科磊股份有限公司专利技术

科磊股份有限公司共有1155项专利

  • 本发明公开一种激光维持宽带光源。所述光源可包含容纳第一惰性气体与第二惰性气体的混合物的气体容纳结构。所述光源可包含激光泵浦源以产生光学泵浦以在所述气体容纳结构内维持等离子体。所述第一惰性气体吸收第一波长带及第二波长带内的宽带光。所述光源...
  • 一种在计量系统中的振荡二级平台。所述计量系统包含经配置用于长移动以将晶片从一个位置输送到另一位置的初级平台。耦合到所述初级平台的二级平台固持所述晶片,经配置以在第一方向与一第二方向之间振荡。所述第二平台的所述振荡允许在所述初级平台移动时...
  • 本发明涉及晶片检查。本发明揭示一种经配置以检查晶片的系统,该系统包括照明子系统,其经配置以使由所述照明子系统将多个脉冲光束中的第一者引导到晶片上的区域在时间上早于将所述多个脉冲光束中的第二者引导到所述区域;扫描子系统,其经配置以使所述多...
  • 本目标涉及用于量化酸铜镀浴中从原材料产生的不稳定或分解产物,例如双(3‑磺丙基)‑二硫化物(SPS)的技术。所公开技术包含将氧化剂掺入到铜浴液中且分析HPLC响应以准确及精确地量化所述不稳定或分解的绝对值。
  • 本发明所公开的标的物涉及用于测量金处理液中的金(Au)浓度的基于滴定的测定方法的技术。示范性方法可包括添加络合剂和/或pH调节剂以在滴定曲线中实现急剧拐点。
  • 一种系统包含:光源,其经配置以在一或多个波长、一或多个入射角(AOI)及一或多个方位角下发射光;偏光组合件,其经配置以产生所述光的一或多个偏光状态;主物镜,其经配置以将处于所述一或多个偏光状态的所述光聚焦到反射所述光的目标上;分析器组合...
  • 本申请涉及使用叠加目标的场对场校正。一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计,所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝...
  • 本文中描述用于校准由参数测量模型产生的模拟测量信号的方法及系统。使用参数模型执行对真实测量信号的回归。所述真实测量信号与由所述参数模型产生的模拟测量信号之间的残余拟合误差特性化所述参数模型在一或多个浮动参数的估计值的每一集合下的误差。模...
  • 本发明实施例涉及一种多镜激光维持等离子体光源。所述光源可包含用于容纳气体的气体容纳结构。所述光源包含经配置以生成泵浦照明的泵浦源及经配置以将所述泵浦照明的一部分引导到所述气体中以维持等离子体的第一反射器元件。所述第一反射器经配置以收集从...
  • 本申请涉及六自由度工件载台。第二载台安置于第一载台上。所述第二载台提供六自由度。固持工件的卡盘安置于所述第二载台上。实现三个方向上的移动的致动器安置于所述第二载台上。在检验所述卡盘上的所述工件期间,所述第一载台及所述第二载台独立于彼此移动。
  • 本发明公开一种用于检验工具的宽带等离子体源中的等离子体灯。所述等离子体灯包含等离子体灯泡,所述等离子体灯泡经配置以容纳气体且在所述等离子体灯泡内产生等离子体。所述等离子体灯泡是由对来自泵浦激光的照明及由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一...
  • 本发明揭示一种高功率宽频带照明源。用于产生宽频带辐射的系统包含目标材料源,其经配置以将液态或固态目标材料中的一或多者输送到腔室的等离子体形成区域。所述系统进一步包含泵源,其经配置以产生泵辐射来激发所述腔室的所述等离子体形成区域中的所述目...
  • 本申请实施例涉及用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统及方法。本发明公开用于清洁覆盖检验系统的光学表面的系统。特定来说,公开用于投影成像系统中的临场式光化学清洁的光的光学路径耦合的系统。一种用于清洁覆盖检验系统的光...
  • 在半导体晶片检验期间,将半导体晶片的图像划分为片段。使用差分图像确定所述片段中的每一者的标准偏差。接着将阈值应用到所述片段中的每一者。所述阈值可为所述标准偏差的倍数。在应用所述阈值之后确定所述图像中包含缺陷的像素。接着使用处理器将所述阈...
  • 一种用于半导体可靠性故障的Z‑PAT缺陷导引统计异常值检测的系统及方法包含:接收由统计异常值检测子系统产生的一批中的多个晶片的电气测试储仓数据及半导体裸片数据,所述统计异常值检测子系统经配置以在所述一批中的所述多个晶片的制造之后对由电气...
  • 一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具,所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照...
  • 本发明涉及具有背面照明的分段检测器装置。所述检测器能够收集且区分二次电子与背向散射的电子。所述检测器包含用于主要电子束通过的通孔。命中样本后,所述经反射的二次电子及背向散射的电子经由垂直结构收集,所述结构具有P+/P‑/N+或N+/N‑...
  • 提供用于图像对准的方法及系统。一种方法包含通过将选定突出特征点检测方法应用到针对样品产生的至少一参考图像来选择三个或更多个突出特征点用于测试图像与参考图像对准。所述方法还包含检测测试图像及所述参考图像中的所述三个或更多个突出特征点及将所...
  • 提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含语义分割模型,其经配置以响应于在多个像素中的每一者中表示的内容而将标签指派给图像中的所述多个像素中的每一者。所述图像...
  • 本发明涉及一种产品,其包含半导体衬底,具有至少第一及第二薄膜层,所述薄膜层安置于所述衬底上,且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中,每...