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科磊股份有限公司专利技术
科磊股份有限公司共有1155项专利
具有高信噪比的扫描叠加计量制造技术
一种叠加计量系统可包含:照明光学器件,其用于将来自照明源的照明分裂成主及次照明且将所述主照明导引到包含具有两个或更多个层中的光栅的叠加目标的样本;及物镜,其用于从所述构成光栅收集正及负衍射。所述系统可进一步包含收集光学器件,其用于使辅助...
用于单束及多束系统的自动聚焦方法技术方案
将施加有第一像散的电子束引导于载台上的工件处。检测从所述工件反射的所述电子束且产生所述工件的施加有所述第一像散的图像。将自动聚焦模型应用于所述图像以用所述自动聚焦模型确定所述图像的焦点偏移。
多叠对堆叠光栅度量目标制造技术
一种叠对度量目标包含多层光栅结构,所述多层光栅结构形成为样本的三个或更多个层上具有不同间距的重叠光栅结构。所述样本的所述三个或更多个层至少可包含第一层、第二层及第三层,其中所述重叠光栅结构沿着扫描方向或与所述扫描方向正交的方向中的至少一...
每层平行颜色的光栅叠光栅的叠加测量制造技术
一种叠加计量系统可包含用于产生包含具有两个或更多个中心波长的两个或更多个光谱带的照明的照明源。所述系统可包含用于照明样本且使所述样本成像的光学子系统,其中根据计量配方的所述样本包含具有光栅叠光栅结构的一或多个单元,所述光栅叠光栅结构经形...
用于改进特性化系统的测量性能的系统及方法技术方案
公开一种用于改进特性化系统的测量性能的方法。所述方法可包含:基于训练数据集训练多个机器学习模型,其中每一机器学习模型能够产生不确定性估计器且第一机器学习模型与基于超参数集或数据集中的一者的一或多个额外机器学习模型不同。所述方法可进一步包...
检测样品上的缺陷制造技术
提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种系统从由检验子系统产生的所述样品的图像的不同组合计算不同候选参考图像且在不修改的情况下组合所述候选参考图像的不同部分以由此产生最终参考图像。接着,将所述最终参考图像用于缺陷检测,其可为单一或双重...
具有可调谐的浮动扩散结构的图像传感器制造技术
提供用于例如检验及计量等应用的具有可调谐的浮动扩散(FD)结构的图像传感器。一个图像传感器包含感测节点,所述感测节点电连接到所述图像传感器的电路,邻近所述电路形成于硅层的第一侧上,且由电压受控可变浮动扩散(VCVFD)结构形成。所述VC...
用于检测化学污染样本的系统及方法技术方案
一种样本污染检测组合件可包含环境传感器装置,其经配置以同时测量一或多个样本的湿度、温度或挥发性有机物含量中的两者或更多者以确定化学污染。所述组合件可包含漏斗装置。所述漏斗装置可包含界定两个或更多个内部腔的多个侧壁。至少一个侧壁可包含连接...
用于缺陷检验灵敏度增强的成像路径偏振控制的方法技术
本发明提供用于检验光掩模的方法及系统。一种系统包含经配置以将光引导到所述光掩模的照明子系统。所述系统还包含光瞳滤光片,所述光瞳滤光片定位于仅来自所述光掩模的所述光的路径中,且经配置用于通过以相干方式混合所述光掩模的琼斯矩阵中的四个元素来...
衬底位置监控装置制造方法及图纸
一种仪器化衬底在衬底处理系统中用于确定与卡盘及聚焦环的偏移。所述仪器化衬底包含产生线图像的线传感器及基于所述线图像来确定所述偏移的控制器。衬底处置器接着重新定位所述仪器化衬底以减少所述偏移。
纳米片表面粗糙度及轮廓的计量制造技术
本发明公开一种检验系统,其包含控制器,所述控制器包含维持程序指令的存储器及经配置以执行所述程序指令的一或多个处理器。所述程序指令引起所述一或多个处理器产生样本的结构的几何模型、至少部分基于所述几何模型来产生所述样本的所述结构对照明的光学...
用于扫描叠加计量的跟踪实时位置的系统及方法技术方案
一种方法可包含接收来自两个或更多个光电检测器的与光栅结构及参考光栅结构相关联的时变干扰信号。所述光栅结构可包含一或多个衍射光栅,其中所述参考光栅结构包含经布置为接近所述光栅结构的所述一或多个衍射光栅的参考光栅,且其中在相对于一或多个照明...
利用光学超表面的平行扫描叠加计量制造技术
一种装置可包含一或多个光学元件,所述一或多个光学元件经配置以将照明引导到样本且响应于所述照明而收集来自所述样本的样本光,其中所述一或多个光学元件中的至少一者包含一或多个超表面,所述一或多个超表面经配置以使用次波长特征来操纵所述照明或样本...
精密触笔控制系统技术方案
系统包含处理器,其经配置以使用力信号激励一对扭矩线圈以在所述对扭矩线圈与安置于所述对扭矩线圈之间的控制臂的内部磁体之间产生磁力。所述控制臂连接到探针臂,且所述磁力引起所述控制臂及所述探针臂围绕枢轴关节旋转且引起所述探针臂的探针尖端接触样...
用于将高通量光学器件接合到光机组合件的方法及系统技术方案
本发明涉及一种用于将第一光学元件结合到衬底的方法。所述方法可包含接纳第一光学元件及衬底。所述方法可包含将铟箔定位在所述第一光学元件与所述衬底之间。所述方法可包含将所述第一光学元件固定到所述衬底以产生预接合组合件,其中所述铟箔经安置在所述...
具有基于氟化物的抗反射涂层的硼涂覆的背照式图像传感器制造技术
用于检测短波长辐射(例如,深紫外线(DUV)及真空紫外线(VUV)光)的背照式图像传感器(150)包含半导体隔膜(160)、形成在所述半导体隔膜的前侧表面(161)上的电路元件(171)及所述半导体隔膜的背侧表面(162)上的纯硼涂层(...
用于测量厚膜及高宽高比结构的光学器件制造技术
本文中呈现用于使用从光谱仪狭缝到检测器具有缩倍的反射收集中继光学器件执行半导体结构的光谱椭偏测量的方法及系统。所述缩倍有效地增加所述检测器处的NA且减小成像到所述检测器上的晶片处的测量光点大小。以这种方式,所述缩倍维持所述检测器处的高光...
具有锥形窗口的激光维持等离子体光源制造技术
公开一种LSP宽带光源。所述光源可包含用于容纳气体的气体容纳结构。所述光源可包含激光泵源,其经配置以产生光学泵,以维持所述气体容纳结构内的等离子体,以产生宽带光。所述光源可包含锥形窗口,其经配置以使宽带光透射通过所述气体容纳结构的壁内的...
用于工件检验的荧光模式制造技术
将光束引导于包含低k介电材料的工件,其引起来自所述低k介电材料的荧光发射。在荧光发射期间对所述工件进行成像。所述成像可使用在所述光束的成像路径中选择从300nm到900nm的至少一个波长的光学滤光器。
电子束位置检测及重新定位制造技术
一种多通道电极管包含至少四个偏转板。所述偏转板中的每一者跨越电子束的穿过所述多通道电极管的路径而与所述偏转板中的另一者相对地安置。确定跨越所述电子束的所述路径而彼此相对地布置的一对所述偏转板之间的电压差。然后,基于所述电压差确定所述电子...
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