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日产化学株式会社专利技术
日产化学株式会社共有988项专利
含有由新型的二胺得到的聚合物的液晶取向剂制造技术
本发明的目的在于,提供与密封剂的密合性优异的液晶取向膜、得到该液晶取向膜的液晶取向剂、以及具备该液晶取向膜的表示特性优异的液晶表示元件。而且,本发明的目的在于,提供该液晶取向剂中含有的新型的聚合物。一种液晶取向剂,其特征在于,其含有由具...
具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法技术
本发明的课题在于提供具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的新型的制造方法。作为解决手段,为下述具有2个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法,其特征在于,包括下述工序:第一工序,得到下述式(1)表示的化合物;第二工序,由前述式(1)表示的化合物得到下述...
液晶表示元件制造技术
提供:液晶的垂直取向性高、光学特性良好、且液晶层与液晶取向膜的密合性高、进而在高温高湿、光照射的环境下也能维持特性的液晶表示元件。一种液晶表示元件,其在具备电极的一对基板之间具有包含固化物的液晶层、且至少一个基板具备用于使液晶垂直取向的...
液晶表示元件制造技术
提供:液晶的垂直取向性高、光学特性良好、且液晶层与液晶取向膜的密合性高、进而在高温高湿、光照射的环境下也能维持特性的液晶表示元件。一种液晶表示元件,其在具备电极的一对基板之间具有包含固化物的液晶层、且至少一个基板具备用于使液晶垂直取向的...
包含高支化高分子和金属微粒的非电解镀基底剂制造技术
本发明的课题在于提供能形成具有高耐热性、且不包含腐蚀性原子的镀覆基底层、而且在其制造中还能实现低成本化的、可用于非电解镀的前处理工序的新的基底剂。作为解决手段,为一种基底剂,其是用于利用非电解镀处理在基材上形成金属镀膜的非电解镀基底剂,...
含有硅的图案反转用被覆剂制造技术
本发明提供高低差基板的平坦化用组合物。本发明提供了在有机图案上涂布的高低差基板平坦化用组合物,含有含水解性硅烷的水解缩合物的聚硅氧烷和溶剂,上述聚硅氧烷含有相对于Si原子为20摩尔%以下的硅醇基,上述聚硅氧烷的重均分子量为1000~50...
液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件制造技术
本发明涉及一种聚合物组合物,其含有:(A)在规定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子;(B)反应性介晶化合物;以及(C)有机溶剂。根据本发明,提供以高效率被赋予了取向控制能力、残影特性优异的液晶取向膜,提供获得该液晶取向膜的聚合...
吡啶衍生物及其制备方法和除草组剂技术
一种具有以上结构式的吡啶衍生物:(I)式中:A,B,D和E中的一个为氧,硫,-SO-等.余下的均为碳原子,X为卤素,C-[1]-C-[4]烷基,n为0到6的整数,W为氧或硫,R为氢,低级二烷基亚胺等,R-[1]为C-[1]-C-[4]烷...
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