一种电子束装置包含上柱电子光学器件及下柱电子光学器件。所述上柱电子光学器件包含孔隙阵列以将电子束划分成多个电子子束。所述上柱电子光学器件还包含具有多个透镜的透镜阵列以调整所述多个电子子束的焦点。所述多个透镜的相应透镜用以调整所述多个电子...

公开一种用于激光持续等离子体(LSP)光源中的等离子体灯。所述等离子体灯包含：气体收容结构，其用于收容气体；气封，其定位于所述气体收容结构的基座处；气体入口；及气体出口。所述等离子体灯包含：气体旋流器，其包含经配置以产生涡流气流的一组喷...

一种设备包含：上部件；下部件，其安置于所述上部件下方；及弹簧，其安置于所述上部件与所述下部件之间。所述上部件具有从其向下延伸的销。所述下部件具有经配置以接收所述销的自由端的座部。所述弹簧包围所述销，且具有小于所述销的长度的自由长度。在卸...

一种方法在制造设施中的制造工具的计算机系统处执行。所述方法包含将展示所述制造工具的数据的一系列帧发送到客户端装置用于显示。所述客户端装置远离所述制造设施。所述方法进一步包含从所述客户端装置接收与所述客户端装置的用户互动的指示及响应于所述...

根据本公开的一或多个实施例，公开一种图案化晶片。所述图案化晶片可包含至少第一材料及至少第二材料，其中所述第一材料可不同于所述第二材料。所述图案化晶片可进一步包含光致发光材料，其经配置以选择性地结合到所述第一材料或所述第二材料中的一者以增...

一种多光束系统包含：光源，其经配置以发射光；光纤束，其连接到所述光源；及相机，其经配置以撷取包含对应于连接到所述光源的每一光纤的图像的图像集。所述光纤束包含具有连接到所述光源的一端的中心光纤及包围所述中心光纤的N个光纤层。第一光纤层包含...

提供其包括用以选择性测量和监控用于铁系三元金属和其合金的加工溶液中的卤化物浓度的方法和设备的技术。方法包括例如基于第一分析方法、例如导电率来监控卤素离子；且对主要金属浓度结果进行补偿，例如铁系三元金属(例如镍(Ni))浓度的第二分析测量...

本发明公开一种等离子体灯。所述等离子体灯包含气体收容结构，所述气体收容结构经配置以收容气体且在所述气体收容结构内产生等离子体。所述气体收容结构由对于来自泵浦激光器的照明及由所述等离子体发射的宽带辐射透明的玻璃材料形成。所述气体收容结构包...

可使用正规化互相关改进图像对准或图像对设计对准。对准设置图像与运行时图像且确定正规化互相关分数。所述图像的图像投影可经确定且在垂直x及y方向上对准。所述图像投影的对准可包含找到投影峰值位置及在所述x及y方向上调整所述投影峰值位置。

一种用于固定衬底的设备包含经配置以可逆地附接到卡盘的基底的可拆卸板。所述卡盘的所述基底包含一或多个基底‑衬底真空入口通道及一或多个基底‑板入口通道。所述可拆卸板包含一或多个第一真空储存器及第二真空储存器。所述可拆卸板经进一步配置以在所述...

一种晶片形状计量系统包含经配置以对经接合晶片对执行一或多个无应力形状测量的晶片形状计量子系统，其中所述经接合晶片对使用接合工具接合。所述晶片形状计量子系统包含通信地耦合到所述晶片形状计量子系统的控制器。所述控制器经配置以接收来自所述晶片...

一种系统包含经配置以对接合后晶片对执行一或多个形状测量的晶片形状计量子系统。所述系统包含通信地耦合到所述晶片形状计量子系统的控制器。所述控制器接收一组经测量失真图案。所述控制器将接合器控制模型应用到所述经测量失真图案以确定一组覆盖失真特...

一种电子束装置包含用于发射电子的冷场发射源及相对于所述冷场发射源正偏置以从所述冷场发射源中提取所述电子的提取器电极。所述提取器电极具有用于所述电子的第一开口。所述电子束装置还包含具有用于所述电子的第二开口的镜电极。所述镜电极能够配置为在...

非晶层用作用于吸湿性非线性光学晶体的保护涂层。所述非晶层由一或多种碱金属硼酸盐及/或碱土金属硼酸盐组成。所述非晶层减缓或防止水及/或氧扩散到所述吸湿性非线性光学晶体中，从而简化处置、存储及操作环境要求。一或多个额外涂层可放置于所述非晶层...

对于一种电子束系统，维恩滤波器位于转移透镜与载物台之间的电子束的路径中。所述系统包含：接地电极，其在所述维恩滤波器与所述载物台之间；电荷控制板，其在所述接地电极与所述载物台之间；及加速电极，其在所述接地电极与所述电荷控制板之间。所述系统...

本申请涉及在半导体制造中使用随机故障度量。随机计算引擎从半导体检验工具或半导体检视工具接收输入。所述随机计算引擎从所述输入确定异常位置及图案变化且从所述输入确定随机故障。与所述随机计算引擎连接的电子数据存储单元可包含具有已知随机行为及已...

一种可调谐激光器组合件使用1μ

公开一种具有反向涡流的激光维持等离子体

多个电子细束从单个电子束中分离

本发明公开用于清洁覆盖检验系统的光学表面的系统