一种刷形成用组合物，其用于使在基板上形成的包含嵌段共聚物的层的所述嵌段共聚物相分离，其中，所述刷形成用组合物含有刷状聚合物、有机碱和溶剂。

作为可适合用于在有机EL元件等中使用的电荷传输性薄膜的形成的聚合物，例如提供下述聚合物，其特征在于，包含由下述式表示的重复单元。

具有下述式(1)所示的部分结构、下述式(2)所示的部分结构和下述式(3)所示的部分结构的聚合物。(在式(2)中，Q1表示具有芳香族烃环或脂肪族烃环的2价有机基。在式(3)中，R11表示碳原子数1～10的亚烷基。)

本发明提供一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：包含芴结构的聚合物和溶剂。

提供用于得到即使使用了负型液晶的情况下，也不会产生亮点，得到良好的残像特性的光取向法用液晶取向膜的液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件。一种液晶取向剂，其含有选自由主链中具有式(1)所示的结构的聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺前体的酰亚胺化聚合...

本发明的课题是提供使用高低差基板被覆用组合物制造被覆基板的制造方法和制造半导体装置的制造方法。所述光固化性高低差基板被覆用组合物，其包含：包含部分结构(I)和部分结构(II)的化合物(E)；溶剂(F)；以及交联性化合物(H)，并且该部分...

本发明提供一种相位差膜用组合物，其包含(A)侧链型聚合物和(B)有机溶剂，所述(A)侧链型聚合物具有下述式(a)所示的具备光反应性部位的侧链和具有下述式(b)所示的部位的侧链，该相位差膜用组合物能够通过更简单的工艺制作NZ系数为0.4≤...

一种半导体制造用晶片端部保护膜形成用组合物，其包含具有交联性基的聚合物或化合物、以及溶剂，上述溶剂包含第1溶剂和第2溶剂，在将乙酸正丁酯的蒸发速度设为1的情况下，上述第1溶剂的蒸发速度为0.10以上，并且上述第2溶剂的蒸发速度为0.05...

本申请提供一种弱锚定液晶取向剂，其用于具有液晶和液晶取向膜的液晶单元的所述液晶取向膜的形成，所述弱锚定液晶取向剂含有由具有能够聚合的不饱和烃基的化合物得到的聚合物(P)、以及直链或支链的烷二醇。

一种前处理用组合物，是在使用保护膜形成用组合物在半导体基板上形成保护膜前，涂布在上述半导体基板上的前处理用组合物，其含有选自具有芳香族环和芳香族性羟基的化合物、有机还原剂、和螯合剂中的至少1种化合物(A)、以及溶剂(B)。

本发明提供一种聚合物组合物，其为提供即使低温烧成且为薄膜也显示出高相位差值的单层相位差材料的聚合物组合物，含有(A)侧链型高分子以及(B)有机溶剂，所述(A)侧链型高分子具备具有光反应性部位的侧链(a1)和具有下述式(b)所示的部位的侧...

本发明的课题是提供用于在半导体装置制造的光刻工艺中使用的具备耐热性的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含具有下述式(I)或式(I’)(在式(I)或式(I’)中，n1、n2和n3为0，并且环A和环B为苯环或萘...

一种弱锚定液晶取向剂，其含有下述A成分和B成分。A成分：下述式(1)所示的聚合物，B成分：具有通过加热而与所述A成分具有的n价有机基团A反应的部位的聚合物(式(1)中，A表示具有通过加热而与B成分反应的基团的分子量300以下的n价有机基...

作为能够减少氟系粘结剂的使用量、同时维持电池特性的电极形成用组合物，提供如下组合物，其包含含有酸性基团的化合物、含有氢键性基团的化合物、氟系粘结剂、导电性碳材料和活性物质，含有酸性基团的化合物为每一分子的酸性基团和/或其盐的含量为15质...

本发明提供一种用于形成保护膜的保护膜形成用组合物，所述保护膜保护表面形成有无机膜的半导体基板的上述无机膜免受湿蚀刻，该保护膜形成用组合物包含聚合物及溶剂，所述聚合物是主链上不具有芳香族环的聚合物且具有环氧乙烷环及氧杂环丁烷环中的至少一种。

本发明提供一种液晶取向剂以及液晶取向膜，该液晶取向剂能得到具有高液晶取向性，抑制了黑显示时的面内的亮度不均、对比度提高的液晶显示元件。液晶取向剂含有：具有式(1)的重复单元(a1)和式(2)的重复单元(a2)的、聚酰亚胺前体和该聚酰亚胺...

作为可进行EBR、能够形成具有高折射率、透明性、耐热性、耐光性、耐湿性、耐化学品性和与抗蚀剂同等的干蚀刻速率的树脂膜的树脂组合物，提供如下的树脂组合物，其含有(A)聚合物和(B)有机溶剂，所述(A)成分为包含由下述式(1)表示的结构单元...

本发明提供一种能够形成保护膜的材料，所述保护膜在半导体装置的制造中具有为了保护半导体制造用基板的端部所需要的充分的耐蚀刻性。[解决手段]一种光固化性组合物，其包含自交联性聚合物及溶剂，所述自交联性聚合物包含第一单体单元及第二单体单元，所...

本发明提供一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件以及其制造方法，所述液晶取向剂可以得到液晶的取向均匀性优异且对AC残影的耐性优异的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其含有：含有一种以上的聚合物的聚合物成分(P)以及下述式(c)所示的化合物(...

本发明的目的是提供形成抗蚀剂下层膜的烧成物的硬度提高方法、能够抑制蚀刻时的图案弯曲的硬度提高的烧成物、将该烧成物作为抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜制造方法及半导体装置的制造方法，所述抗蚀剂下层膜用于使用酚醛清漆树脂制造半层体装置的光刻工艺。...