本发明公开一种用于特征化系统的宽带紫外线照明源。所述宽带紫外线照明源包含：外壳，其具有一或多个壁，所述外壳经配置以容纳气体；及等离子体放电装置，其基于石墨烯

本发明涉及一种数据驱动的错位参数配置与测量的系统及方法，所述方法包含：使用多个测量参数配置集来模拟选自旨在为相同的一批多层半导体装置中的至少一个多层半导体装置的多个测量模拟，由此产生所述至少一个多层半导体装置的模拟数据；识别选自所述多个...

本发明公开一种多镜激光维持等离子体宽带光源。所述光源可包含用于容纳气体的气体容纳结构。所述光源包含经配置以生成泵浦照明的泵浦源及经配置以将所述泵浦照明的一部分引导到所述气体中以维持等离子体的第一反射器元件。所述第一反射器经配置以收集从所...

本发明涉及一种用于计算形成于半导体装置晶片上的至少第一层、第二层与第三层之间的偏移的多层莫尔目标，其包含周期性结构堆叠的至少一个群组，所述至少一个群组各自包含：第一堆叠，其包含第一堆叠第一周期性结构(S1P1)，所述S1P1沿着第一轴具...

本申请实施例涉及用于高通量电子束设备的散热消隐系统。本发明揭示一种电子束设备，其通过使热量均匀扩散于孔径光阑上来解决由高功率热量消散到孔径光阑上所导致的消隐问题。所述设备可包含孔径光阑及使电子束偏转到所述孔径光阑上的偏转器。电子束以围绕...

使用关于晶片的几何形状的数据，沿起源于沿所述晶片的圆周的不同点处的至少三个直径测量所述晶片的所述几何形状。使用所述三个直径确定所述晶片的所述几何形状的表征。可基于所述表征确定所述晶片的晶片夹持失败的概率。所述表征确定所述晶片的晶片夹持失...

第二载台安置于第一载台上。所述第二载台提供六自由度。固持工件的卡盘安置于所述第二载台上。实现三个方向上的移动的致动器安置于所述第二载台上。在检验所述卡盘上的所述工件期间，所述第一载台及所述第二载台独立于彼此移动。移动。移动。

本申请涉及用于半导体晶片检验及计量的系统及方法。本申请揭示一种基于正规化信号及反射总强度来确定例如晶片上的层的厚度、表面粗糙度、材料浓度，及/或临界尺寸等值的系统。光源将光束引导于所述晶片的表面处。传感器接收经反射光束且提供至少一对偏振...

一种在半导体装置制造中使用的多工具参数集校准及偏移测量方法包含：使用至少一第一参考偏移计量工具，使用第一测量参数集以测量一批次晶片的晶片上的至少两层之间的偏移，借此产生第一偏移数据集；将所述第一参数集及所述数据集传输到经校准测量参数集产...

本发明提供用于光源在空腔中的压力控制的方法及系统。一个系统包含经配置用于测量光源在空腔中的压力的气压传感器。所述系统还包含经配置用于控制所述空腔中的一或多个气体的量的一或多个气流元件。另外，所述系统包含经配置用于比较所述经测量压力与所述...

一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向分布的单元...

一种第一x

一种用于半导体装置晶片的制造中的偏移的测量的方法，所述方法包含：在第一例子测量半导体装置晶片的层之间的偏移且提供第一偏移指示；在第二例子测量半导体装置晶片的层之间的偏移且提供第二偏移指示；响应于所述第一偏移指示与所述第二偏移指示之间的差...

本发明公开一种清洁组合件。所述清洁组合件包含衬底。一或多个图案形成于所述衬底的底侧上。当所述衬底定位于夹具上时，所述一或多个图案内的一或多个结构经由静电吸引或机械捕集中的至少一者从所述夹具吸引一或多个颗粒。粒。粒。

本发明涉及用于测量衬底及膜厚度分布的系统及方法。本系统包含经配置以测量跨衬底的平坦度的双干涉仪子系统。所述系统包含经配置以测量所述衬底的质量的质量传感器。所述系统包含通信地耦合到所述双干涉仪子系统及所述质量传感器的控制器。所述控制器包含...

本发明涉及用于X射线散射测量系统的全光束度量。本文中描述用于通过全光束X射线散射测量而特性化半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。全光束X射线散射测量涉及使用X射线光束照明样本且同时针对相对于所述样本的一或多个入射角检测所得零衍射级及...

与常规光学材料相比，将四硼酸锶用作在半导体检验及计量系统中利用的光学组件的光学涂覆材料，以利用其高折射率、高光学破坏阈值及高的微硬度。至少一个四硼酸锶层形成在光学组件的衬底的光接收表面上，使得其厚度用于增大或减小所述光学组件的反射比。一...

本申请实施例涉及一种可密封容器，其用于将一或多个衬底运送通过半导体工厂，其包括：外壳，其经配置以容纳仪器化衬底，其中所述仪器化衬底包含一或多个传感器，其中所述一或多个传感器经配置以在所述可密封容器将所述仪器化衬底运送通过所述半导体工厂的...

本申请实施例涉及用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法。本发明揭示用于凭借具有光学相干断层摄影术OCT聚焦系统的干涉仪装置通过分别引导经重叠测量波前及参考波前朝向聚焦传感器及朝向成像传感器进行聚焦且测量的方法及系统；其中引导所...

本发明涉及一种照明源，其可包含两个或更多个输入光源、集光器，及光束均匀器、散斑减少器或任何数目个输出光纤的任何组合，以提供所选择的照明光展量(etendue)。所述集光器可包含一或多个透镜以将来自所述两个或更多个输入光源的照明组合成照明...