在半导体晶片的图像中确定关注区域。基于与所述关注区域相关联的设计文件中的多边形的形状将所述关注区域划分为次关注区域。接着，针对所述次关注区域执行直方图的噪声扫描。基于所述直方图的所述噪声扫描将所述次关注区域聚类成群组。注区域聚类成群组。...

计算用于半导体裸片的图案化层的光学成像的上下文属性。计算所述上下文属性包含计算所述图案化层的图案与多个核心的相应核心的卷积，其中所述多个核心是正交的。根据所述上下文属性寻找所述半导体裸片上的缺陷。下文属性寻找所述半导体裸片上的缺陷。下文...

本发明公开一种光罩检验系统，其可包含用于产生两组或更多组检验图像来特性化光罩的两个或更多个检验工具，其中所述两个或更多个检验工具包含提供所述光罩的检验图像的至少一个光罩检验工具。所述光罩检验系统可进一步包含控制器，其用于使来自所述两组或...

本文中呈现用于从采用低原子序数低温标靶的激光生成等离子体(LPP)产生X射线照明的方法及系统。将经高度聚焦短持续时间激光脉冲引导到低原子序数经低温冻结标靶，从而点燃等离子体。在一些实施例中，标靶材料包含具有小于19的原子序数的一或多种元...

一种计量工具可包含：照射源，其用以产生照射射束；射束整形器，其包含用以将所述照射射束引导到样本的可调整光学元件；及至少一个测量通道，其用以基于来自所述样本的经反射光而产生剪切干涉图，其中在所述可调整光学元件处于默认配置中且所述样本的顶部...

本文中呈现用于从采用液膜喷射标靶的激光产生等离子体(LPP)产生X射线照明的方法及系统。将经高度聚焦短持续时间激光脉冲引导到液膜喷射标靶。所述经聚焦激光脉冲与所述膜喷射标靶的相互作用点燃等离子体。在一些实施例中，液膜喷射由会聚毛细管喷嘴...

本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种系统包含第一深度学习(DL)网络，所述第一DL网络经配置以用于从在样品上检测到的缺陷候选者对滋扰进行滤波。所述第一DL网络的输出包含所述缺陷候选者中未作为所述滋扰被滤波的第一子集。所述系统...

将经渲染图像与扫描电子显微镜(SEM)图像对准以产生经对准经渲染图像。将参考图像与所述SEM图像对准以产生经对准参考图像。还生成阈值概率图。所述SEM图像及经对准参考图像的动态补偿可产生经校正SEM图像及经校正参考图像。可生成阈值缺陷图...

本发明公开一种用于减少图案掩模上的可印缺陷的系统。所述系统包含经配置以通信地耦合到特性化子系统的控制器，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器，所述程序指令引起所述一或多个处理器：引导所述特性化子系统执行掩模坯料的检测；基于...

本发明公开一种光电倍增管(PMT)检测器组合件，其包含PMT及模拟PMT检测器电路。所述PMT包含经配置以响应于吸收光子而发射一组初始光电子的光电阴极。所述PMT包含具有多个二次射极的二次射极链。所述二次射极链经配置以接收所述组初始光电...

本发明提供用于选择用于检验样品的模式的方法及系统。一种方法包含统计预测集合中的数据点是否对应于样品上的缺陷或扰乱点。所述数据点包含针对所述样品上的离散位置从通过检验系统的两个或更多个模式产生的输出确定的属性。已在所述离散位置处使用所述模...

使用第一计量数据及第二计量数据训练机器学习模型以基于装置区域的计量数据来预测计量目标的计量数据。所述第一计量数据是针对使用制造工艺制造的半导体裸片上的装置区域的多个例子。所述第二计量数据是针对含有与所述装置区域中的结构相异的结构的计量目...

本发明提供用于对准运用成像子系统的不同模式产生的样品的图像的方法及系统。一种方法包含将分别运用第一模式及第二模式产生的第一图像及第二图像分开地对准到所述样品的设计。对于所述第一图像中的所关注位置，所述方法包含针对所述所关注位置及所述第一...

本发明提供用于控制样本检验的工艺的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置用于确定针对样本上的关注区域的多个例项产生的差异图像的统计特性，及确定所述统计特性相较于针对一或多个其它样本上的所述关注区域的...

本发明公开一种检验系统。所述系统包含可与检验子系统通信地耦合的控制器，所述检验子系统经配置以接收来自样本的照射且产生图像数据。所述控制器包含一或多个处理器，其经配置以执行程序指令从而致使所述一或多个处理器：接收所述图像数据，其中所述图像...

本发明公开一种照明系统，其包含经配置以收容气体的气体收容容器。所述照明系统还包含经配置以产生一或多个泵浦光束的一或多个泵浦源。所述照明系统包含臭氧产生单元，其包含一或多个照明源。所述一或多个照明源经配置以产生足以将收容在所述气体收容容器...

本发明公开一种重叠计量学系统。所述重叠计量学系统包含经配置以与重叠计量学子系统以通信方式耦合的控制器。所述控制器接收来自所述重叠计量学子系统的重叠测量并产生一或多个质量度量。所述控制器从所述一或多个质量度量提取一组主成分。所述控制器产生...

本申请实施例涉及自参考和自校准干涉图案叠加测量。两对对准标靶(一对对齐，另一对错位一偏置距离)形成在不同的掩模上以产生第一对共轭干涉图案。另一对对准标靶也形成于掩模上以产生相较于该第一对倒置的第二对共轭干涉团。当使用该掩模所形成的图案被...

一种计量系统可包含用于在其中样本上的一或多个计量目标在测量期间静止的静态模式中或其中一或多个计量目标在测量期间处于运动中的扫描模式中选择性地执行计量测量的计量工具及通信地耦合到平移载物台及一或多个检测器中的至少一者的控制器。所述控制器可...

可根据1D偏移校正确定裸片的第一图像的关注区域。所述1D偏移校正可基于图像帧中的每一者的所述第一图像与第二图像之间的1D偏移，且也可基于所述图像帧中的每一者的设计与所述第二图像之间的1D偏移。所述关注区域可针对对准到所述设计的维度具有零...