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日产化学株式会社专利技术
日产化学株式会社共有988项专利
液晶显示元件及其制造方法技术
本发明提供一种液晶显示元件及其制造方法,即使在将取向膜的一方设为光取向处理、将另一方设为摩擦取向处理的情况下,液晶取向膜面内的液晶分子的扭转角度的偏差(不均匀性)也小,且能抑制AC残影。一种液晶显示元件,其具备夹持液晶层而对置配置的第一...
具有糖精骨架的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:含有下述式(A)所示的结构的聚合物、和溶剂。(在式(A)中,*表示结合键。)
伴随搅拌的粘附性细胞的悬浮培养方法技术
本发明提供粘附性细胞的培养方法,其包括在包含由非水溶性多糖类构成的纳米纤维的培养基中对粘附性细胞进行悬浮培养的工序,其中,该培养伴随搅拌而进行。
包含含有多环芳香族的聚合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
一种抗蚀剂下层膜,是作为抗蚀剂下层膜形成用组合物的涂布膜的烧成物的、抗蚀剂下层膜,上述抗蚀剂下层膜形成用组合物含有聚合物,上述聚合物含有:具有多环芳香族烃结构的单元结构(A)、和来源于马来酰亚胺结构的单元结构(B)中的至少任一单元结构,...
液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件以及化合物制造技术
本发明提供能得到膜强度高、AC残像受抑制,且即使在高温下长时间暴露后电压保持率也高的液晶取向膜的液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件。一种液晶取向剂,含有下述(A)成分和由下述式(1)表示的化合...
液晶取向剂和液晶显示元件制造技术
一种液晶取向剂,其含有通过聚合性不饱和烃基的聚合而得到的聚合物,且含有选自酮酸烷基酯和二元酸二烷基酯中的至少一种作为溶剂。
具有羟基肉桂酸衍生物的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
提供对主要作为有机溶剂的抗蚀剂溶剂、作为碱性水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性,同时对湿蚀刻药液显示良好的除去性(溶解性)的抗蚀剂下层膜。一种i射线用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:2官能以上的缩水甘油基酯型环氧树脂、与下述式(A)所...
剥离性赋予剂、粘接剂组合物、层叠体以及半导体基板的制造方法技术
一种粘接剂组合物,其含有具有酰胺键和聚有机硅氧烷结构的聚合物。
具有儿茶酚基的药液耐性保护膜形成用组合物制造技术
提供一种组合物,是可以形成对碱性过氧化氢水、酸性过氧化氢水等半导体用湿蚀刻液的耐性优异的保护膜的保护膜形成用的组合物,其对抗蚀剂溶剂也显示优异的耐性,也可以作为抗蚀剂下层膜形成用的组合物有效地使用。一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用...
波长转换膜形成用组合物制造技术
作为形成波长转换效率和耐久性优异的波长转换膜的波长转换膜形成用组合物,提供含有(A)由下述式(1)表示的荧光体和(B)粘结剂的波长转换膜形成用组合物。(式中,Ar1和Ar2各自独立地为可具有取代基的芳环,R1和R2各自独立地为氢原子、可...
包含二醇结构的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
提供能够没有孔隙(空隙)地埋入微细化发展的半导体基板上的微细孔,在膜形成时的膜烧成时产生的升华物少的抗蚀剂下层膜形成用组合物、和兼具在半导体基板加工中作为对湿蚀刻药液的保护膜的功能的药液耐性保护膜组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物或保...
聚合物组合物和单层相位差材料制造技术
本发明提供了一种聚合物组合物,其包含作为能够通过更简单的工艺制作耐光性高的单层相位差材料的新型聚合物的具有下述式(a)所示的具备光反应性部位的侧链的(A)侧链型聚合物、以及(B)有机溶剂,(A)成分是以少于全部侧链的20摩尔%的量包含具...
树脂组合物制造技术
本申请涉及一种树脂组合物,其包含选自聚酰亚胺、聚苯并恶唑和它们的前体中的至少一种树脂、下述式(A)所示的化合物、以及溶剂。[式(A)中,Ra表示氢原子、羟基、羟甲基、或碳原子数1~30的烷基。Rb表示碳原子数1~30的烷基。m表示0~3...
聚合物组合物和单层相位差材料制造技术
本发明提供一种聚合物组合物,其中,包含(A)侧链型聚合物以及(B)有机溶剂,上述(A)侧链型聚合物具有:具有以下式(a)表示的光反应性部位的侧链和具有以下式(b)表示的部位的侧链。
包含酸二酐的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明提供能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。该抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(I)表示的单元结构的聚合物、和溶剂,式(I)中,A1、...
电荷传输性清漆制造技术
本发明提供电荷传输性清漆,其包含苯胺衍生物、噻吩衍生物等电荷传输性物质、由下述式表示的氟代烷基磷酸鎓盐和有机溶剂。
非感光性树脂组合物制造技术
本发明的课题是提供一种热固化性的非感光性树脂组合物。作为解决手段是一种非感光性树脂组合物,其含有:具有下述式(1)和式(2)所示的结构单元的共聚物、下述式(3)所示的化合物和溶剂。(式(1)、式(2)和式(3)中,R<supgt;...
耐化学药液保护膜制造技术
本发明提供能够形成对半导体用湿蚀刻液的耐性优异的保护膜的保护膜形成用组合物,其也能够有效地用作抗蚀剂下层膜形成用组合物。该组合物是针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物,其包含(A)具有能够在碱的存在下进行交联反应的反应基团的化合物或...
液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件制造技术
[课题]提供抑制酰胺交换反应且对AC残影的耐性优异的含有2种以上聚酰胺酸的液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜和液晶表示元件。[解决手段]提供抑制酰胺交换反应且对AC残影的耐性优异的含有2种以上聚酰亚胺前体的液晶取向剂、液晶取向膜...
显示器用波长转换膜形成用组合物制造技术
作为形成波长转换效率优异的波长转换膜、同时保存稳定性也优异的显示器用波长转换膜形成用组合物,提供如下的显示器用波长转换膜形成用组合物,其含有(A)荧光体、(B)氧化钛粒子和(C)粘结剂,上述(B)氧化钛粒子的表面可被无机化合物被覆,其平...
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