本发明的课题是提供形成具有对图案的填充性和平坦化性的覆膜的高低差基板被覆用组合物。解决该课题的手段是一种高低差基板被覆用组合物，其是包含主剂化合物(A)和溶剂的高低差基板被覆用组合物，该组合物可通过光照或加热而固化，所述化合物(A)是包...

本发明提供一种能得到液晶取向膜的液晶取向剂，所述液晶取向膜能维持高电压保持率、再加工性优异。一种液晶取向剂，其特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：选自由聚酰亚胺系聚合物、聚有机硅氧烷、具有聚合性不饱和键的单体的聚合物...

提供在高温下也能够确保充分的水泥强度、并且抑制游离水的产生、抑制低比重骨料的上浮分离的坑井用水泥浆用添加剂及其制造方法。坑井用水泥浆用添加剂，其包含层状硅酸盐和二氧化硅的水性分散液。化硅的水性分散液。

本发明提供用于悬浮培养粘附性细胞的培养基组合物的制造方法，所述方法包括以下步骤：步骤(i)，使胞外基质担载于由非水溶性多糖类构成的纳米纤维上，步骤(ii)，将通过步骤(i)得到的担载胞外基质的纳米纤维添加于培养基中。中。

本发明的课题是提供用于CMP研磨而可以抑制缺陷的产生的研磨用组合物。解决手段是一种研磨用组合物，其包含二氧化硅粒子、碱性的含氮有机化合物和作为溶剂的水，并且由脉冲NMR的测定值算出的下述式(1)所示的Rsp值超过0.7且为6以下。Rsp...

本发明的课题是提供将无水硅酸钠(碎玻璃)、螯合剂和水加热而获得硅酸钠水溶液的方法、和使用了该硅酸钠水溶液(水玻璃)的高纯度硅溶胶的制造方法。解决手段是一种硅酸钠水溶液的制造方法，将无水硅酸钠、螯合剂、和水在100～270℃下加热混合。一...

提供电荷传输性清漆，其包含：(A)用表面处理剂进行了表面改性的氧化锆粒子、(B)单分散的电荷传输性有机化合物和(C)有机溶剂。的电荷传输性有机化合物和(C)有机溶剂。

提供电荷传输性清漆，是包含(A)单分散的电荷传输性有机化合物、(B)掺杂剂和(C)有机溶剂的电荷传输性清漆，(B)掺杂剂包含(B1)芳基磺酸酯化合物、(B2)卤化四氰基醌二甲烷或(B3)卤化或氰基化苯醌。卤化或氰基化苯醌。

本发明提供对抗蚀剂溶剂、作为碱水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性，同时仅对湿蚀刻药液显示除去性、且优选显示溶解性的抗蚀剂下层膜。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有二氰基苯乙烯基的聚合物(P)或具有二氰基苯乙烯基的化合物(C)，且包...

本发明提供对抗蚀剂溶剂、作为碱水溶液的抗蚀剂显影液显示良好的耐性，同时仅对湿蚀刻药液显示除去性、且优选显示溶解性的抗蚀剂下层膜。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：溶剂；以及具有二氰基苯乙烯基的杂环化合物、例如包含酰胺基的环状化合物、...

本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，其包含选自水解性硅烷化合物、其水解物和其水解缩合...

例如，由式(1)或者(2)表示的芳基胺化合物在有机溶剂中的溶解性良好，同时给予保存稳定性良好的清漆和光学特性良好的薄膜，将该薄膜应用于空穴注入层等的情况下能够实现具有良好的特性的有机EL元件。(R1各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、...

本发明的目的在于提供一种取向构件和用于得到该取向构件的固化膜形成用组合物，所述取向构件不仅具有优异的取向灵敏度，且取向均匀性也为优异，并且即使为薄膜，仍对液晶溶液中的溶剂具有耐性，且也能作为将膜基板予以保护的保护层发挥作用。本发明的固化...

本发明提供被高效地赋予取向控制能力、倾角特性优异的液晶取向膜，提供其的聚合物组合物和液晶表示元件。本发明提供一种具有液晶取向膜的基板的制造方法，其通过具有下述工序而得到被赋予了取向控制能力的液晶取向膜：[I]将聚合物组合物涂布于具有液晶...

本发明的课题是提供新的农药、特别是除草剂。解决手段是式(1)[式中，W1和X各自独立地表示氧原子或硫原子，R1和R2各自独立地表示C1～C6烷基等，R3表示D

本申请涉及液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件，其特征在于，所述液晶取向剂含有：(A)选自聚酰胺酸和该聚酰胺酸的酰亚胺化聚合物中的至少1种聚合物，所述聚酰胺酸是使用以10：90～90：10的比率包含下述式(1)所示的四羧酸二酐和脂肪族四...

提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含在末端含有脂肪族环的聚合物，且进一步包含有机溶剂，所述脂肪族...

本发明的课题是提供一种组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案的金属化方法，其能够通过使抗蚀剂图案的抗蚀剂金属化来改善抗蚀剂图案的粗糙度或塌陷，并提高耐蚀刻性。本发明是一种用于抗蚀剂图案金属化工艺的组合物以及使用该组合物提供于抗蚀剂中渗透有前...

提供芳基磺酸酯化合物的制造方法，其包括：第1工序，其中，使式(1)(A为芳族基团，B为被卤素原子取代的芳族基团，n为满足1≤n≤4的整数，q为满足1≤q的整数。)的芳基磺酸在DMF催化剂的存在下与卤化试剂反应以制造式(2)(式中，X为卤...

本发明的课题在于提供三有机硅烷化合物的新型制造方法。三有机硅烷化合物的制造方法，其包括下述工序(1)及工序(2)，工序(1)，使三氟甲磺酸酯化试剂与式(I)表示的二有机硅烷化合物反应而得到式(III)表示的单三氟甲磺酸酯化合物。工序(2...