一种用于产生与经完全或部分制造的半导体装置晶片(FPFSDW)相关的质量度量的系统及方法，所述方法包含：提供使多个参考现场图像(RFI)与形成于参考半导体装置晶片上的至少一个参考结构上的对应多个参考光点位置(RSL)相互关联的光点图；进...

可散列半导体晶片的图像以确定所述图像中的每一者的固定长度散列串。可从所述散列串确定模式等同。可将所述模式等同分组。群组中的图像之间的类似性程度可经由汉明距离调整。此可用于各种应用，包含潜伏缺陷的确定。包含潜伏缺陷的确定。包含潜伏缺陷的确定。

本文中呈现用于估计指示半导体测量的一或多个性能特性的质量度量的值的方法及系统。将所述质量度量的所述值正规化以确保跨越宽广范围的测量方案的适用性。在一些实施例中，在测量推断期间确定每一测量样品的质量度量的值。在一些实施例中，采用经训练质量...

使用主激光束及副激光束检验半导体晶片。所述副激光束领先所述主激光束且具有低于所述主激光束的功率。使用所述副激光束，在所述半导体晶片上检测具有满足阈值的大小的粒子。响应于检测到所述粒子，降低所述主激光束的所述功率及所述副激光束的所述功率。...

本公开提供一种磁浸式电子枪及一种使用磁浸式电子枪产生电子束的方法。所述电子枪包含：磁透镜，其形成磁场；阴极尖端，其安置于所述磁场中；及多灯丝加热器，其经配置以直接加热所述阴极尖端以通过所述磁透镜发射电子。所述多灯丝加热器包含在每一端处连...

本发明公开一种叠对计量系统，其可包含照明子系统、集光子系统及控制器。所述照明子系统可包含一或多个照明光学器件，其经配置以在通过平移载物台沿着载物台扫描方向扫描样本时将照明光束引导到所述样本上的叠对目标，其中所述叠对目标包含具有拥有沿着所...

本发明提供用于设置样本的检验的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统，其经配置以获取样本的参考图像且修改所述参考图像以使所述参考图像适合于设计栅格以从而产生黄金栅格图像。所述一或多个计算机子系统还经配置以存储所述黄金栅格图像用于检...

本发明公开一种自适应对焦系统，其包含：光学模块；光学模块高度定位器(OMHP)；位置传感器，其可操作以产生指示所述光学模块的高度的位置输出；预测性高度估计器，其可操作以产生样本在多个位点的每一位点处的估计高度值且针对所述位点中的每一者产...

本发明提供用于选择用于对样品执行的工艺的工具的模式的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统及由所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含生成对抗网络(GAN)，例如条件GAN(cGAN)。所述计算机子系统经配...

一种叠加目标包含具有安置于样本上的底部光栅结构及安置于所述底部光栅结构上的顶部光栅结构的光栅覆光栅结构。所述叠加目标进一步包含包括所述底部光栅结构但不包含所述顶部光栅结构的校准扫描位置及包含所述顶部光栅结构及所述底部光栅结构的叠加扫描位...

本发明提供用于确定样品的信息的方法及系统。特定实施例涉及使用深度学习人工智能进行凸块高度3D检验及计量。例如，一个实施例包含深度学习(DL)模型，其经配置用于基于由成像子系统产生的样品的一或多个图像预测形成于所述样品上的一或多个3D结构...

一种计量目标包含具有形成于样本的第一工作区或第二工作区中的至少一者内的一或多个第一目标结构的第一目标结构组。所述计量目标包含具有形成于所述第一工作区或所述第二工作区中的至少一者内的一或多个第二目标结构的第二目标结构组。所述第一工作区可包...

本发明公开一种用于制造半导体装置晶片的小波分析系统及方法，所述系统包含：不对齐计量工具，其可操作以测量晶片上的至少一个测量位点，从而产生输出信号；以及基于小波的分析引擎，其可操作以通过将至少一个小波变换应用于所述输出信号来产生至少一个经...

一种系统包含真空室及经安置于所述真空室中的组件，所述组件在操作期间加热。所述系统还包含冷却管路，其经机械地耦合到所述组件以在操作期间使冷却液循环以冷却所述组件。所述系统进一步包含用于测量所述真空室中的总压的真空计及用于测量所述真空室中可...

本申请涉及系统响应的实时检测及校正。本发明实施例可包含用于校正电子束工具的响应函数的方法、系统及设备。所述校正可包含：调制具有频率的电子束参数；基于所述电子束参数朝向样本发射电子束，由此将电子散射，其中所述电子束由具有源相位及着陆角度的...

在图像对比度量中使用全局及局部对准能量。所述图像对比度量可用于寻找光学目标。可使用来自梯度幅值图像的一些像素及来自光学图像的背景内容范围图像来确定所述图像对比度量。接着可使用来自跨晶片的部分的所述图像对比度量的热图(heatmap)来制...

本发明公开一种扫描电子显微镜，其从光学检验系统接收晶片的结果文件。所述结果文件包含所述晶片上的锚定点。使用所述扫描电子显微镜产生所述晶片上的所述锚定点处的缺陷检查图像。将设计片段对准到所述锚定点处的所述缺陷检查图像，从而产生经对准缺陷检...

提供用于检测样本上的缺陷的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机系统及由所述一或多个计算机系统执行的一或多个组件。所述组件包含深度学习模型，其经配置用于针对样本上的位置从由高分辨率成像系统在所述位置处产生的高分辨率图像产生灰阶模拟设计数...

本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包括：一组装置特征，其在样本的第一层上；第一组目标特征，其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠；及第二组目标特征，其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠。第一组摩尔条纹及...

一种衬底处置机器人包含用于支撑衬底的端效应器及耦合到所述端效应器的臂以使所述端效应器在延伸位置与回缩位置之间平移。所述衬底处置机器人还包含外壳以至少部分地围封所述衬底，其中所述衬底位于所述回缩位置中的所述端效应器上。所述外壳包含喷淋器以...