显示摩尔效应的类装置的叠加计量目标制造方法及图纸

技术编号:36769758 阅读:10 留言:0更新日期:2023-03-08 21:39
本发明专利技术公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包括:一组装置特征,其在样本的第一层上;第一组目标特征,其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠;及第二组目标特征,其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠。第一组摩尔条纹及第二组摩尔条纹的相对位置指示所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。述样本的所述第二层之间的叠加误差。述样本的所述第二层之间的叠加误差。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示摩尔效应的类装置的叠加计量目标
[0001]相关申请案的交叉引用
[0002]本申请案依据35U.S.C.
§
119(e)主张2020年7月9日申请的标题为“具有摩尔效应的类装置目标(DEVICE LIKE TARGETS WITH MOIRE EFFECT)”、将罗伊
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沃尔科维奇(Roie Volkovich)、利兰
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叶鲁沙尔米(Liran Yerushalmi)、拉维夫
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约哈南(Raviv Yohanan)及马克
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吉诺夫克(Mark Ghinovker)命名为公开人的第63/049,637号美国临时申请案的权益,所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。


[0003]本公开大体上涉及成像叠加计量,且更特定来说,涉及具有摩尔元件的成像叠加目标。

技术介绍

[0004]叠加计量的缩小的设计规则及更苛刻的规范驱使对叠加计量方法的灵敏性及稳健性的需求增加。叠加计量通常通过在多个所关注样本层中制造具有所制造特征的专用计量目标来执行。据此,所制造计量目标的分析可提供所关注样本层之间的叠加误差(例如,相对对准误差)的测量。虽然已提出各种各样的叠加计量目标设计,但仍需要不断改进计量目标设计以及测量方法以准确地且有效地分析所制造计量目标。

技术实现思路

[0005]根据本公开的一或多个阐释性实施例公开一种叠加计量目标。在一个阐释性实施例中,所述叠加计量目标包括样本的第一层上的一组装置特征。所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量目标包括在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠的第一组目标特征。所述第一组目标特征以第一测量周期为周期,且选择所述第一测量周期以当通过检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量目标包括在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠的第二组目标特征。所述第二组目标特征以第二测量周期为周期,且选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹。在另一阐释性实施例中,所述第一组摩尔条纹及所述第二组摩尔条纹的相对位置指示所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。
[0006]根据本公开的一或多个阐释性实施例公开一种叠加计量系统。在一个阐释性实施例中,所述叠加计量系统包括用来照明样本的照明源。所述样本包含叠加目标,所述叠加目标包括所述样本的第一层上的一组装置特征,其中所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期。所述样本进一步包含在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠的第一组目标特征,其中所述第一组目标特征以第一测量周期为周期。所述样本进一步包含在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠的第二组目标特征,其中所述第二组
目标特征以第二测量周期为周期。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量系统包括经配置以当被所述照明源照明时使所述叠加目标成像的检测器,其中选择所述第一测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹,且选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量系统包括与所述检测器通信地耦合的控制器。所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器,所述程序指令致使所述一或多个处理器:接收所述叠加目标的图像;测量所述第一摩尔条纹及所述第二摩尔条纹在所述图像中的相对位置作为表观叠加误差;及凭借通过与所述装置周期、所述第一测量周期及所述第二测量周期相关联的摩尔增益因子调整所述表观叠加误差来确定所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。
[0007]根据本公开的一或多个阐释性实施例公开一种叠加计量方法。在一个阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括在样本的第一层上制造一组装置特征,其中所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括在所述样本的第二层上制造第一组目标特征且使其与所述一组装置特征重叠。所述第一组目标特征以第一测量周期为周期,且选择所述第一测量周期以当通过检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括在所述样本的所述第二层上制造第二组目标特征且使其与所述一组装置特征重叠。所述第二组目标特征以第二测量周期为周期,且选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹。
[0008]根据本公开的一或多个阐释性实施例公开一种叠加计量方法。在一个阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括使用照明源照明样本。所述样本包含叠加目标,所述叠加目标包括:一组装置特征,其在所述样本的第一层上,其中所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期;第一组目标特征,其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第一组目标特征以第一测量周期为周期;及第二组目标特征,其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第二组目标特征以第二测量周期为周期。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括使用检测器使所述叠加目标成像,其中选择所述第一测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹,且选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹。在另一阐释性实施例中,所述叠加计量方法包括使用与所述检测器通信地耦合的控制器:(1)接收所述叠加目标的图像;(2)测量所述第一摩尔条纹及所述第二摩尔条纹在所述图像中的相对位置作为表观叠加误差;及(3)凭借通过与所述装置周期、所述第一测量周期及所述第二测量周期相关联的摩尔增益因子调整所述表观叠加误差来确定所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。
[0009]应理解,前文一般描述及下文详细描述两者仅为实例性及阐释性的且如所主张那样不一定限制本专利技术。并入说明书中且构成说明书的一部分的附图说明本专利技术的实施例且连同所述一般描述一起用来解释本专利技术的原理。
附图说明
[0010]通过参考附图,所属领域的技术人员可更好地理解本公开的众多优点,其中:
[0011]图1是根据本公开的一或多个实施例的计量系统的框图视图。
[0012]图2A是根据本公开的一或多个实施例的具有基于多个旋转对称工作区中的光栅上光栅结构的摩尔图案的计量目标的俯视平面图。
[0013]图2B是根据本公开的一或多个实施例的图2A的摩尔图案中的多层光栅结构的俯视平面图。
[0014]图2C是根据本公开的一或多个实施例的基于图2A及2B的用于沿着两个正交方向测量的计量目标的俯视平面图。
[0015]图3说明根据本公开的一或多个实施例的由两个光栅层的干涉引起的表观摩尔周期。
[0016]图4说明根据本公开的一或多个实施例的其中摩尔图案层与装置层重叠的计量目标本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种叠加计量目标,其包括:一组装置特征,其在样本的第一层上,其中所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期;第一组目标特征,其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第一组目标特征以第一测量周期为周期,其中选择所述第一测量周期以当通过检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹;及第二组目标特征,其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第二组目标特征以第二测量周期为周期,其中选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹,其中所述第一组摩尔条纹及所述第二组摩尔条纹的相对位置指示所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。2.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中可通过将所述第一组摩尔条纹及所述第二组摩尔条纹的所述相对位置除以与所述装置周期、所述第一测量周期及所述第二测量周期相关联的摩尔增益因子来确定所述叠加误差。3.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中所述一组装置特征包括:所述样本的所述第一层上的全组装置特征的一部分的复制部分。4.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中所述一组装置特征包括:所述样本的所述第一层上的全组装置特征的一部分。5.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中所述第二测量周期不同于所述第一测量周期。6.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中所述装置周期低于所述检测器的分辨率。7.根据权利要求1所述的叠加计量目标,其中所述一组装置特征对应于随机存取存储器特征。8.根据权利要求7所述的叠加计量目标,其中所述随机存取存储器(RAM)特征包括:动态随机存取存储器(DRAM)特征或静态随机存取存储器(SRAM)特征中的至少一者。9.一种叠加计量系统,其包括:照明源,其用来照明样本,其中所述样本包含叠加目标,所述叠加目标包括:一组装置特征,其在所述样本的第一层上,其中所述一组装置特征的至少一部分以装置周期为周期;第一组目标特征,其在所述样本的第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第一组目标特征以第一测量周期为周期;及第二组目标特征,其在所述样本的所述第二层上且与所述一组装置特征重叠,其中所述第二组目标特征以第二测量周期为周期;检测器,其经配置以当被所述照明源照明时使所述叠加目标成像,其中选择所述第一测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第一组摩尔条纹,且选择所述第二测量周期以当通过所述检测器使所述目标成像时提供所述检测器可见的第二组摩尔条纹;及控制器,其与所述检测器通信地耦合,所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器,所述程序指令致使所述一或多个处理器:
接收所述叠加目标的图像;测量所述第一摩尔条纹及所述第二摩尔条纹在所述图像中的相对位置作为表观叠加误差;及凭借通过与所述装置周期、所述第一测量周期及所述第二测量周期相关联的摩尔增益因子调整所述表观叠加误差来确定所述样本的所述第一层与所述样本的所述第二层之间的叠加误差。10.根据权利要求9所述的叠加计量系统,其中所述一组装置特征包括:所述样本的所述第一层上的全组装置特征的一部分的复制部分。11.根据权利要求9所述的叠加计量系统,其中所述一组装置特征包括:所述样本的所述第一层上的全组装置特征的一部分。12.根据权利要求9所述的叠...

【专利技术属性】
技术研发人员:R
申请(专利权)人:科磊股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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