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科磊股份有限公司专利技术
科磊股份有限公司共有973项专利
有噪声经图案化特征的检验制造技术
本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种系统包含:检验子系统,其经配置以产生样品的图像;及一或多个计算机子系统,其经配置以用于检测所述样品上的缺陷候选者。检测所述缺陷候选者包含识别所述样品的所述所产生图像中所包含的测试图像中的经...
使用机器学习的半导体叠对测量制造技术
获得展示第一过程层中的一或多个结构及第二过程层中的一或多个结构的半导体裸片的部分的图像。使用机器学习,在所述图像上定义至少部分包含所述第一过程层中的所述一或多个结构的第一区域。还使用机器学习,在所述图像上定义至少部分包含所述第二过程层中...
用于测量对角线基于衍射叠加目标的度量系统及方法技术方案
根据本公开的一或多个实施例,公开一种度量系统。所述度量系统包含经配置以固定样本的载物台,一或多个基于衍射叠加(DBO)度量目标安置于所述样本上。所述度量系统包含光源及一或多个传感器。所述度量系统包含经配置以将来自所述光源的照明光引导到所...
针对含样品内及样品间变异的样品使用无监督学习及适应性数据库产生方法的图像对准设置技术
本发明提供用于确定用于在对样品执行的过程中使用的一或多个对准参数的方法及系统。一种方法包含:确定通过成像系统针对样品上的两对或更多对裸片中的每一者中的对应位置产生的图像之间的类似性的测量;及基于类似性的所述经确定测量执行集群分析以识别最...
用于在样本运输装置内控制氧气及湿度水平的微型环境系统制造方法及图纸
本发明公开一种微型环境设备。所述设备可包含壳体,其包含具有两个或更多个开口的框架。所述框架可界定所述壳体内的内腔。所述设备可包含耦合到所述框架的一部分的挡板叶片。所述挡板叶片可经配置以当所述挡板叶片处于闭合位置中时闭合所述框架的所述两个...
用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法技术方案
本申请揭示一种用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法。一种用于形成激光维持等离子体的系统包含:气体围阻元件;照明源,其经配置以产生泵激照明;及集光器元件,其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体...
利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测制造技术
本申请实施例涉及利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测。一种暗场检验系统可包含:照射源,其用以产生照射束;照射光学器件,其经配置以将所述照射束沿着照射方向以离轴角度引导到样本;聚光光学器件,其用以在暗场模式中响应于所述照射束而聚...
混合检验器制造技术
本申请实施例涉及混合检验器。一种系统包含计算机子系统,其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统,其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些...
通过组合来自多个收集通道的信息的设计与晶片图像相关性制造技术
能够使用光学检验系统形成半导体晶片上的特征的至少三个暗场图像。所述至少三个暗场图像中的每一者来自使用在图像产生期间完全敞开的孔隙的所述光学检验系统的不同通道。所述暗场图像能够被融合到与对应设计对准的伪晶片图像中。这种对准能够改进关照区域...
启用扫描电子显微镜成像,同时防止半导体制造工艺中使用的敏感层受到样本损坏制造技术
在半导体晶片的电子束成像期间,针对所述半导体晶片上的位点的图像帧抓取将电子束调整到低于损坏阈值的第一电子剂量/nm2/时间值。接着,针对所述位点的第二图像帧抓取将所述电子束调整到不同于所述第一电子剂量/nm2/时间值的第二电子剂量/nm...
脱层缺陷的边缘轮廓检验制造技术
可执行对半导体晶片图像的轮廓图像的检验,以便检测晶片边缘附近的脱层。为了估计参考图像,确定无缺陷轮廓边缘,并且从所述无缺陷轮廓边缘产生所述参考图像。从所述参考图像及所述轮廓图像确定差图像。在二值化之后,对所述差图像执行检验。所述差图像执...
用于经埋藏计量目标的成像系统技术方案
一种计量系统可包含对埋藏于样本中的计量目标进行成像的成像子系统,其中所述样本是由在接口处具有计量目标的经接合的第一及第二衬底形成。所述计量系统可进一步包含具有照明场光阑及照明光瞳的照明子系统,其中所述照明场光阑包含孔径以使得所述场光阑孔...
用于晶片对准的系统、方法及目标技术方案
本发明公开一种晶片对准系统,其包含成像子系统、控制器及载物台。所述控制器接收参考点目标的图像数据且确定所述参考点目标中的每一者的中心位置。所述中心位置确定包含识别相应参考点目标内的子图案及识别所述相应参考点目标的多个中心位置候选者。识别...
用于重叠的测量模式制造技术
一种重叠度量工具可包含:照射源;照射光学器件,其用以使一或多个照射束照射具有周期性特征的重叠目标;聚集光学器件,其用以将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器;可调整光瞳掩模,其位于光瞳面处;及控制器。所述可调整光瞳掩模可包含...
训练机器学习模型以从检验图像产生较高分辨率图像制造技术
提供用于确定样本的信息的方法及系统。本文中所描述的实施例经配置以训练用于从由检验子系统产生的样本的图像产生所述样本的较高分辨率图像的机器学习(ML)模型。所述训练包含仅使用模拟图像执行的预训练步骤及使用测试样本的实际图像执行的重新训练步...
用于扫描计量的计量目标制造技术
本申请实施例涉及用于扫描计量的计量目标。一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器,所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像,其中所述计量目标包括:第一测量群组,其包...
183纳米激光器及检验系统技术方案
本揭露实施例涉及一种183纳米激光器及检验系统。一种用于产生处于大约183nm的输出波长的激光器输出光的激光器组合件包含基频激光器、光学参数系统OPS、五次谐波产生器及混频模块。基频激光器产生处于基频频率的基频光。OPS产生处于经下变频...
使用深度学习方法的缺陷尺寸测量技术
一种系统具有经配置以接收从晶片反射的光束的检测器。例如,可使用三个检测器。所述检测器中的每一者是不同通道。将来自所述检测器的图像组合成伪彩色RGB图像。卷积神经网络单元(CNN)可接收所述伪彩色RGB图像且确定所述伪彩色RGB图像中的缺...
用于旋转光学物镜的设备及方法技术
一种暗场光学系统可包含旋转物镜组合件,所述旋转物镜组合件具有:暗场物镜,其在集光数值孔径内从样本收集光,其中所述暗场物镜包含相对于光学轴成对称相对方位角的入口孔隙及出口孔隙;旋转轴承,其允许包含所述入口孔隙及所述出口孔隙的所述暗场物镜的...
多控制器检验系统技术方案
公开一种检验系统。所述检验系统包含经配置以从缺陷检验工具接收图像数据的共享存储器,及通信地耦合到所述共享存储器的控制器。所述控制器包含:主机图像模块,其经配置以使用中央处理单元(CPU)架构将一或多种通用缺陷检验算法应用于所述图像数据;...
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