一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：[A]成分：聚硅氧烷、和[C]成分：溶剂。所述聚硅氧烷包含源自具有碘代烷基的水解性硅烷(A)的结构单元。

提供能够简便地用短时间制造层状硅酸盐的方法。该课题采用包括下述(a)和(b)工序的层状硅酸盐的制造方法解决：(a)提供笼形硅酸盐的工序，所述笼形硅酸盐包含由下述式(1)所表示的阴离子成分和由下述式(2)所表示的阳离子成分，并且水的摩尔数...

本发明涉及新型聚合物和二胺化合物、液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件。一种下述式(1)所示的二胺化合物的制造方法，所述方法包括：使下述式(A)所示的双马来酰亚胺化合物与下述式(B)所示的化合物中P1为氨基的二氨基化合物反应，或者与下述...

本发明涉及新型聚合物和二胺化合物、液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件。一种下述式(1)所示的二胺化合物的制造方法，所述方法包括：使下述式(A)所示的双马来酰亚胺化合物与下述式(B)所示的化合物中P1为氨基的二氨基化合物反应，或者与下述...

本发明的课题是提供用于形成光刻特性优异、在湿蚀刻中可以实现高蚀刻速度的抗蚀剂下层膜的含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有[A]包含具有至少2个羟基的硅氧烷单元结构的聚硅氧烷[B]硝酸、和[C]...

本发明涉及新型聚合物和二胺化合物、液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件。一种下述式(1)所示的二胺化合物的制造方法，所述方法包括：使下述式(A)所示的双马来酰亚胺化合物与下述式(B)所示的化合物中P1为氨基的二氨基化合物反应，或者与下述...

本发明涉及一种液晶取向剂，其含有聚合物(P)，该聚合物(P)是选自由使用包含下述式(1)所示的二胺的二胺成分得到的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种。(式中，p表示0或1的整数。)

本发明的目的是提供用于形成在析像度(hp)小于25nm这样的极微细图案形成中，也获得没有图案坍塌的良好的抗蚀剂图案的含有硅的抗蚀剂下层膜的、含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有[A]包...

涂覆膜，其是涂布含有共聚物的涂覆膜形成用组合物而得到的，所述涂覆膜用于抑制生物物质的附着，前述共聚物为非水溶性，前述共聚物具有下述式(A)表示的重复单元(A)、及下述式(B)表示的重复单元(B)，前述共聚物中的前述重复单元(A)与前述重...

本发明提供嵌段聚合物的制造方法，该嵌段聚合物的制造方法包含：使用包括双液混合用混合器的流动反应器，该双液混合用混合器包括可将多个液体混合的流路，在引发剂的存在下使作为第一单体的苯乙烯系单体阴离子聚合以合成聚合物的工序，和使作为第二单体的...

提供可获得膜硬度高的液晶取向膜的新型的液晶取向膜的制造方法、液晶表示元件的制造方法、液晶取向膜、及液晶表示元件。包括下述工序(c)～(e)的液晶取向膜的制造方法。工序(c)：对高分子膜(P)照射光来赋予各向异性的工序，其中，上述高分子膜...

一种液晶取向剂，其含有下述的(A)成分、(B)成分以及(C)成分。(A)成分：选自由具有聚合性不饱和键的单体(a－1)的聚合物(A－1)、具有羧基的聚酰亚胺前体(A－2)以及具有羧基的聚酰亚胺(A－3)构成的组中的至少一种聚合物(A)，...

一种无溶剂型组合物，其特征在于，所述无溶剂型组合物包括含三嗪环的聚合物、交联剂、以及无机微粒，并且不含有机溶剂，该含三嗪环的聚合物包含由下述式(1)表示的重复单元结构，具有至少一个三嗪环末端，该三嗪环末端的至少一部分被具有交联基团的氨基...

提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含聚合物(X)、以及溶剂，所述聚合物(X)包含具有羟基甲基和ROCH2‑基(R为一价有机基、或它们的混合)的相同或不同的多个结构单元、和将上述多个结构单元连接的连接基。

一种含三嗪环的聚合物，其特征在于，所述含三嗪环的聚合物包含由下述式

一种无溶剂型组合物，其中，所述无溶剂型组合物包括含三嗪环的聚合物和交联剂，并且不含有机溶剂，该含三嗪环的聚合物包含由下述式

本发明提供一种液晶取向剂，其即使在将负型液晶用作液晶材料的情况下也能得到显示不良

一种含三嗪环的聚合物，其特征在于，所述含三嗪环的聚合物包含由下述式

本发明提供一种液晶取向剂

一种膜形成用组合物，其特征在于，所述膜形成用组合物含有：含三嗪环的聚合物，该含三嗪环的聚合物含有由下述式