【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体上涉及用于设置用于检验样品的关注区域的方法及系统。
技术介绍
1、以下描述及实例不因其包含在本章节中而被承认为是现有技术。
2、在半导体制造工艺期间的各个步骤中使用检验工艺来检测光罩及晶片上的缺陷，以提高制造工艺中的良率，且因此提高利润。检验一直是制造半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对于成功制造可接受的半导体装置变得更加重要，因为较小缺陷可导致装置失效。
3、所属领域中通常提及的“关注区域”是指样品上用于检验目的所关注的区域。有时，关注区域(ca)用于区分样品上已检验的区域及样品上未在检验工艺中检验的区域。此外，ca有时用于区分样品上使用一或多个不同参数进行检验的区域。例如，如果样品的第一区域比样品上的第二区域更为关键，那么可使用比第二区域的更高灵敏度检验第一区域，使得在第一区域中以更高灵敏度检测缺陷。检验工艺的其它参数可以类似方式逐ca来进行更改。
4、目前使用不同类别的检验ca。一个类别是传统手绘的旧有ca。由于几乎所有用户都采用设计引导检验，目前使用的旧有...
【技术保护点】
1.一种经配置以设置用于检验样品的关注区域的系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定阈值经选择为低于存在系统噪声时检测到的缺陷数量。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定阈值经选择为高于不存在系统噪声时检测到的缺陷数量。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品的所述检验经执行以检测所述样品上的随机缺陷。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个关注区域是所述样品上的所述重复图案化区域中不执行所述检验的一或多个区域。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个关注区域是所述...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种经配置以设置用于检验样品的关注区域的系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定阈值经选择为低于存在系统噪声时检测到的缺陷数量。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定阈值经选择为高于不存在系统噪声时检测到的缺陷数量。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品的所述检验经执行以检测所述样品上的随机缺陷。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个关注区域是所述样品上的所述重复图案化区域中不执行所述检验的一或多个区域。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个关注区域是所述样品上的所述重复图案化区域中以比所述样品上的所述重复图案化区域中的其它区域更低的灵敏度执行所述检验的一或多个区域。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定义单元包括所述预定义单元的规则阵列。
8.根据权利要求1所述的系统，其中至少大多数预定义单元具有相同形状及大小。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定义单元的特性独立于所述重复图案化区域的设计。
10.根据权利要求1所述的系统，其中确定所述缺陷的所述数量包括堆叠对应于所述重复图案化区域的多个例子的所述图像中的所述一或多者内的所述预定义单元中检测到的所述缺陷的信息，且根据所述堆叠信息确定所述预定义单元中检测到的缺陷数量。
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述预定义单元具有第一大小，且...
【专利技术属性】
技术研发人员：R·巴恩瓦尔，S·马宗德，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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