剥离层形成用组合物及剥离层制造技术

提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的交联剂、(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。(式中，R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】剥离层形成用组合物及剥离层


[0001]本专利技术涉及剥离层形成用组合物及剥离层。

技术介绍

[0002]近年来，对于电子器件，要求除了薄型化及轻质化这样的特性以外，还赋予能够弯曲的功能。因此，要求替代现有的重、脆弱且不能弯曲的玻璃基板而使用轻质的柔性塑料基板。
[0003]特别是在新一代显示器中，要求开发使用轻质的柔性塑料基板(以下也称为树脂基板)的有源矩阵型全色TFT显示器面板。另外，就触摸面板式显示器而言，开发了与显示器面板组合而使用的触摸面板的透明电极、树脂基板等与柔性化对应的材料。作为透明电极，提出了从以往使用的ITO至能够进行PEDOT等弯曲加工的透明导电性聚合物、金属纳米线及其混合体系等其他透明电极材料(专利文献1～4)。在制作该柔性制触摸传感器布线时，例如，可以举出使用金属纳米线和高沸点溶剂来进行柔性印刷的布线技术等(专利文献5)。与以往的ITO相比，非常容易弯曲，而另一方面，由于使用高沸点溶剂，因此要求以往没有的高温工艺。然而，一般而言，金属纳米线分散液的粘度低，因此在通常的丝网印刷、凸版印刷中，涂布是困难的。在此，为了提高粘度，在金属纳米线分散液中添加增稠剂等时，虽然能够进行采用印刷的涂布，但由于作为非导体的增稠剂残留在干燥后的涂膜内，因此存在妨碍导通性的问题。由于金属纳米线分散液的粘度低，因此在通常的丝网印刷、凸版印刷中，涂布是困难的。在此，为了提高粘度，在金属纳米线分散液中添加增稠剂等时，虽然能够进行采用印刷的涂布，但由于作为非导体的增稠剂残留在干燥后的涂膜内，因此存在妨碍导通性的问题。
[0004]另一方面，触摸面板膜的基材也由玻璃成为由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚酰亚胺、环烯烃、丙烯酸系等塑料构成的片材等，开发出具有挠性的透明柔性制触摸屏面板，需要能够耐受高温工艺的基材(专利文献6～8)。
[0005]一般而言，就柔性制触摸屏面板而言，为了稳定地进行生产率和剥离性，在玻璃基板等支承基板上制作剥离(粘合)层，在其上制作器件后进行剥离，由此进行生产(专利文献9)。该剥离层在过程中需要不从支承基板剥离，而另一方面，在剥离时需要低剥离力。另外，为了提高生产率，需要在制膜后、制膜状态下长期保管剥离层。进而，由于需要以往没有的高温工艺，因此要求即使经过高温工艺，剥离性也恒定。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：国际公开第2012/147235号
[0009]专利文献2：日本特开2009
‑
283410号公报
[0010]专利文献3：日本特表2010
‑
507199号公报
[0011]专利文献4：日本特开2009
‑
205924号公报
[0012]专利文献5：日本特开2015
‑
166145号公报
[0013]专利文献6：国际公开第2017/002664号
[0014]专利文献7：国际公开第2016/160338号
[0015]专利文献8：日本特开2015
‑
166145号公报
[0016]专利文献9：日本特开2016
‑
531358号公报

技术实现思路

[0017]专利技术所要解决的课题
[0018]本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供剥离层形成用组合物，其提供具有高耐热性和适度的剥离性、且即使通过高温工艺也剥离性恒定、制膜后的稳定性优异的剥离层。
[0019]用于解决课题的手段
[0020]本专利技术人等为了实现上述目的而反复进行了深入研究，结果发现：包含(A)含有规定的重复单元的聚脲、(B)酸化合物或其盐、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)含有规定的重复单元的高分子添加剂、以及(E)溶剂的剥离层形成用组合物能够再现性良好地提供具有高耐热性、与基体的优异的密合性、与树脂基板的适度的密合性、及适度的剥离性的剥离层，完成了本专利技术。
[0021]即，本专利技术提供下述剥离层形成用组合物及剥离层。
[0022]1.剥离层形成用组合物，其包含：
[0023](A)包含由下述式(1)表示的重复单元的聚脲，
[0024](B)酸化合物或其盐，
[0025](C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂，
[0026](D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂，以及
[0027](E)溶剂，
[0028]相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂。
[0029][化1][0030][0031](式中，A1、A2、A3、A4、A5及A6各自独立地为氢原子、甲基或乙基，
[0032]X1为下述式(1
‑
1)、(1
‑
2)、(1
‑
3)或(1
‑
4)表示的基团，
[0033][化2][0034][0035](式中，R1和R2各自独立地为氢原子、碳数1～6的烷基、碳数3～6的烯基、苄基或苯基，上述苯基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基
和碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，另外，R1及R2可以相互键合而与它们所键合的碳原子一起形成碳数3～6的环，R3为碳数1～6的烷基、碳数3～6的烯基、苄基或苯基，上述苯基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代。)
[0036]Q1为下述式(1
‑
5)或(1
‑
6)表示的基团。
[0037][化3][0038][0039](式中，X2为式(1
‑
1)、式(1
‑
2)或式(1
‑
4)表示的基团，Q2为碳数1～10的亚烷基、亚苯基、亚萘基或亚蒽基，上述亚苯基、亚萘基和亚蒽基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基、及碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，n1及n2各自独立地为0或1。)
[0040][化4][0041][0042](式中，R
A
各自独立地为氢原子或甲基，R
B
为至少1个氢原子被氟原子取代的碳数3或4的支链状的烷基，R
C
为具有1～4个羟基的碳数6～20的多环式烷基，R
D
为碳数6～20的多环式烷基或碳数6～12的芳基。)
[0043]2.1的剥离层形成用组合物，其中，X1为式(1
‑
3)表示的基团。
[0044]3.2的剥离层形成用组合物，其中，R3为2
‑
丙烯基。
[0045]4.1～3中任一项的剥离本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种剥离层形成用组合物，其包含：(A)包含下述式(1)表示的重复单元的聚脲，(B)酸化合物或其盐，(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂，(D)包含下述式(a)表示的重复单元、下述式(b)表示的重复单元及下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂，以及(E)溶剂，相对于(A)聚脲100质量份，包含3～100质量份的(D)高分子添加剂，式中，A1、A2、A3、A4、A5及A6各自独立地为氢原子、甲基或乙基，X1为下述式(1
‑
1)、(1
‑
2)、(1
‑
3)或(1
‑
4)表示的基团，式中，R1及R2各自独立地为氢原子、碳数1～6的烷基、碳数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基及碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，另外，R1及R2可以相互键合而与它们所键合的碳原子一起形成碳数3～6的环，R3为碳数1～6的烷基、碳数3～6的烯基、苄基或苯基，所述苯基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基及碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，Q1为下述式(1
‑
5)或(1
‑
6)表示的基团，式中，X2为式(1
‑
1)、式(1
‑
2)或式(1
‑
4)表示的基团，Q2为碳数1～10的亚烷基、亚苯基、亚萘基或亚蒽基，所述亚苯基、亚萘基和亚蒽基可以被选自碳数1～6的烷基、卤素原子、碳数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基、及碳数1～6的烷硫基中的至少1种基团取代，n1及n2各自独立地为0或1，
式中，R
A
各自独立地为氢原子或甲基，R
B
为至少1个氢原子被氟原子取代...

【专利技术属性】
技术研发人员：进藤和也，松山元信，古川优树，江原和也，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：