日产化学株式会社专利技术

日产化学株式会社共有988项专利

  • 作为可形成具有高耐热性和适度的剥离性、成膜后的稳定性优异的剥离层的用于形成剥离层的组合物,提供下述用于形成剥离层的组合物,其包含:(A)(A1)具有羟基烷基的纤维素或其衍生物等、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基...
  • 本发明涉及一种液晶取向剂,其满足选自由以下的(I)和(II)构成的组中的至少一种。(I):含有聚合物(A)和下述式(2)所示的环氧化合物(B),所述聚合物(A)具有选自由下述式(1-a)所示的重复单元和下述式(1-i)所示的重复单元构成...
  • 本发明涉及一种具有薄膜的基板,该基板具有:所述薄膜,具有下述式(1)所示的化合物中的Si
  • 一种液晶取向剂,其特征在于,含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分:作为如下四羧酸衍生物成分与如下二胺成分的反应产物的聚酰胺酸(A),所述四羧酸衍生物成分包含全部四羧酸衍生物成分的100摩尔%的芳香族四羧酸二酐,所述二胺成分包含下...
  • 本发明获得被用于液晶显示元件、有机EL显示元件等、能够形成在固化膜表面具有高拒水性和高拒油性、即使使用高浓度显影液,图案形成后的残渣也少、高温烧成时的释气产生少的固化膜的图像的正型感光性树脂组合物。本发明的正型感光性树脂组合物是下述正型...
  • 本发明提供能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。该膜形成用组合物包含具有下述式(I)表示的单元结构的聚合物、和溶剂,式(I)中,A1、A2、A...
  • 本发明的课题是提供用于提供显示良好的液晶取向性,并且与液晶层的密合性优异的取向材的固化膜形成用组合物。解决手段是固化膜形成用组合物、以及由该固化膜形成用组合物获得的固化膜、取向材、和相位差材,上述固化膜形成用组合物含有:(A)具有环氧基...
  • 本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:聚合物,上述聚合物包含下述式(1)(在式(1)中,R...
  • 本发明提供能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。该抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(I)表示的单元结构的聚合物、和溶剂,式(I)中,A1、...
  • 本发明的课题是提供通过在皮肤上、毛发表面进行膜形成来防止污染物质的附着,防止由该物质引起的皮肤和毛发表面污染,并且可以促进皮肤渗透的新组合物。解决手段是一种组合物,其特征在于,含有脂质肽型化合物和蔗糖酯,上述脂质肽型化合物在碳原子数10...
  • 本发明提供与以往的制造方法相比,可以以更高收率和高纯度制造脂质肽化合物及其盐的方法。所述方法是式(3)表示的脂质肽化合物或其药学上可使用的盐的制造方法,其包含:使式(1)表示的酯化合物、式(2)表示的α
  • 本发明的课题是提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数,能够形成对所谓高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,平坦且进一步具有优异的硬度的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体...
  • 采用在包含二亚苄基丙酮的钯0价络合物的催化剂、由下述式(L)表示的配体和碱的存在下使氟化芳族伯胺化合物与氯化、溴化或碘化芳族烃或者拟卤化芳族烃反应的氟化芳族仲胺化合物的制造方法,在没有使用特殊的催化剂的情况下使氟化芳族胺化合物与氯化、溴...
  • 本发明提供一种能得到具有高电压保持率、高透光率,此外蓄积电荷的缓和快、残影特性优异的液晶取向膜的液晶取向剂、该液晶取向膜以及液晶显示元件。一种液晶取向处理剂,其特征在于,含有聚合物(P),所述聚合物(P)选自由使用包含下述式(1)所示的...
  • 本发明提供一种不需要繁杂的操作,并且能够进行廉价地大规模生产的脂质肽化合物的实用制造方法。该方法是通过将式(1)表示的酯化合物的非极性溶剂溶液与含有碱和式(2)表示的α
  • 本发明提供一种单层相位差膜的制造方法,其包括以下工序:(I)将聚合物的单层相位差膜形成用聚合物组合物涂布于基板上并干燥,形成涂膜的工序,所述聚合物在侧链上具有通过紫外线进行光反应的光反应性部位;(II)第一曝光工序,其中,对所述涂膜照射...
  • 本发明的课题是提供可以抑制在形成涂布膜时可能发生的微小粒子等引起的缺陷产生的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物,其含有:[A]聚硅氧烷;[B]标准沸点为230.0℃以上,并且,下述式(1)所示的二醇...
  • 本发明的课题是提供用于形成不仅通过采用以往的干蚀刻的方法,而且通过采用使用了药液的湿蚀刻的方法也能够除去,光刻特性优异,在湿蚀刻中也可以实现高蚀刻速度的抗蚀剂下层膜的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种含有硅的抗蚀剂下层膜形...
  • 本发明涉及一种液晶取向剂,其含有聚合物(A),该聚合物(A)为选自由具有下述式(1)所示的重复单元(a1)的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种。(R1至R4的至少一个为氢原子以外的基团,例如表示碳...
  • 本发明提供一种液晶取向剂,其能得到膜强度高且表现出高各向异性的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分:具有使液晶取向的能力的聚合物(A)。(B)成分:下述式(1)所示的羟基烷基酰胺化合物(B)。(式(...