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日产化学株式会社专利技术
日产化学株式会社共有988项专利
抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明提供表现出高耐蚀刻性、良好的干蚀刻速度比及光学常数,对所谓高低差基板被覆性也良好、埋入后的膜厚差小、可形成平坦膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。另外还提供使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造方法。该抗蚀...
液晶取向剂、液晶取向膜、以及液晶显示元件制造技术
本发明提供一种液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件,所述液晶取向剂用于得到即使在利用通过放射线等的照射而引起化学变化的光取向法的取向处理的情况下,严酷的环境下的电压保持率也高且液晶取向性良好,并且能抑制在IPS、FFS方式的液晶显示元件...
液晶取向剂、液晶取向膜和使用其的液晶表示元件制造技术
一种液晶取向剂,其含有下述聚合物(A)和聚合物(B)。聚合物(A):通过二胺成分与具有脂环结构的四羧酸二酐的缩聚而得到的聚酰胺酸,所述二胺成分包含下述式(1)所示的第1二胺、式(2)所示的第2二胺和式(3)所示的第3二胺。(式(3)中,...
液晶调光元件制造技术
一种液晶调光元件,其特征在于,在具备电极的一对基板之间具有包含液晶组合物的液晶层,且至少一个基板具备使液晶垂直取向那样的液晶取向膜,所述液晶调光元件通过施加电压来控制吸光状态,前述液晶组合物包含液晶和二色性色素,前述液晶取向膜由液晶取向...
液晶取向剂、液晶取向膜、以及液晶显示元件制造技术
本发明提供一种形成具有高折射率且因不具有着色性而具有高光透射率的液晶取向膜的液晶取向剂、由该液晶取向剂得到的液晶取向膜、以及具有该液晶取向膜的液晶显示元件。一种液晶取向剂,其特征在于,含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分:选自由...
垂直取向用的液晶取向剂、液晶取向膜、以及液晶显示元件制造技术
本发明提供一种形成具有高折射率且因不具有着色性而具有高透光率的垂直取向(VA)用的液晶取向膜的液晶取向剂;由该液晶取向剂得到的液晶取向膜;以及具有该液晶取向膜的液晶显示元件。一种液晶取向剂,其为垂直取向用,所述液晶取向剂的特征在于,含有...
液晶取向剂、液晶取向膜、液晶显示元件、聚合物以及二胺制造技术
本发明提供一种即使在暴露于过度加热的情况下,也能得到使液晶取向的能力也高的液晶取向膜的液晶取向剂。一种液晶取向剂,其含有选自由具有下述式(1)所示的基团的聚酰亚胺前体和聚酰亚胺构成的组中的至少一种聚合物(P)。(式中,X1表示碳原子数1...
包含杂环化合物的抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明提供具有特别高的干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、该抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法和半导体装置的制造方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:含有环氧基的化合物、与包含1个与环氧基具有反应性的部位的杂环化合物的反应生成物;...
包含无机氧化物粒子和氰尿酸锌粒子的分散液和涂料组合物制造技术
课题是提供一种能够充分发挥氰尿酸锌具有的金属表面的防蚀等功能的涂料组合物。解决手段是一种涂料组合物,包含涂料添加剂和树脂,所述涂料添加剂包含分散质粒子分散于液态介质而得到的分散液,所述分散质粒子包含无机氧化物粒子和氰尿酸锌粒子。氧化物粒...
含有多元羧酸的、药液耐性保护膜制造技术
本发明提供在半导体基板加工时具有耐湿蚀刻液的良好的掩模(保护)功能、高干蚀刻速度,进一步对高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能够形成平坦的膜的保护膜形成用组合物和使用该组合物而制造的保护膜、带有抗蚀剂图案的基板和半导体装置的制造...
氨的制造方法及制造装置制造方法及图纸
本发明的氨生产方法是在络合物和质子源存在下,利用由电源供给的电子从氮分子制造氨的方法。作为络合物,使用例如负载在Merrifield树脂上的钼络合物(1)。作为质子源,使用电解质膜、阴极槽中使用的溶液,或者电解质膜及阴极槽中使用的溶液这...
含硅聚合物组合物的制造方法技术
本发明的目的是提供一种通过用具有特定结构的离子交换树脂来处理含金属杂质的被处理含硅聚合物组合物,可以在抑制处理前后的重均分子量变化(ΔMw)的同时,还能够降低金属杂质的含硅聚合物组合物的精制方法、及含硅聚合物组合物、半导体装置的制造方法...
感光性树脂组合物制造技术
本发明用于液晶显示元件、有机电致发光元件等,通过本发明的感光性树脂组合物,从而提供具有高亲液性的固化膜,以及抑制了使用喷墨法、狭缝涂布法等而叠层的上层材料的涂布不均的固化膜。解决手段是一种感光性树脂组合物,是在通过将第一堤与第二堤直接或...
液晶取向剂、液晶取向膜以及使用了该液晶取向膜的液晶显示元件制造技术
本发明提供一种液晶取向剂,其能形成与基板、密封剂的密合性高的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其特征在于,含有下述(A)成分和(B)成分:(A)成分:选自由通过使二胺成分与四羧酸成分进行聚合反应而得到的聚酰胺酸、以及对该聚酰胺酸进行酰亚胺化而...
肽化合物的制造方法技术
本发明的课题在于提供肽的高效率的制造方法。本发明提供肽的制造方法,其包括下述工序(1)及(2):(1)将式(I)表示的氨基酸或肽化合物的N末端保护基团除去的工序;及,(2)使N
液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件制造技术
本发明的目的在于提供能制造具备包括密合性的所需的性能且再加工性良好的液晶取向膜的液晶取向剂、以及由其制造出的液晶取向膜和液晶显示元件。一种液晶取向剂,其包含由二胺成分得到的聚合物和有机溶剂,所述二胺成分包含:式[I]所示的至少一种以式D...
树脂组合物制造技术
提供一种树脂组合物,其含有(A)碱可溶性共聚物、(B)具有2个以上选自由丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基和烯丙基组成的组中的至少1种聚合性基团的化合物、(C)光引发剂、(D)黑色颜料、(E)疏液成分和(F)溶剂,该树脂组合物即使在着色...
横向电场液晶显示元件和横向电场液晶单元的制造方法技术
一种横向电场液晶显示元件,其具有:具备液晶取向膜的梳齿电极基板以及具备液晶取向膜的对置基板,使上述2个液晶取向膜彼此相向,横向电场液晶显示元件是在上述液晶取向膜与上述液晶取向膜之间填充液晶组合物而得到的,所述对置基板侧的上述液晶取向膜的...
含有纤维素的颜料制造技术
本发明的目的在于抑制配合有无机颜料的化妆品的使用感的降低、使色彩暗淡的无机颜料的凝集。提供包含纤维素或纤维素衍生物和无机颜料作为主成分的多孔性颜料粒子、其制造方法及包含多孔性颜料粒子的化妆品。所述粒子的凝集得以抑制,在基材中的分散性优异...
抗蚀剂下层膜形成用组合物制造技术
本发明提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数,即使对所谓高低差基板也被覆性良好,埋入后的膜厚差小,能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外,提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形...
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