本发明提供用于选择用于检验样品的模式的方法及系统。一种方法包含统计预测集合中的数据点是否对应于样品上的缺陷或扰乱点。所述数据点包含针对所述样品上的离散位置从通过检验系统的两个或更多个模式产生的输出确定的属性。已在所述离散位置处使用所述模...

使用第一计量数据及第二计量数据训练机器学习模型以基于装置区域的计量数据来预测计量目标的计量数据。所述第一计量数据是针对使用制造工艺制造的半导体裸片上的装置区域的多个例子。所述第二计量数据是针对含有与所述装置区域中的结构相异的结构的计量目...

本发明提供用于对准运用成像子系统的不同模式产生的样品的图像的方法及系统。一种方法包含将分别运用第一模式及第二模式产生的第一图像及第二图像分开地对准到所述样品的设计。对于所述第一图像中的所关注位置，所述方法包含针对所述所关注位置及所述第一...

本发明提供用于控制样本检验的工艺的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置用于确定针对样本上的关注区域的多个例项产生的差异图像的统计特性，及确定所述统计特性相较于针对一或多个其它样本上的所述关注区域的...

本发明公开一种检验系统。所述系统包含可与检验子系统通信地耦合的控制器，所述检验子系统经配置以接收来自样本的照射且产生图像数据。所述控制器包含一或多个处理器，其经配置以执行程序指令从而致使所述一或多个处理器：接收所述图像数据，其中所述图像...

本发明公开一种照明系统，其包含经配置以收容气体的气体收容容器。所述照明系统还包含经配置以产生一或多个泵浦光束的一或多个泵浦源。所述照明系统包含臭氧产生单元，其包含一或多个照明源。所述一或多个照明源经配置以产生足以将收容在所述气体收容容器...

本发明公开一种重叠计量学系统。所述重叠计量学系统包含经配置以与重叠计量学子系统以通信方式耦合的控制器。所述控制器接收来自所述重叠计量学子系统的重叠测量并产生一或多个质量度量。所述控制器从所述一或多个质量度量提取一组主成分。所述控制器产生...

本申请实施例涉及自参考和自校准干涉图案叠加测量。两对对准标靶(一对对齐，另一对错位一偏置距离)形成在不同的掩模上以产生第一对共轭干涉图案。另一对对准标靶也形成于掩模上以产生相较于该第一对倒置的第二对共轭干涉团。当使用该掩模所形成的图案被...

一种计量系统可包含用于在其中样本上的一或多个计量目标在测量期间静止的静态模式中或其中一或多个计量目标在测量期间处于运动中的扫描模式中选择性地执行计量测量的计量工具及通信地耦合到平移载物台及一或多个检测器中的至少一者的控制器。所述控制器可...

可根据1D偏移校正确定裸片的第一图像的关注区域。所述1D偏移校正可基于图像帧中的每一者的所述第一图像与第二图像之间的1D偏移，且也可基于所述图像帧中的每一者的设计与所述第二图像之间的1D偏移。所述关注区域可针对对准到所述设计的维度具有零...

本发明公开一种基于图像的叠加计量系统。所述系统包含可耦合到计量子系统的控制器。所述控制器经配置以从所述计量子系统接收安置于样本上的第一计量目标的一组图像信号，且通过计算所述多个图像信号中的每一者的谐波检测率度量值而确定多个谐波检测率度量...

可将所关注缺陷及扰乱点分离成不同片段，这使得能够仅在一个片段中检测所述所关注缺陷。可将图像的区域分段成多个片段。可确定所述片段的范围属性。可使用阈值以从所述范围属性选择所述片段中的一者。可扩展所选择的所述片段。片段。片段。

本申请实施例涉及深紫外DUV连续波CW激光及产生DUV CW激光辐射的方法。一种深紫外DUV连续波CW激光包含：基波CW激光，其经配置以产生具有在约1μm与1.1μm之间的对应波长的基波频率；三次谐波产生器模块，其包含一或多个周期性极化...

本发明公开一种宽带光源。所述宽带光源包含可旋转气体围阻结构。所述宽带光源包含经配置以使所述可旋转气体围阻结构绕所述可旋转气体围阻结构的水平旋转轴旋转的旋转驱动系统。所述宽带光源包含：泵浦源，其经配置以产生泵浦照明；及反射器元件，其经配置...

公开一种扫描电子显微镜(SEM)系统。所述SEM系统包含经配置以产生电子射束的电子源及经配置以跨样本扫描所述电子射束且将通过所述样本散射的电子聚焦到一或多个成像平面上的一组电子光学器件。所述SEM系统包含定位于所述一或多个成像平面处的第...

一种光调制电子源利用光子束源来调制从硅基场发射器发射的电子束的发射电流。所述场发射器的阴极包含突出部，所述突出部经制造于硅衬底上且具有由涂层覆盖的发射尖端。提取器产生电场，所述电场将自由电子吸引朝向所述发射尖端以用于作为所述电子束的部分...

一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具...

一种计量系统可包含照射子系统以用具有对称离轴照射轮廓的照射来照射样本上的计量目标，其中所述对称离轴照射轮廓沿着一或多个测量方向而对称，且其中所述照射子系统以同时方式或顺序方式中的至少一者提供所述对称离轴照射轮廓中来自相对角的照射。所述计...

针对半导体检验图像，可基于在像素强度下的概率密度函数确定检测阈值。可接着将所述检测阈值应用到图像。这可通过估计基础数据的概率分布且调适所述检测阈值而在全部像素强度水平下以固定概率寻找离群点。可基于所述检测阈值优化激光功率。阈值优化激光功...

本发明公开一种光学特性化系统及其使用方法。所述系统包括经配置以与经配置以从样本接收照明且产生图像数据的一或多个检测器通信地耦合的控制器。一或多个处理可经配置以：接收所述样本上的裸片的图像；计算所述图像的所有组合的相异性值；执行集群分析以...