模的开口部为对各光器件以大致光器件的形状进行照射的开口群。5.一种激光诱导向前转移装置，其特征在于，将作为供体基板的蓝宝石基板上的光器件向作为受体基板的载体基板进行激光诱导向前转移，所述激光诱导向前转移装置包括：第一处理部，获取形成于所述蓝宝石基板上的光器件的排列的基准位置D及排列间距DP；第二处理部，获取计划通过所述激光诱导向前转移向所述载体基板上移载的所述光器
件的排列的基准位置R及排列间距RP；平台及平台控制器，基于所述基准位置D及所述基准位置R，使所述蓝宝石基板与所述载体基板相向，以从所述光器件的表面到所述载体基板的距离成为规定值的方式，调整所述蓝宝石基板及所述载体基板中的任一者或两者的位置；第三处理部，根据所述排列间距DP及所述排列间距RP来算出所述蓝宝石基板与所述载体基板的扫描速度比VR；缩小投影光学系统，在所述蓝宝石基板与所述光器件的边界面，从所述蓝宝石基板的背面侧向排成一列的多个光器件照射激光；平台及平台控制器，基于所述基准位置D及所述基准位置R，使所述蓝宝石基板与所述载体基板的水平面内的相对位置一致，使所述蓝宝石基板与所述载体基板以所述速度比VR进行扫描动作；以及激光装置，与所述扫描动作连动地照射激光6.一种激光诱导向前转移方法，其特征在于，将作为供体基板的蓝宝石基板上的微小元件向具有粘接层的受体基板进行激光诱导向前转移，所述激光诱导向前转移方法包括：获取排列于所述供体基板上的微小元件的三维尺寸、所述排列的基准位置D及排列间距DP的工序；获取计划通过所述激光诱导向前转移向所述受体基板上封装的所述微小元件的排列的基准位置R及排列间距RP的工序；基于所述基准位置D及所述基准位置R，使所述供体基板与所述受体基板相向，测定其基板间隔，以从微小元件的下表面到所述受体基板的距离成为规定值的方式，调整所述供体基板及所述受体基板中的任一者或两者的位置的工序；以及使所述供体基板与所述受体基板的水平面内的相对位置一致，在所述供体基板与微小元件的边界面，从所述供体基板的背面侧进行激光的缩小投影的工序，且进行所述缩小投影的激光为KrF准分子激光，其照射能量密度为0.5J/cm2～2J/cm2，填满所述基板间隔的气体环境的密度为1kg/m3～2kg/m3，所述粘接层的硬度为20～50，厚度为5μm以上，所述规定值为10μm～200μm。7.一种激光诱导向前转移方法，将供体基板上的光器件向受体基板进行激光诱导向前转移，所述激光诱导向前转移方法的特征在于，使所述供体基板与所述受体基板相向，在从所述光器件的表...

【专利技术属性】
技术研发人员：山冈裕，植森信隆，仲田悟基，斋藤刚，小沢周作，佐藤伸一，仓田昌実，佐藤正彦，阿部司，野口毅，宇佐美健人，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：