本申请提供一种弱锚定液晶取向剂，其用于具有液晶和液晶取向膜的液晶单元的所述液晶取向膜的形成，所述弱锚定液晶取向剂含有接枝共聚物，所述接枝共聚物具有主干聚合物和作为所述主干聚合物的侧链而键合于所述主干聚合物的分枝聚合物，所述分枝聚合物与所...

本发明的目的是提供与以往相比使交联性飞跃地提高了的抗蚀剂下层膜形成用组合物，进一步提供为了改善抗蚀剂下层膜与抗蚀剂图案的密合性而与抗蚀剂材料的成分交联的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有...

本发明提供一种液晶取向性良好、预倾角表现能力也优异的液晶取向膜、具有该液晶取向膜的液晶显示元件、提供该液晶取向膜的液晶取向剂。本发明的液晶取向剂，含有作为(A)成分的化合物、作为(B)成分的聚酰胺酸以及溶剂，所述化合物具有下述式(pa‑...

提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件，所述液晶取向剂能得到即使在长时间暴露于高温高湿下后，电压保持率也高的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：选自...

提供可以形成对高低差基板的埋入性和平坦化性优异，并且保存稳定性高，膜的固化开始温度低，升华物的产生量少，在光致抗蚀剂溶剂中不溶出的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案形成法、和半导体装置的制造方法。...

提供一种半导体基板的清洗方法、包括这样的清洗方法的经加工的半导体基板的制造方法以及用于这样的清洗方法的组合物，所述半导体基板的清洗方法能以简便的操作、更短时间且更干净地将粘接层从在表面具有该粘接层的半导体基板上去除(清洗)。一种半导体基...

提供一种液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件，所述液晶取向剂含有适合于液晶取向剂的新型的溶剂成分。而且，提供一种液晶显示元件，其提高液晶取向膜的端部的涂布性，即使在应用于显示面大的液晶显示元件的...

本发明提供在半导体装置的制造中能够以基于涂布的简便方法完全覆盖半导体制造用基板(晶片)的端部的保护膜、用于形成该保护膜的保护膜形成组合物、使用该保护膜制造的半导体制造用晶片、该半导体制造用晶片以及半导体装置的制造方法。一种半导体制造用晶...

提供一种液晶取向剂等，所述液晶取向剂能得到对AC残像的耐性优异并且具有低预倾角特性的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其含有(A)成分和(B)成分。(A)成分：选自由作为如下四羧酸衍生物成分与如下二胺成分的反应物的聚酰亚胺前体和聚酰亚胺构成的...

为了使用Ru等不是Cu的新的金属，通过减成法来制造半导体元件，提供形成可以作为用于将Ru等选自元素周期表第6族、7族、8族、和9族中的金属的膜进行干蚀刻的蚀刻掩模而适合使用的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种含有硅的抗蚀剂下层...

一种液晶取向剂，其含有聚合物成分，所述聚合物成分满足下述条件(i)和(ii)中的至少任意者。条件(i)：所述聚合物成分含有：选自由具有下述式(1)所示的重复单元(a1)和下述式(1’)所示的重复单元(a1’)的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚...

提供一种液晶取向剂等，所述液晶取向剂能得到对AC残像的耐性优异、具有低预倾角特性并且具有高电压保持率的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：选自由如下聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚...

提供在半导体制造中的光刻工艺中使用的、保存稳定性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含主链中包含二硫键的聚合物、自由基捕获剂、以及溶剂。上述自由基捕获剂优选为具有环结构或硫醚结构的化合物。上述环结构优选为碳...

一种层叠体，其具有：半导体基板、支承基板、以及设于所述半导体基板与所述支承基板之间的粘接层，所述粘接层由粘接剂组合物的固化物形成，所述粘接剂组合物含有：具有与硅原子键合的碳原子数2～40的烯基的聚有机硅氧烷、具有Si－H基的聚有机硅氧烷...

本发明的课题是提供硅溶胶、含有这些硅溶胶的固化体形成用组合物和环氧固化体，上述硅溶胶包含二氧化硅粒子作为分散质，稳定地分散于有机溶剂，上述二氧化硅粒子包含环氧基或含有环氧基的有机基、和烷氧基。解决手段是一种硅溶胶，其含有二氧化硅粒子作为...

本发明的课题是提供一种即使在高温或高盐分下分散稳定性也较高的无机氧化物粒子的分散液，尤其是氧化硅粒子的分散液。一种分散体，其是以含有氧化硅的无机氧化物粒子作为分散质，且将液状介质作为分散介质的分散体，所述氧化硅是被水解性硅烷表面修饰了的...

一种热固性组合物，其含有：具有与硅原子键合的碳原子数2～40的烯基的聚有机硅氧烷、具有Si－H基的聚有机硅氧烷、铂族金属系催化剂、以及交联抑制剂，所述交联抑制剂含有下述式(1)所示的化合物和下述式(2)所示的化合物中的至少任一种。(所述...

本发明提供一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有下述式(1)表示的单元结构(A)的聚合物及溶剂。式(1)中，R1表示氢原子或碳原子数为1～10的烷基，L1表示选自碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～40的芳基、及1价杂环基的1价有...

提供下述式所示的2’修饰鸟苷化合物的新的制造方法。式中，R1、R2相同或不同，为氢原子、可以具有取代基的C1‑6烷基、可以具有取代基的C7‑16芳烷基、可以具有取代基的C2‑6烯基、可以具有取代基的C2‑6炔基、或可以具有取代基的C6‑...

本发明提供一种新型的正型感光性树脂组合物。该正型感光性树脂组合物包含下述(A)成分、下述(B)成分、下述(C)成分和溶剂。(A)成分：是(a1)、(a2)及(a3)的共聚物，且是不含羧基及羧酸酐基的共聚物，(a1)是下述式(1)表示的单...