日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有988项专利

  • 本发明提供保护膜形成用组合物,其于半导体基板加工时具有对湿蚀刻液的良好掩模(保护)功能,具有低蚀刻速度,进而对高低差基板的被覆性和嵌埋性良好,嵌埋后的膜厚差小,能够形成平坦的膜。本发明还提供使用该组合物制造的保护膜、抗蚀剂下层膜、附抗蚀...
  • 本发明的课题是提供药剂诱发性心动过缓和心动过缓性心律失常治疗药。解决手段是一种药剂诱发性心动过缓和心动过缓性心律失常的治疗剂,其包含下述化合物(I)或它们的药理学上可容许的盐作为有效成分。(式中,Ph表示苯基。))))
  • 本发明提供一种液晶取向剂,其能适合用于膜强度高的液晶取向膜和AC残像得到了抑制的液晶显示元件,在低温保管时固体成分不析出。本发明还提供一种由该液晶取向剂得到的液晶取向膜、具有该液晶取向膜的液晶显示元件。本发明的液晶取向剂含有下述的(A)...
  • 一种层叠体,其特征在于,具备:半导体基板;支承基板,透射紫外线;以及粘接层和剥离层,设于半导体基板与支承基板之间,上述剥离层为由剥离剂组合物得到的膜,所述剥离剂组合物包含:含叔丁氧羰基的乙烯性不饱和单体的聚合物、光致酸产生剂以及溶剂。光...
  • 本发明提供包含含磷酸基聚合物的涂覆膜形成组合物、作为该组合物的固化物的涂覆膜,所述涂覆膜形成组合物能通过简易的工艺在基板上成膜,并且能够在包含水的溶剂环境下维持膜性能。涂覆膜形成组合物,其包含:聚合物(P),其为含有羟基的聚合物(P),...
  • 提供能够没有孔隙(空隙)地埋入微细化发展的半导体基板上的微细孔,在膜形成时的膜烧成时产生的升华物少的抗蚀剂下层膜形成用组合物、和兼具在半导体基板加工中作为对湿蚀刻药液的保护膜的功能的药液耐性保护膜组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物或保...
  • 本发明提供有机光电转换元件的空穴捕获层用组合物,其包含:包含含有由式(1)或式(1
  • 提供在大气压下的加热时困难的、使嵌段共聚物的微相分离结构相对于基板垂直地诱导了的、包含嵌段共聚物的层、其制造方法、以及使用了进行了垂直相分离的嵌段共聚物层的半导体装置的制造方法。是在小于大气压的压力下在能够发生诱导自组装化的温度下加热而...
  • 本发明提供存在此消彼长关系的耐刮擦性及拉伸性均优异的硬涂层形成材料。解决问题的手段是一种固化性组合物,其中包含(a)氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯100质量份;(b)用硅烷偶联剂进行了表面改性的二氧化硅粒子5质量份~70质量份,所述硅烷偶联...
  • 本发明提供显示出对疏水性溶剂良好的溶解性、在不使形成于基板上的包含嵌段共聚物的层溶解、溶胀等的情况下能够引起嵌段共聚物的垂直取向的上层膜形成用组合物。该上层膜形成用组合物是用于使形成于基板上的包含嵌段共聚物的层进行相分离的上层膜形成用组...
  • 本发明的课题是提供用于形成在半导体基板等的加工工序中,不仅能够通过以往的采用干蚀刻的方法,而且能够通过采用使用了稀氢氟酸、缓冲氢氟酸和碱性药液等药液的湿蚀刻的方法进行剥离的抗蚀剂下层膜的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物,此外提供保存稳定...
  • 本发明涉及包含可选择性地切断的部位的核酸化合物的利用方法。另外,本发明中,涉及包含可选择性地切断的部位的DNA编码化文库、其合成用组合物及其使用方法。合成用组合物及其使用方法。
  • 本发明提供一种液晶取向剂,其形成具有高折射率、且由于无着色性而具有高透光率的液晶取向膜的液晶取向剂、以及形成除了上述特性还具有高垂直取向性的液晶取向膜的液晶取向剂。本发明的液晶取向剂含有下述(A)成分和(B)成分。(A)成分:选自由聚酰...
  • 本发明的课题是提供对高低差基板也被覆良好、埋入后的膜厚差小、能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外,提供成为该抗蚀剂下层膜形成用组合物的重要成分的聚合物、使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物而形成的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造...
  • 本发明提供一种液晶取向剂,其能通过光取向法制造液晶取向膜,且可得到即使长时间持续照射背光源光也具有良好的电压保持率的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其特征在于,含有:选自由使用四羧酸衍生物成分和包含下述式(1)所示的二胺的二胺成分而得到的聚...
  • 提供保存稳定性高、膜的固化开始温度低、升华物的产生量少、可以形成不溶出于光致抗蚀剂溶剂的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案形成法、和半导体装置的制造方法。包含能够交联的树脂、交联剂、下述式(I)所...
  • 本发明的课题是提供获得能够作为具有对作为上层而形成的抗蚀剂膜用的组合物的溶剂的耐性、针对氟系气体的良好的蚀刻特性、进一步良好的光刻特性的抗蚀剂下层膜而良好地起作用的膜的组合物。解决手段是一种膜形成用组合物,其特征在于,包含使用2种以上酸...
  • 本发明提供一种保存稳定性良好的表面改性二氧化硅粒子的有机溶剂分散溶胶的制造方法。该制造方法包含下述(A)工序~(C)工序:(A)将表面未改性二氧化硅粒子的有机溶剂分散溶胶与硅烷偶联剂混合的工序,(B)在由(A)工序得到的结果物中添加碱性...
  • 本发明提供一种液晶取向剂,其在得到具有1度以下的预倾角的液晶取向膜的同时,即使在将负型液晶用作液晶材料的情况下也得到显示不良(线烧屏)的发生率低的液晶显示元件。本发明的液晶取向剂含有将作为四羧酸衍生物成分与二胺成分的反应物的聚酰亚胺前体...
  • 本发明提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件,所述液晶取向剂能得到即使长时间暴露于高温高湿下后电压保持率也高,此外蓄积的电荷的缓和快,残像特性优异的液晶取向膜。本发明还提供一种液晶取向剂,...