本发明提供半导体基板的清洗方法、包括这样的清洗方法的经加工的半导体基板的制造方法以及用于这样的清洗方法的组合物，所述半导体基板的清洗方法能通过简便的操作从其表面具有使用例如硅氧烷系粘接剂得到的粘接层的半导体基板上在更短时间内且更干净地去...

一种自由基产生膜形成组合物，其特征在于，含有下述成分：成分(A)：用作横向电场驱动用液晶取向剂的取向成分的聚合物、及成分(B)：具有下述式(1)所表示的基团的含硅化合物。＊

一种层叠体，具有：支承基板；半导体基板，在所述支承基板侧具有凸块；无机材料层，介于所述支承基板与所述半导体基板之间，且与所述半导体基板相接；以及粘接层，介于所述支承基板与所述无机材料层之间，且与所述支承基板和所述无机材料层相接，所述层叠...

一种自由基产生膜形成组合物，其含有下述成分：成分(A)：用作横向电场驱动用液晶取向剂的取向成分的聚合物、及成分(B)：含有下述式(1)所表示的基团、且具有源自具有聚合性碳

本发明的课题是提供在晶片的研磨工序中以去掉激光标记周边部的隆起作为目的而提供平坦的研磨面的研磨用组合物、以及使用了该研磨用组合物的晶片的研磨方法。解决手段是一种研磨用组合物，是用于消除在采用包含二氧化硅粒子、水和碱性化合物的硅晶片的1次...

本发明涉及一种聚合物组合物，其含有聚合物(A)，所述聚合物(A)具有式(i－1)～(i－3)中的任意式所示的部分结构且在主链具有从部分结构中去掉R而成的结构。(R为具有两个芳香族烃环和氮原子(A)的一价有机基团。在一价有机基团中，两个芳...

本发明提供一种能得到具有高电压保持率的液晶取向膜并且降低吸湿白化的风险，量产稳定性优异的液晶取向剂、以及具备该液晶取向膜的液晶显示元件。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述的(A)成分。(A)成分：是选自由具有下述式(a)所示的重复单元...

一种固化性组合物，其含有下述(A)成分和(B)成分。(A)成分：包含下述式[1]所示的化合物的单官能自由基聚合性化合物，(B)成分：自由基引发剂。X1‑

课题是提供一种能够充分发挥氰尿酸锌具有的金属表面的防蚀等功能的涂料组合物及其制造方法和涂膜。解决手段是一种涂料组合物，包含涂料添加剂和树脂，所述涂料添加剂包含分散质粒子分散于液态介质而得到的分散液，所述分散质粒子包含无机氧化物粒子和氰尿...

本发明提供一种实用上有效的晶片表面的外周部呈环状露出的带有功能膜的晶片的制造方法，在带有功能膜的晶片的制造方法中，即使将高粘度涂布型材料用作包含功能膜构成成分的涂布型材料的情况下，也将晶片的表面的外周部的功能膜去除干净，经去除的功能膜的...

根据一种单层相位差材料的制造方法，能够制作相位差值及双折射高的单层相位差材料，所述单层相位差材料的制造方法包含以下工序：(I)将聚合物组合物涂布于基板上并干燥，形成涂膜；以及(II)对所述涂膜照射偏振光紫外线，所述聚合物组合物包含在侧链...

一种液晶显示元件的制造方法，其包含下述步骤：在使含有液晶及下述式(A)所示的自由基聚合性化合物的液晶组合物与自由基产生膜接触的状态下，使上述自由基聚合性化合物进行聚合反应。(式(A)中，M表示能够自由基聚合的聚合性基团，R1～R3各自独...

本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、以及使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。本发明为一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含末端被化合物(A)封闭的聚合物及有机溶剂，所...

本发明提供一种能使残影迅速地消失、能在高精细的液晶显示装置中显示高显示品质的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其特征在于，所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺前体、以及作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种聚合物(A)，所述...

在半导体装置制造的光刻工艺中，在使用抗蚀剂下层膜形成用组合物而形成抗蚀剂下层膜时，在烧成时产生来源于上述聚合物树脂、交联剂、交联催化剂等低分子化合物的升华成分(升华物)成为问题。本发明的解决手段是本发明的抗蚀剂下层膜形成用组合物用交联催...

提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含溶解在溶剂中的、化合物(A)与化合物(B)与化合物(C)的反...

本发明提供一种用于得到即使减少利用光取向法的取向处理中的光照射量也会抑制液晶取向膜面内的液晶取向性的偏差(不均匀性)的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其特征在于，所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺前体、以及作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰...

本发明提供可高效形成具有图案填充性和平坦化性的覆膜的高低差基板被覆用组合物。所述高低差基板被覆用组合物包含主剂化合物(A)、交联剂和溶剂，该化合物(A)是含有下述式(A

本发明的课题是电化学地制造氨。本发明的氨的制造方法是，通过利用进行电解的制造装置，在阴极中的分子催化剂和固体催化剂的存在下，提供来自电源的电子、来自质子源的质子、和来自供给氮气的机构的氮分子，从而由氮分子制造氨的方法。关于分子催化剂和固...

本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：下述式(1)：(在式(1)中，Y1表示至少1个...