使用在工件的检验区域內随机缺陷发生的初始概率，使用光学工具或电子束工具对所述检验区域内的一或多个缺陷进行成像。使用所述模型来产生在所述缺陷位置中的每一者处随机缺陷发生的概率。将所述缺陷位置分组到概率分格中。确定所述初始概率与观察结果之间...

一种工艺条件测量装置可包含由底部衬底、间隔件及盖制成的衬底。所述工艺条件测量装置可包含组件。所述组件可安置于由所述底部衬底界定的腔及由所述间隔件界定的通孔内。所述盖可安置于所述组件上方且覆盖所述组件。所述盖可为全盖或部分盖。所述组件也可...

一种计量系统可包含：双频率梳源，其提供具有第一重复率的第一梳光束及具有第二重复率的第二梳光束；分束器，其用以从所述第一梳光束及所述第二梳光束产生一或多个双频率梳照明光束；及光束组合器，其用以从所述第一梳光束及所述第二梳光束形成双频率梳照...

本发明提供用于确定样本的信息的方法及系统。一种方法包含收集先前在一或多个其它样本上检测到的已知稀有缺陷类型的图像及响应于所述图像中的所述已知稀有缺陷类型而将训练标记指派给所述图像。所述方法还包含将所述所收集图像及所述经指派训练标记存储为...

本发明公开一种用于测量衬底处理条件的系统及方法。所述系统可包含仪表化衬底，所述仪表化衬底包含衬底主体。所述仪表化衬底可包含一或多个传感器，所述一或多个传感器经配置以测量所述衬底主体或接近所述衬底主体的表面的外部环境中的至少一者的一或多个...

光子或电子检测器可包含具有经施加以减少滞后且改进操作速度的电压梯度的多晶硅电阻式栅极。所述多晶硅电阻式栅极可为经重度掺杂有供体原子或受体原子且经离子植入有非电活性物种的经掺杂多晶硅。所述非电活性物种可以一定图案植入以形成具有不同电阻率的...

本文中描述用于以经减少计算工作量执行半导体结构的基于X光模型的散射测量的方法及系统。更具体来说，将经测量检测器图像数据变换为衍射级效率数据。比较经测量衍射级效率数据与包含经模拟衍射级效率数据及相关联样品参数值组的参数效率库。基于所述经测...

一种检验系统包含定位于所述检验系统的成像光瞳中的光瞳滤光器。所述光瞳滤光器经配置以提供空间变化强度透射。所述光瞳滤光器是玻璃板，所述玻璃板的表面上安置有经图案化层。所述检验系统使用所述光瞳滤光器引入空间变化强度透射。

使用单个全局准直透镜下游的孔隙阵列从电子束产生小束。引导所述小束穿过在所述小束的路径中在所述孔隙阵列下游的图像透镜阵列，使用所述图像透镜阵列将所述小束个别地聚焦到中间图像平面上。接着使用在所述图像透镜阵列下游的转移透镜阵列将所述小束引导...

本发明公开一种激光维持宽带光源。所述光源可包含用于等离子体产生的气体围阻结构。所述气体围阻结构可包含：第一部分，其由第一等级的蓝宝石形成；及第二部分，其由第二等级的蓝宝石形成。所述第一部分耦合到第二等级蓝宝石的所述第二部分的一或多个区段...

公开一种LSP宽带光源。所述光源可包含气体围阻结构。所述光源可包含多个喷流喷嘴，其中所述喷流喷嘴经配置以产生超音速气体喷流且引导所述超音速气体喷流在所述气体围阻结构内碰撞以在碰撞点处形成局部高压区域。所述光源可包含主激光泵源，其中所述主...

本文中呈现用于基于以波长、方位角及入射角分辨的数据集来执行半导体结构的光谱椭偏(SE)测量的方法及系统。在一些实施例中，基于机器学习的测量模型经训练以基于以波长、方位角及入射角分辨的SE测量数据来推断表征受测量结构的一或多个关注参数的经...

接收在工件的检验区域内随机缺陷的初始发生概率。按照所述初始发生概率对所述随机缺陷的全部位置进行排序。确定累积预期缺陷计数且将所述累积预期缺陷计数正规化为总预期缺陷计数的分率。确定用于捕捉高于总随机缺陷的阈值的潜在随机缺陷的缺陷位置的数目。

一种用于以持续期间为基础的样本路径调整的方法包含接收初始样本图。所述方法包含产生包含所述初始样本图的位点点集的一或多个经调整路径的一或多个经调整样本图。所述方法包含基于所述一或多个经调整路径产生样本的最终样本图，其中所述最终样本图包含最...

一种测量系统可包含经配置以产生一或多个照明光束的照明源及一或多个物镜。所述物镜中的一或多者可配置为照明物镜以将照明从所述照明源引导到样本上的一或多个目标。所述物镜中的一或多者可配置为集光物镜，其中所述集光物镜中的每一者经配置以收集来自所...

一种方法包含识别晶片上的第一组对准标记的打印位置，所述第一组对准标记是在由数值孔径及裸片的裸片高度界定的几何阴影之外。所述方法包含通过基于所述所识别打印位置打印所述第一组对准标记且在所述裸片的表面上打印第二组对准标记来制造叠加计量目标。...

一种用于动态像差校正的方法包含运用电子束源产生初级电子束。所述方法包含：运用电子光学柱将所述初级电子束引导到样本；及使用第一维恩滤波器使所述初级电子束偏转到所述电子光学柱的物镜以校正所述初级电子束中的彗形像差模糊。所述方法包含使用所述物...

本文中呈现用于对在透明衬底上制作的光学元件的表面结构执行光谱椭圆偏光术(SE)测量的方法及系统。SE测量系统经配置以在不受到来自从所述透明衬底的背侧表面反射的光污染的情况下检测来自经测量结构的光。光学元件的表面结构包含在薄透明衬底上制作...

本发明涉及处理在极紫外光掩模上所检测到的缺陷。本发明提供用于光掩模缺陷处理的方法及系统。一种方法包含将能量引导到光掩模并从所述光掩模检测能量。所述光掩模经配置以供在一或多个极紫外光波长处使用。所述方法还包含基于所述所检测能量而检测所述光...

本发明提供用于检测样品的图像中的缺陷的方法及系统。一个系统包含经配置用于通过更改深度学习模型的集合的一或多个参数直到基于所述集合的输出确定的伪损失函数约等于但不大于0.5而训练所述集合的计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于通过将运...