日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有988项专利

  • 本发明提供一种适合形成液晶取向膜等的聚酰亚胺清漆,该聚酰亚胺清漆能抑制吸湿白化现象,粘度变化少,保存稳定性优异,此外,在得到膜时也不易产生异物、堵塞等,并且得到的膜产生的表面粗糙少,此外,即使进行干燥、加热,也能得到原本的聚酰亚胺材料的...
  • 本发明提供用于简便且迅速、量产性高地制造细胞凝集块的、细胞凝集块制造用基板、细胞凝集块的制造方法。细胞凝集块制造用基板,其在具有抑制细胞附着的能力的基板上具备由下述共聚物形成的斑点,且细胞接种后的凝集块形成完成时间在20小时以内,所述共...
  • 提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含聚合物(X)、以及溶剂,上述聚合物(X)包含具有甲氧基甲基和除甲氧基甲基以外的ROCH2‑
  • 本发明提供了一种液晶纳米胶囊,其是形状保持性优异的液晶纳米胶囊,并且在含有液晶纳米胶囊的液晶纳米胶囊分散液(液晶显示层形成用的涂布液)中,能够让液晶纳米胶囊的分散性以及分散稳定性变得良好。一种液晶纳米胶囊,其是以聚合物壁包覆液晶组合物而...
  • 本发明的课题是提供包含高分子和金属微粒的非电解镀基底剂。解决手段是一种基底剂,是用于在基材上通过非电解镀处理而形成金属镀膜的非电解镀基底剂,其包含:(A)共聚物,上述共聚物包含来源于分子内具有至少1个三氟甲基和1个自由基聚合性双键的单体...
  • 提供与生物材料的相容性优异的涂覆膜形成用组合物、涂覆膜、以及具备涂覆膜的基板及其制造方法。具有抑制生物材料附着的能力的涂覆膜形成用组合物、由前述组合物得到的涂覆膜、以及具备前述涂覆膜的基板及其制造方法,所述涂覆膜形成用组合物包含通过使下...
  • 本申请的目的在于,提供聚酰亚胺系液晶取向膜与密封剂、基板的粘接性(密合性)优异的液晶取向膜、能得到该液晶取向膜的液晶取向剂、和具备该液晶取向膜的液晶表示元件。具有下述式(1)所示的结构的二胺、由其得到的聚合物和含有该聚合物的液晶取向剂。...
  • 提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含在末端含有下述式(1)(在式(1)中,X1表示
  • 本发明提供用于形成能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、及使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。所述组合物为(甲基)丙烯酸类聚合物的侧链具有被保护基取代的碱性有机基团,而且还包含有机溶剂...
  • 本发明公开了一种包含特定的苯胺低聚物、受电子性掺杂剂、金属氧化物纳米粒子、以及有机溶剂的电荷传输性清漆,由该电荷传输性清漆制作的电荷传输性薄膜,具有该电荷传输性薄膜的电子器件和有机电致发光元件,以及使用该电荷传输性清漆的电荷传输性薄膜的...
  • 用于形成碱玻璃用剥离层的组合物,其包含下述(A)~(E)成分,该组合物在碱玻璃基板上涂布后于300℃以下烧成的膜与有机系膜接触的情况下,具有0.2N/25mm以下的剥离力。(A)包含由下述式(1)所表示的重复单元的聚脲、(式中,R
  • 提供剥离层形成用组合物,其包含:(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的交联剂、(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表...
  • 提供抑制ATN1的基因表达、可治疗齿状核红核苍白球丘脑下部萎缩的反义寡核苷酸。化合物或其药学上允许的盐,其包含修饰寡核苷酸,所述修饰寡核苷酸由8~80个连接的核苷组成,且具有包含与ATN1的转录物互补的至少8个连续的核酸碱基的核酸碱基序...
  • 本发明涉及一种粘接剂组合物,其包含粘接剂成分(S);以及剥离成分(H),由复数粘度为3400(Pa
  • 本发明提供一种自由基产生膜形成组合物,当将其用在水平电场液晶显示元件中时,所述水平电场液晶显示元件能够实现良好的黑色显示,并且能够实现高背光透射率、高响应速度。自由基产生膜形成组合物含有(A)成分以及(B)成分,所述(A)成分是在主链上...
  • 本发明的课题是提供通过在皮肤上、毛发表面进行膜形成来防止污染物质的附着,防止由该物质引起的皮肤和毛发的表面的污染的新材料。解决手段是一种防污染材料,其特征在于,含有脂质肽型化合物,上述脂质肽型化合物在碳原子数10~24的包含脂肪族基的脂...
  • 本发明提供一种在同一元件内具备2个或3个不同取向区域(面内(单轴)取向区域、面外取向区域、以及倾斜取向区域)的液晶显示元件的制造方法,其为简便且低廉的方法。液晶显示元件的制造方法包括:工序(A):在基板上形成利用光的照射而能够产生自由基...
  • 提供在高温烧成时也显示异常高的疏水性、良好的平坦化性,可以通过变更分子骨架来调整为适应于工艺的光学常数、蚀刻速度的纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛...
  • 为了通过应用能够制造弱锚定膜的聚合物稳定化技术,在常温下以简便且廉价的方法得到能够同时实现非接触取向、低驱动电压化和加快电压Off时的响应速度的水平电场液晶显示元件,本发明提供一种用于该水平电场液晶显示元件的液晶取向剂。所述液晶取向剂含...
  • 本发明的图案形成用组合物例如是含有含三嗪环的聚合物、交联剂和有机溶剂的图案形成用组合物,所述含三嗪环的聚合物含有由下述式[4]表示的规定的重复单元结构,[4]表示的规定的重复单元结构,[4]表示的规定的重复单元结构,[4]表示的规定的重...