提供在寒冷地带、温暖地带、高温地带的所有环境下都能够抑制从水泥浆的游离水的产生的坑井用水泥浆用添加剂及其保管方法。坑井用水泥浆用添加剂，其包含采用动态光散射法得到的平均粒径3～200nm的二氧化硅的水性分散液、和作为分散稳定剂的具有醇性...

本发明提供一种能形成源自残留DC的残像、AC残像的产生少，再加工容易，并且透射率高的液晶取向膜的液晶取向剂。本发明的液晶取向剂的特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：具有下述式(1)所示的重复单元的聚合物(A)。(B)...

本发明的课题在于提供肽的高效率的制造方法。肽的制造方法，其包括下述工序(1)：工序(1)，使C末端羧基被活化的肽与经甲硅烷基化的氨基酸或肽在流动反应器中反应，其中，所述C末端羧基被活化的肽是使酰卤化物及式(II)表示的叔胺与式(I)表示的N

本发明的目的在于提供一种残像的产生少、即使在发生由间隔物引起的刮蹭等物理上的摩擦时也能使亮点成为最小、可靠性高的液晶取向膜，可得到该液晶取向膜的液晶取向剂、以及具备该液晶取向膜的液晶显示元件。本发明为具有下述式(1)所示的结构的二胺、由...

本发明提供下述保护膜形成用组合物和使用该组合物而制造的保护膜、带有抗蚀剂图案的基板和半导体装置的制造方法，上述保护膜形成用组合物具有在半导体基板加工时对湿蚀刻液的良好的掩模(保护)功能、高干蚀刻速度，进一步对高低差基板也被覆性良好，埋入...

提供电荷传输性清漆，所述电荷传输性清漆的特征在于，包含电荷传输性物质、用表面处理剂进行了表面改性的含氧化钛粒子、和有机溶剂。剂。

提供由下述式(1)表示的芴衍生物。(式中，Z1和Z2为规定的2价的基团，Ar1和Ar2各自独立地为碳数6～20的芳基或碳数2～20的杂芳基，可被氰基、氯原子、溴原子、碘原子、硝基、碳数1～20的烷基、碳数3～20的环烷基、碳数4～20的...

本发明的课题是提供在滤色器的下层和上层形成的固化膜形成用树脂组合物。解决手段是一种树脂组合物，其含有具有下述式(1)所示的结构单元的均聚物、1分子中具有至少2个烷氧基烷基的交联性化合物、光产酸剂、表面活性剂、以及有机溶剂，上述交联性化合...

本发明的课题是提供将表面具有金属层的基材使用具有特定的组成的感光性纤维进行了加工的金属图案的制造方法、金属图案的制造方法、用于制造该感光性纤维的组合物，优选提供便宜且柔软的透明配线图案。解决手段是本发明的感光性纤维为包含正型感光性材料的...

由下述式(1)表示的芳基胺化合物在有机溶剂中的溶解性良好，同时给予光学特性良好的薄膜，在将该薄膜应用于空穴注入层等的情况下能够实现具有良好的特性的有机EL元件。(式中，R1各自独立地表示碳数6～20的芳基，R2各自独立地表示氢原子、卤素...

本发明的课题是杂环酰胺化合物的结晶及其制造方法。解决手段是阐明了式(1)所示的、作为具有作为除草剂有用的活性的化合物的杂环酰胺化合物具有新的结晶。酰胺化合物具有新的结晶。酰胺化合物具有新的结晶。

本发明提供一种聚合物组合物，其中，包含(A)侧链型聚合物以及(B)有机溶剂，上述(A)侧链型聚合物具有：具有以下式(a)表示的光反应性部位的侧链和具有以下式(b)表示的部位的侧链。链。链。

本发明的目的在于提供一种显现良好的光学特性、液晶显示元件的驱动电压变低的液晶显示元件。一种液晶显示元件，其特征在于，所述液晶显示元件是如下透射散射型的液晶显示元件：具有对配置于具备电极的一对基板之间的包含液晶和聚合性化合物的液晶组合物赋...

本发明提供一种液晶显示元件，所述液晶显示元件维持高电压保持率，并且蓄积电荷少，并且即使在产生由间隔物引起的摩擦等物理摩擦时也能使亮点最小。液晶取向剂的特征在于，含有下述的(A)成分和(B)成分。(A)成分：具有选自由下述式(1)所示的重...

提供一种组合物，是用于形成不溶于抗蚀剂溶剂、光学常数良好、蚀刻速率高的抗蚀剂下层膜的组合物，其对高低差基板的埋入性和平坦化性优异。包含(A)下述式(I)所示的交联性化合物、和(D)溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。[在式(I)中，m为1～...

本发明提供一种清洗剂组合物，其用于去除粘接剂残留物，所述清洗剂组合物包含季铵盐和溶剂，上述溶剂仅由有机溶剂形成，上述有机溶剂包含N，N，N

本发明提供一种聚合物组合物，其包含：(A)具有侧链的侧链型聚合物，上述侧链具有以下式(a)表示的光反应性部位，以及(B)有机溶剂，上述有机溶剂包含以下式(B)表示的烷基溶纤剂乙酸酯。酸酯。酸酯。

提供在半导体装置制造中的光刻工序中，成为晶片上的微小缺陷的原因的、金属杂质被减少了的有机溶剂的制造方法、或减少被精制有机溶剂中金属的方法。一种有机溶剂的制造方法，包含向金属除去用过滤筒进行通液的工序，所述金属除去用过滤筒是在中空状内筒层...

提供下述保护膜形成用组合物、使用该组合物而制造的保护膜、带有抗蚀剂图案的基板、和半导体装置的制造方法，上述保护膜形成用组合物具有在半导体基板加工时对湿蚀刻液的良好的掩模(保护)功能、高干蚀刻速度，进一步对高低差基板也被覆性良好，埋入后的...

本发明提供一种聚合物组合物，其包含：(A)具有侧链的侧链型聚合物，上述侧链具有以下式(a)表示的具有光反应性部位，(B)硅烷偶联剂，以及(C)有机溶剂。以及(C)有机溶剂。以及(C)有机溶剂。