一种由单片棱镜形成的单片光学延迟器可包含：输入面，其用于接收光束；输出面，其与所述光束在进入所述输入面之前的光学轴线对准；及三个或更多个反射面。所述三个或更多个反射面可被定向为经由通过所述三个或更多个反射面的反射来提供所述光束的从所述输...

工艺窗鉴定(PWQ)布局能够用于确定与图案、图案化工艺或图案化设备相关联的图案异常的存在。例如，调制裸片或场能够与略低偏移调制裸片或场比较。在另一实例中，比较特定条件或条件的组合的高低角。在又一实例中，工艺调制参数能够用于估计所关注特定...

提供用于建立基于物理的模型的系统及方法。一种系统包含一或多个组件，其由一或多个计算机子系统执行且包含描述半导体制造相关过程的基于物理的模型及经配置用于在多个阶段中建立所述基于物理的模型的建立组件，在所述多个阶段中的每一者中仅建立所述基于...

提供一种用于电磁线圈的均匀冷却的系统及方法。所述系统包含电磁线圈、冷却结构及冷却流体源。所述冷却结构围绕所述电磁线圈的整个周边，且包含围绕所述电磁线圈交替布置的第一冷却通道及第二冷却通道。所述冷却流体源经配置以将第一冷却流体输送到所述第...

本文中呈现用于产生由潜在数学空间中的一组变量参数化的半导体结构的优化几何模型的方法及系统。参考形状轮廓特性化过程空间上所关注的半导体结构的形状。描述参考形状轮廓的一组可观测几何变量经变换成一组潜在变量。潜在变量的数目小于可观测几何变量的...

在激光器组合件200A、200B的最终倍频级230A、230B中使用包含协作地经配置以产生用于准相位匹配(QPM)的周期性结构的堆叠式四硼酸锶SrB<subgt;4</subgt;O<subgt;7</subgt...

提供用于确定样品的信息的方法及系统。一个系统包含经配置用于确定样品的图像的全局纹理特性及所述图像中的局部化区域的一或多个局部特性的计算机子系统。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述组件包含经配置用于基于所述全局纹理特...

一种用于半导体计量的方法包含将第一及第二上覆膜层沉积于半导体衬底上及图案化所述层以界定叠对目标。所述目标包含：所述第一层中的第一光栅图案，其包含在第一方向上定向的至少第一线性光栅及在垂直于所述第一方向的第二方向上定向的至少第二线性光栅；...

一种用于半导体计量的方法包含将第一薄膜层沉积在半导体衬底上并沉积上覆所述第一薄膜层的第二薄膜层。图案化所述第一薄膜层及所述第二薄膜层以定义多个叠加目标，所述多个叠加目标包括：第一目标特征，其形成于所述第一薄膜层中具有隔开第一标称距离的相...

提供用于检测来自样品的带电粒子的方法及系统。一种系统包含：第一排斥网，其经配置以排斥来自样品的具有低于第一预定能量的能量的带电粒子；及第二排斥网，其经配置以排斥通过所述第一排斥网且具有低于第二预定能量的能量的所述带电粒子。所述系统还包含...

一种设备包含提升装置及电动机组合件。所述提升装置安置在提升装置外壳中且经配置以调整经连接到所述提升装置的光学组件的垂直位置。所述电动机组合件安置在电动机外壳中且经配置以驱动所述提升装置以调整所述光学组件的所述垂直位置。所述提升装置外壳、...

本发明提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件，所述一或多个组件包含经配置以用于基于利用成像子系统的学习模式由样品产生的输出而确定所述样品的信息的多个深度学习(DL)模型。所述一...

提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件，所述一或多个组件包含在无经标记数据的情况下(例如，以无监督或自我监督方式)进行训练且经配置以从包含至少一样品图像或从所述样品图像产生的数...

本发明提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统，所述计算机子系统经配置用于移除样品图像中的不触碰在所述样品图像中检测到的缺陷的一或多个图案，由此产生经修改样品图像。所述计算机子系统还经配置用于产生用于所述经修改样品图...

一种非线性晶体光栅组合件包含两个整件式非线性晶体光栅结构，其具有倒转晶轴且具有拥有预定台面宽度的平行隔开台面，所述整件式非线性晶体光栅结构经布置使得当组装成交错组合配置时，所述两个光栅结构的所述台面形成与输入光的传播方向对准的交替光栅图...

本公开提供用于选择性测量及监测处理溶液中的硼酸浓度的技术。方法包含使用与水解离子反应的络合剂，例如电位滴定中的乙二胺四乙酸(EDTA)酸盐。在此类方法中，可准确地测量及监测处理溶液中的硼酸浓度。

一种叠加计量工具可包含照明源，其用于产生具有第一线性偏振的第一照明光束分布及具有正交于所述第一线性偏振的第二线性偏振的第二照明光束分布；照明子系统，其用于依序照明具有正交定向的光栅叠置结构的样本上的叠加目标的两个或更多个单元对；集光子系...

多层测试样品包含具有底层、顶层及夹在底层与顶层之间的隧道层的堆叠。所述多层测试样品在所述堆叠下方具有用于在所述堆叠上进行测量的端子。所述端子的位置或其之间的距离未知。模型及测量策略经界定，使得所述堆叠的材料参数可经确定。

一种晶片形状计量系统包含经配置以对作用晶片、载体晶片及经接合装置晶片执行无应力形状测量的晶片形状计量子系统。所述作用晶片包含功能逻辑电路，且所述载体晶片是电无源的。所述晶片形状计量系统包含通信地耦合到所述晶片形状计量子系统的控制器。所述...

本发明提供设置用于检验样品的关注区域(CA)的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品图像的成像子系统及经配置用于确定在所述样品上形成的重复图案化区域中产生的图像中的一或多者内的预定义单元中检测到的缺陷数量的计算机子系统。所述计算机子...