本发明揭示具有涡旋气体流的激光维持等离子体(LSP)光源。所述LSP源包含：气体围阻结构，其用于容纳气体；一或多个气体入口，其经配置以使气体流到所述气体围阻结构中；及一或多个气体出口，其经配置以使气体流出所述气体围阻结构。所述一或多个气...

一种用于校正半导体晶片的偏移测量中因晶片倾斜而引起的误差的方法，所述方法包含：对于晶片上的至少一个位置，测量相对于所述晶片的第一照明布置中的计量装置的工具诱导转移(TIS)与相对于所述晶片的第二照明布置中的所述计量装置的TIS之间的差值...

本发明涉及晶片检查。本发明揭示一种经配置以检查晶片的系统，该系统包括照明子系统，其经配置以使由所述照明子系统将多个脉冲光束中的第一者引导到晶片上的区域在时间上早于将所述多个脉冲光束中的第二者引导到所述区域；扫描子系统，其经配置以使所述多...

本申请实施例涉及用于以层特定照明光谱的计量的系统及方法。本发明涉及一种计量系统，其包含图像装置及控制器。所述图像装置包含光谱可调照明装置及检测器，所述检测器用于基于响应于来自所述光谱可调照明装置的照明而从所述样本发出的辐射产生具有两个或...

本发明提供使用检验工具以确定用于样本的类计量的信息的方法及系统。一种方法包含从包含检验子系统的输出获取子系统产生的输出确定形成于样本上的第一区域中的第一特征的第一工艺信息。所述方法还包含从所述输出确定形成于所述样本的第二区域中的第二特征...

一种仪器化衬底设备经配置以测量波长分辨辐射，例如极紫外线辐射。所述仪器化衬底设备包含衬底及所述衬底上的光电传感器。所述光电传感器包含光发射材料、光电子收集器及测量电路。所述测量电路电耦合到所述光发射材料及所述光电子收集器。所述测量电路经...

根据本公开的一或多个实施例，公开一种电子束检验系统。所述检验系统可包含电子束源，其经配置以产生一或多个一次电子束。所述检验系统还可包含电子光学柱，其包含一组电子光学元件，所述电子光学元件经配置以将所述一或多个一次电子束引导到样品。所述检...

一种检查系统及操作方法引导光束朝向载台上的样本。样本是晶片级封装晶片或后端晶片。基于从样品反射的光执行缺陷检查。所述检查系统可使用以下中的一或多者：由浸入子系统供应的流体，所述子系统包含流体供应单元及流体去除单元；照明图案，其用于差分相...

本发明提供用于确定用于样本扫描的焦点设置的方法及系统。一种方法包含使用由输出获取子系统在样本上扫描的一或多个预聚焦条带中产生的输出，产生焦点图，界定为最佳焦点的值，作为所述样本上的位置的函数，所述输出获取子系统经配置以引导能量到样本，从...

将装置设计文件及材料特性输入到经配置以操作生成对抗网络的神经网络模块中。基于装置设计文件及材料特性输入，使用所述生成对抗网络来确定过程参数。此可用于在半导体装置设计或制造期间提供过程参数。计或制造期间提供过程参数。计或制造期间提供过程参数。

一种用于特性化由第一晶片及在接口处接合的第二晶片形成的在所述接口附近具有计量目标的样本的计量系统可包含计量工具及控制器。所述计量工具可包含一或多个照明源及用于将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述计量目标的照明子系统、检测器及用于收集...

本文描述用于测量晶片在X射线散射测量位置处或X射线散射测量位置附近的定向的方法及系统。在一个方面中，一种以X射线散射测量为基础的计量系统包含在没有中介载台移动的情况下基于单个测量来测量晶片定向的晶片定向测量系统。在一些实施例中，定向测量...

本文中呈现用于实现基于高密度电子发射器阵列的高辐射X射线源的方法及系统。所述高辐射X射线源适合于半导体制造环境中的高通量X射线计量及检验。所述高辐射X射线源包含产生聚焦于小阳极区域上以产生高辐射X射线照明光的大电子电流的电子发射器阵列。...

本申请实施例涉及包含具有硼层的硅衬底上的场发射器的多柱电子束光刻。一种多柱电子束装置包含电子源，所述电子源包括制造在硅衬底的表面上的多个场发射器。为防止所述硅氧化，将薄的连续硼层直接安置在所述场发射器的输出表面上。所述场发射器可呈各种形...

本揭露实施例涉及一种用于粒子检测的系统和方法。一种暗场检验系统，其可包含：照明源，其用于产生照明光束；一或多个照明光学器件，其用于将所述照明光束沿着照明方向按离轴角引导到样本；检测器；一或多个集光光学器件，其用于基于响应于所述照明光束从...

本发明涉及用于以由空间选择性波长滤波器所修改的照明源将样本成像的系统及方法。所述系统包含波长滤波子系统、样本载台、照明子系统、检测器，及用以聚集来自一或多个样本的表面的照明且将所述聚集的照明聚焦到所述检测器的物镜。此外，所述波长滤波子系...

本公开提供了用于在样本上的阵列区域中检测缺陷的方法及系统。一种方法包含确定由检验子系统针对样本在阵列区域中产生的输出中分页的中心。所述分页分离所述阵列区域中的单元区域，并且所述单元区域包含重复的经图案化特征。所述方法还包含：确定所述输出...

一种可调谐滤光片可包含输入聚焦光学器件、输出聚焦光学器件、经定位于所述输入聚焦光学器件的后焦平面及所述输出聚焦光学器件的前焦平面处的线性变化滤光片、经定位于所述输入聚焦光学器件的前焦平面处的经配置以接收输入光束的输入角度扫描组件及经定位...

本申请实施例涉及基于阵列的表征工具。一种扫描电子显微术SEM系统包含多个电子束源，该多个电子束源经配置以产生初级电子束。该SEM系统包含具有多个电子光学柱的电子光学柱阵列。电子光学柱包含多个电子光学元件。该多个电子光学元件包含偏转器层，...

本发明公开一种制造电磁体的方法，其包含获得包含一或多个第一导电线圈迹线的第一柔性PCB及获得包含一或多个第二导电线圈迹线的第二柔性PCB。所述第一柔性PCB弯曲成具有至少一个曲线或转角的形状。在将所述第一柔性PCB弯曲成所述形状之后，接...