多个电子细束从单个电子束中分离

本发明公开用于清洁覆盖检验系统的光学表面的系统

本发明公开一种衬底清洁系统，其包含腔室及定位于所述腔室内的衬底台

一种裸片筛选系统可在一或多个制造步骤之后从一或多个线内度量衡工具接收一或多个样本上的裸片群体的裸片分辨度量衡数据，其中所述裸片分辨度量衡数据包含使用所述一或多个线内度量衡工具的一或多个测量配置产生的图像。以此方式，所述裸片分辨度量衡数据...

从半导体装置设计文件产生经呈现图像。基于所述经呈现图像的灰度对所述经呈现图像进行分段。基于所述分段确定注意区域。在所述注意区域中执行缺陷检验。此过程可执行于使用光子光学器件或电子束光学器件的晶片检验工具上。上。上。

公开一种用于在检验系统内的原位波前检测的方法。所述方法包含用光源产生光，且将所述光引导到安置在掩模载台上的载台级反射掩模光栅结构。所述方法包含将从所述载台级反射结构反射的光引导到安置在检测器的平面中的检测器级掩模结构，且然后用光学元件收...

可通过在配方设置期间且接着在运行时间期间在相同位置处提取图像帧来识别及减轻晶片间及晶片内图像对比度变动。确定所述两个图像帧的图像对比度。所述两个图像帧的对比度比率可用于确定对比度变动及焦点变动。率可用于确定对比度变动及焦点变动。率可用于...

一种产品，其包含：至少一个半导体衬底；多个薄膜层，其安置于所述至少一个衬底上；及叠加目标，其形成于所述薄膜层中的至少一者中。所述叠加目标包含：第一子目标，其具有第一对称中心且包含具有第一线宽的第一目标特征；及第二子目标，其具有与所述第一...

提供用于半导体应用的深度学习对准的方法及系统。一种方法包含通过将样本上的对准目标的第一实际信息输入到深度生成模型(例如GAN)中而将所述第一实际信息从设计数据转换成样本图像或将样本图像转换成设计数据。所述方法还包含将经转换第一实际信息与...

公开用于展开相位图的系统及方法。此类系统及方法可包含：接收与包含经图案化特征的样本的干涉测量相关联的包围相位图；从所述包围相位图移除倾角；产生背景；检测所述包围相位中的特征，所述包围相位图中的所述特征对应于所述样本的所述经图案化特征中的...

提供传感器、成像系统及用于形成具有指定深度分布的传感器的方法。一种传感器包含衬底及附接到所述衬底的一或多个组件。所述传感器还包含传感器裸片，其具有薄化背面及经配置用于检测照射所述传感器裸片的所述薄化背面的能量的能敏元件。所述传感器进一步...

使用内嵌缺陷部分平均测试进行半导体自适应测试的系统及方法经配置以：接收来自内嵌缺陷部分平均测试(I

一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多...

公开一种工艺条件感测设备。所述设备包含衬底及包含一或多个电子组件的电子壳体。所述设备包含经配置以将所述电子壳体机械耦合到所述衬底的浮动连接组合件，所述浮动连接组合件包含腿部及脚部。所述腿部或脚部经布置以减轻一或多个界面之间的热应力。所述...

本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对...

一种计量工具可包含照明子系统以用两个或更多个照明光束照射两个或更多个获取场内的样本，其中所述两个或更多个获取场以非重叠配置沿扫描方向分布，且其中平移台沿所述扫描方向平移所述样本上的计量目标循序通过所述两个或更多个获取场。所述计量工具可进...

提供一种用于多光束阵列系统的光圈阵列及一种选择来自多光束阵列系统的光束的子集的方法。所述光圈阵列包括布置成接近光束源的阵列本体。所述阵列本体包括多个光圈，所述光圈中的至少两者具有不同几何形体。所述阵列本体可经由致动器相对于所述光束源的光...

提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含经配置用于对由成像子系统产生的样品的图像去除噪声的深度学习模型。所述计算机子系统经配置用于从所述去除噪声的图像确定所...

用于半导体缺陷引导预烧及系统级测试(SLT)的系统及方法经配置以：从线内缺陷部分平均测试(I

一种系统包含通信地耦合到光学晶片特征化系统的检测器阵列的处理单元。所述处理单元经配置以执行包含以下步骤的方法或过程的一或多个步骤：从所述检测器阵列获取晶片上的目标位置的一或多个目标图像；将去噪滤波器应用到至少所述一或多个目标图像；从一或...