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日产化学株式会社专利技术
日产化学株式会社共有988项专利
蛋白质生产方法技术
本发明提供蛋白质的生产方法,所述方法包括:在含有纳米纤维的培养基组合物中,在物理搅动的条件下,对具有蛋白质生产能力的细胞以附着于所述纳米纤维的状态进行悬浮培养。
液晶取向剂、液晶取向膜、以及液晶表示元件制造技术
提供能够抑制因布线结构或C/H的影响产生的取向膜的涂布不良、液晶表示元件的表示不均匀性不良、进而降低了液晶取向剂的粘度且增大了树脂成分比率的液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件。一种液晶取向剂,其特征在于,含有:选自由聚酰亚胺前体及作为...
液晶取向剂、液晶取向膜、及液晶表示元件制造技术
本发明提供用于得到兼具膜的机械强度和液晶取向性的液晶取向膜的液晶取向剂、使用其得到的液晶取向膜、和具备该液晶取向膜的液晶表示元件。本发明提供一种液晶取向剂,其包含含有选自由具有下述式(1)所示的结构单元的聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体的酰...
细胞培养容器制造技术
本发明提供一种细胞培养容器、其制造方法及使用了该细胞培养容器的细胞凝集块的制造方法,所述细胞培养容器的特征在于,在表面涂覆有下述共聚物,所述共聚物含有:包含下述式(a)表示的基团的重复单元、包含下述式(b)表示的基团的重复单元、和包含下...
剥离层形成用组合物和剥离层制造技术
本发明提供剥离层形成用组合物,其包含:例如由下述式表示的、具有来自四羧酸的两末端且该两末端用芳香族单胺封闭的聚酰胺酸,和有机溶剂。(式中,X表示4价的芳族基团,Y表示2价的芳族基团,R
抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:具有下述式(1a)和/或式(1b)所示的重复结构单元的聚合物、和溶剂。[式(1a)和(1b)中,2个R
配向层形成组合物制造技术
本发明提供一种在获得高二色性的偏光元件时,能够使聚合性液晶组合物配向的液晶配向膜用的聚合物组合物。本发明提供一种聚合物组合物,其含有(A)在特定温度范围内表现出液晶性的感光性的侧链型高分子、(B)二色性色素及有机溶剂。具有由该聚合物组合...
高折射率聚合性化合物的低粘度化剂及包含该低粘度化剂的聚合性组合物制造技术
本发明的课题是提供打破低阿贝化与低粘度化的折衷,在配合时折射率的损失少的高折射率的低粘度化剂和包含该低粘度化剂的聚合性组合物。解决手段是一种使用下述化合物作为高折射率聚合性化合物的低粘度化剂的方法,上述化合物在1013.25hPa、23...
偏光层形成组合物制造技术
本发明提供一种即便没有配向膜也能够获得高二色性的偏光元件的聚合物组合物。本发明提供一种聚合物组合物,其含有(A)具有表现出光反应性的结构及表现出液晶性的结构的侧链型高分子、(B)二色性色素及有机溶剂。通过包括在基板上涂布该组合物而形成涂...
剥离层形成用组合物和剥离层制造技术
本发明提供剥离层形成用组合物,其包含:例如由下述式表示的、具有来自二胺的两末端且该两末端已用芳香族二羧酸封闭的聚酰胺酸,和有机溶剂。(式中,X表示4价的芳族基团,Y表示2价的芳族基团,R
剥离层形成用组合物和剥离层制造技术
本发明提供例如包含由下述式(1)表示的聚酰胺酸和有机溶剂的剥离层形成用组合物。(式中,X表示由下述式(2)或式(3)表示的芳族基团,Y表示2价的芳族基团,Z在X为由下述式(2)表示的芳族基团时相互独立地表示由下述式(4)或式(5)表示的...
液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件制造技术
根据本发明,可以提供:提供以高效率被赋予了取向控制能力、余像特性优异的、横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的新型的聚合物组合物;和,使用其的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜。本发明涉及一种聚合物组合物,其含有:(A)侧链型高分...
聚合性硅烷化合物制造技术
本发明的课题是提供固化物显示高折射率和低阿贝数,进一步适合于制作具有高透明性的成型体的聚合性组合物所使用的新的聚合性硅烷化合物。解决手段是式[1]所示的聚合性硅烷化合物、作为该聚合性硅烷化合物的缩聚物的聚硅氧烷。(式中,X表示具有至少1...
具有1个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法技术
本发明的课题是提供具有1个烃基的异氰脲酸衍生物的新的制造方法。解决手段是一种具有1个烃基的异氰脲酸衍生物的制造方法,其包含下述工序:由下述式(0)所示的化合物获得下述式(1)所示的化合物的第一工序;由上述式(1)所示的化合物获得下述式(...
具有III族氮化物系化合物层的半导体基板的制造方法技术
本发明的课题是提供,即使在使用了300℃至700℃这样的高温下的蚀刻法的情况下,所形成的图案也不因为回流、分解而崩坏的具有被图案化了的III族氮化物系化合物层的半导体基板的制造方法。作为解决手段是一种制造方法,其特征在于,是具有被图案化...
抗蚀剂图案被覆用水溶液以及使用了该水溶液的图案形成方法技术
本发明的课题是提供新的抗蚀剂图案被覆用水溶液。解决手段是一种抗蚀剂图案被覆用水溶液,其包含:A成分:主链具有亚乙基氧单元和碳原子数3的亚烷基氧单元、并且末端具有羟基的共聚物,B成分:水溶性聚合物(其中,上述A成分的共聚物除外)、水溶性单...
包含特定交联剂的保护膜形成用组合物及使用了该组合物的图案形成方法技术
本发明的课题是提供对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。作为解决手段是一种对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物,其包含:1分子中具有2个以上选自缩水甘油基、末端环氧基、环氧环戊基、环氧环己基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基、异氰酸酯基...
抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明的课题是提供常温下的保存稳定性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:含氮化合物、聚合物、促进交联反应的化合物和有机溶剂,1分子所述含氮化合物中具有2~6个与氮原子键合的下述式(1)所...
用于形成膜密度提高了的抗蚀剂下层膜的组合物制造技术
本发明的课题是提供用于形成膜密度、硬度、杨氏模量、扭曲耐性(图案的弯曲耐性)高,由此具有高的蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛清漆树脂...
含有三嗪环的聚合物和包含该聚合物的组合物制造技术
例如通过使用含有由下述式[4]表示的重复单元结构的含有三嗪环的聚合物,能够得到高折射率并且能形成微细图案的薄膜。
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