一种绝缘膜形成用感光性树脂组合物，其包含溶剂和聚酰亚胺、聚酰胺酸及聚酰胺酸酯中的至少任一种聚合物，所述聚合物具有光聚合性基团、芳香族基团及碳原子数5以上的烷基。芳香族基团及碳原子数5以上的烷基。

提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物

本发明涉及一种层叠体，其特征在于，具有：半导体基板

本发明的课题是提供用于形成即使是膜厚为

本发明提供一种具有在半导体基板的加工后将半导体基板与支承基板分离时能够容易地剥离且能够抑制凸块变形的粘接层的层叠体等

提供在半导体制造中的光刻工艺中，显示高药液耐性、良好的光学参数、和期望的干蚀刻选择比的保护膜。一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物，其包含(A)化合物、(B)热产酸剂(B

提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其在包含杂环的聚合物的重复单元结构中或末端具有被保护基取代了的碱性...

本发明提供能形成以高特性水平兼顾耐久特性和滑动性，并且在假定实际使用的基础上兼备高拒液特性的硬涂层的、没有悬浮物和沉淀物的均质的固化性组合物。本发明提供一种固化性组合物，其包含：(a)一个分子中具有两个以上(甲基)丙烯酰基的活性能量射线...

本发明的课题是提供使层状聚硅酸盐化合物进行了层间剥离的剥离粒子分散液。本发明的解决手段为一种剥离粒子分散液以及包含剥离粒子的膜形成用组合物、多孔体形成用组合物、LB膜、涂布膜、自支撑膜、质子传导体、燃料电池用电解质膜、多孔体，所述剥离粒...

本发明的课题是提供可以形成诱发所希望的垂直图案的自组装化膜的

本发明提供包含选自由下述式(1)表示的重复单元和由下述式(2)表示的重复单元中的至少一个的聚合物。一个的聚合物。一个的聚合物。

本发明提供可以形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物、以及使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含末端负载有酸化合物的聚合物、和溶剂。所述酸化合物可以与存在于聚...

一种液晶显示元件的制造方法，其包含下述步骤：在使含有液晶及下述式(A)所示的自由基聚合性化合物的液晶组合物与自由基产生膜接触的状态下，使上述自由基聚合性化合物进行聚合反应。式(A)中，M表示可自由基聚合的聚合性基团，T表示下述式(B)所...

提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)具有羟基或羧基的树脂、(B)光致产酸剂、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表...

本发明提供用于形成能形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物，和使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案的制造方法、半导体装置的制造方法。抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：下述式(100)所示的化合物(A)与包含至少2个与环氧基具...

[课题]本发明的目的是提供一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其即使针对高低差基板也能形成被覆性良好、埋入后的膜厚差小、平坦并且具有更优异的硬度的膜。[解决手段]含有具有式(1)、式(2)、式(3)和式(4)(省略)所表示的重复单元中的至少一...

本发明提供一种在能得到对AC残像的耐性优异并且膜强度高的液晶取向膜的液晶取向剂中适合的聚合物组合物。一种聚合物组合物，其特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：选自由具有下述式(a)所示的重复单元的聚酰亚胺前体和作为该聚...

一种感光性树脂组合物，其包含溶剂和具有光聚合性基团的芳香族二胺化合物与具有3个以上芳香族环的四羧酸衍生物的反应产物。上芳香族环的四羧酸衍生物的反应产物。

本发明提供能形成以高特性水平兼顾耐久特性和滑动性，并且在假定实际使用的基础上兼备高拒液特性的硬涂层的、没有悬浮物和沉淀物的均质的固化性组合物。本发明提供一种固化性组合物，其包含：(a)一个分子中具有两个以上(甲基)丙烯酰基的活性能量射线...

本发明提供一种液晶取向剂，其特征在于，含有聚合物(A)，该聚合物(A)为选自由具有下述式(1)所示的重复单元(a1)的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种。(1)(式(1)中，X1表示四价有机基团。...