用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法技术方案

本发明专利技术公开用于清洁覆盖检验系统的光学表面的系统

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法


[0001]本公开大体上涉及检验系统领域，包含具有极紫外光学系统的检验系统，且更特定来说，涉及检验系统的清洁光学元件
。

技术介绍

[0002]随着对具有更小特征的基于光刻的装置结构的需求不断增加，对用于光刻及检测光刻印刷这些不断缩小的装置的相关光罩的改进照明源的需求不断增长
。
光刻及检验系统中利用的某些此类照明源是利用极紫外
(EUV)、
真空紫外
(VUV)
光
、
深紫外光
(DUV)
或紫外
(UV)
光的检验系统
。
[0003]在许多情况下，检验系统，且尤其是其光学器件，需要在清洁
、
真空环境中操作
。
然而，倾向于污染真空环境的污染物无法从系统中完全移除
。
例如，当检验系统的组件
(
例如某些光学表面
)
含有不可避免的污染物时，情况就是如此
。
因此，检验系统的光学器件
(
在许多情况下位于真空室内
)
暴露于污染物的分压下，例如碳氢化合物及气相
H2O。
当这些污染物暴露于系统内的辐射
(
例如，可在照明过程期间的情况
)
时，将导致系统的碳及
/
或氧化物光学表面
(
例如反射镜
)
的生长
。
在反射镜的情况下，污染将导致反射率下降，导致入射到给定反射镜上的光发生相位变化
。
如果不加以控制，这两个影响将导致光学器件随着时间推移而退化，从而导致光学系统的失效
。
[0004]因此，期望提供一种处置上文识别的现有技术的缺陷的方法及系统
。

技术实现思路

[0005]根据本公开的一或多个实施例，公开一种光学系统
。
光学系统可包含经配置以产生光的第一照明源
。
在另一实施例中，光学系统可包含检测器
。
在另一实施例中，光学系统可包含一组照明光学器件，其经配置以接收来自所述第一照明源的所述光的至少一部分，且将所述光的至少一部分沿着照明轴引导到一或多个样品的一或多个样品表面
。
在另一实施例中，光学系统可包含一组成像光学器件，其经配置以接收来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分，且将来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分沿着成像轴引导到所述检测器
。
在另一实施例中，光学系统可包含第二照明源，其经配置以产生第一清洁光束且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第一清洁光束的至少一部分引导到所述一组照明光学器件
。
在另一实施例中，光学系统可包含第三照明源，其经配置以产生第二清洁光束，且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第二清洁光束的至少一部分引导到所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含一或多个室，其中所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件及所述检测器安置于所述一或多个室内，其中所述一或多个室中的每一者经配置以含有所选洗净气体，其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至少一者发生光反应，且其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至
少一者的光反应形成一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的至少一者，且其中一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的所述至少一者能够将来自所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者的一或多个光学表面的污染物转化为一或多个挥发性物种
。
[0006]根据本公开的一或多个实施例，公开一种光学系统
。
光学系统可包含经配置以产生光的第一照明源
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含检测器
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含一组照明光学器件，其经配置以接收来自所述第一照明源的所述光的至少一部分，且将所述光的至少一部分沿着照明轴引导到一或多个样品的一或多个样品表面
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含一组成像光学器件，其经配置以接收来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分，且将来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分沿着成像轴引导到所述检测器
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含第二照明源，其经配置以产生第一清洁光束且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第一清洁光束的至少一部分引导到所述一组照明光学器件
。
在另一实施例中，所述光学系统可包含一或多个室，其中所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件及所述检测器安置于所述一或多个室内，其中所述一或多个室中的每一者经配置以含有所选洗净气体，其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束发生光反应，且其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束的光反应形成一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的至少一者，且其中一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的至少一者能够将来自所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者的一或多个光学表面的污染物转化为一或多个挥发性物种
。
[0007]根据本公开的一或多个实施例，公开一种清洁光学表面的方法
。
在一个实施例中，所述方法包含将所选洗净气体提供到一或多个室
。
在另一实施例中，所述方法包含将一或多个清洁光束引导到所述一或多个室内的一或多个光学表面，其中所述一或多个清洁光束中的每一者与所述所选洗净气体发生光反应，且其中所述所选洗净气体与所述一或多个清洁光束的光反应形成一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的至少一者，且其中一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的所述至少一者能够将来自一或多个光学表面的污染物转化为一或多个挥发性物种以形成气态反应产物
。
在另一实施例中，所述方法包含从所述一或多个室中排空所述气态反应产物
。
[0008]应理解，前述一般描述及以下详细描述仅是示范性及解释性的，且未必是对所主张的本专利技术的限制
。
并入说明书中且构成说明书的一部分的附图说明本专利技术的实施例，且与一般描述一起用于解释本专利技术的原理
。
附图说明
[0009]所属领域的技术人员可通过参考附图更好地理解本公开的许多优点
。
[0010]图
1A
说明根据本公开的一或多个实施例的光学系统的概念图
。
[0011]图
1B
说明根据本公开的一或多个实施例的光学系统的概念图
。
[0012]图
1C...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种光学系统，其包括：第一照明源，其经配置以产生光；检测器；一组照明光学器件，其经配置以接收来自所述第一照明源的所述光的至少一部分，且将所述光的至少一部分沿着照明轴引导到一或多个样品的一或多个样品表面；一组成像光学器件，其经配置以接收来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分，且将来自所述一或多个样品表面的所述光的所述至少一部分沿着成像轴引导到所述检测器；第二照明源，其经配置以产生第一清洁光束且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第一清洁光束的至少一部分引导到所述一组照明光学器件；第三照明源，其经配置以产生第二清洁光束且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第二清洁光束的至少一部分引导到所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者；及一或多个室，其中所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件及所述检测器安置于所述一或多个室内，其中所述一或多个室中的每一者经配置以含有所选洗净气体，其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至少一者发生光反应，且其中所述所选洗净气体与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至少一者的光反应形成一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的至少一者，且其中一或多个离子物种或一或多个自由基物种中的所述至少一者能够将来自所述一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者的一或多个光学表面的污染物转化为一或多个挥发性物种
。2.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述光学系统经配置为掩模检验系统
。3.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第一清洁光束及所述第二清洁光束中的每一者经配置以照明与所述光相同的场平面
。4.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第二照明源及所述第三照明源中的每一者具有与所述第一照明源的数值孔径值相等的数值孔径值
。5.
根据权利要求3所述的光学系统，其中所述第一清洁光束及所述第二清洁光束中的每一者包括均匀照明或一或多个扫描光栅中的至少一者
。6.
根据权利要求2所述的光学系统，其中所述第一照明源包括宽带照明源
。7.
根据权利要求6所述的光学系统，其中所述第一照明源包括照明源，所述照明源经配置以产生极紫外光
、
真空紫外光
、
深紫外光或紫外光中的至少一者
。8.
根据权利要求2所述的光学系统，其中所述第一照明源包括窄带照明源
。9.
根据权利要求8所述的光学系统，其中所述第一照明源包括激光源，所述激光源经配置以产生具有约
355
纳米
、
约
266
纳米或约
193
纳米中的至少一者的波长的照明
。10.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第二照明源及所述第三照明源中的每一者经配置以产生至少紫外光
。11.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第一清洁光束包括具有在约
210
纳米与约
300
纳米之间的波长的紫外光
。12.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述第二清洁光束包括具有在约
210
纳米与
约
300
纳米之间的波长的紫外光
。13.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述所选洗净气体包括臭氧
、
氟或氮中的至少一者
。14.
根据权利要求
13
所述的光学系统，其中所述一或多个离子物种包括氧
、
氮或氟中的至少一者的一或多个离子
。15.
根据权利要求
13
所述的光学系统，其中所述一或多个自由基物种包括氧
、
氮或氟中的至少一者的一或多个自由基
。16.
根据权利要求1所述的光学系统，其中所述所选洗净气体包括两种或更多种气体的混合物
。17.
根据权利要求
14
所述的光学系统，其中所述一或多个离子经配置以经由所述污染物与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至少一者之间的一或多个光反应从一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者中移除所述污染物的一或多个元素，其中所述一或多个光反应在所述一或多个室内形成气态反应产物
。18.
根据权利要求
15
所述的光学系统，其中所述一或多个自由基经配置以经由所述污染物与所述第一清洁光束或所述第二清洁光束中的至少一者之间的一或多个光反应从一组照明光学器件
、
所述一组成像光学器件或所述检测器中的至少一者中移除所述污染物的一或多个元素，其中所述一或多个光反应在所述一或多个室内形成气态反应产物
。19.
根据权利要求
17
所述的光学系统，其进一步包括一或多个泵，所述泵经配置以从所述一或多个室中排空所述气态反应产物
。20.
根据权利要求
18
所述的光学系统，其进一步包括一或多个泵，所述泵经配置以从所述一或多个室中排空所述气态反应产物
。21.
一种光学系统，其包括：第一照明源，其经配置以产生光；检测器；一组照明光学器件，其经配置以接收来自所述第一照明源的所述光的至少一部分，且将所述光的至少一部分沿着照明轴引导到一或多个样品的一或多个样品表面；一组成像光学器件，其经配置以接收来自所述一或多个样品表面的所述光的至少一部分，且将来自所述一或多个样品表面的所述光的所述至少一部分沿着成像轴引导到所述检测器；第二照明源，其经配置以产生第一清洁光束且经由所述照明轴或所述成像轴中的至少一者将所述第一清洁光束的至少一部分引导到...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：