本发明涉及一种永久修复光刻掩模(105、210、220)的材料缺损的缺陷(260、270、280)的方法，该方法包括以下步骤：(a)在掩模(105、210、220)的待修复位置处提供至少一个含碳前驱气体和至少一个氧化剂；(b)在材料缺损...

本发明涉及一种用于确定光学系统中、更具体地说是微光刻投射曝光系统中的光学元件的加热状态的方法和装置，其中，在光学系统的操作期间，电磁辐射撞击光学元件(400)的入射表面(401)，其中，通过使用校准参数，基于通过位于距入射表面(401)...

本发明关于一组件，其具有在操作或运输过程中在至少一个负载方向上受到机械应力的元件以及用于机械地安装该元件的解耦接头，其中解耦接头在负载方向上实现至少部分解耦，其中该解耦接头由多个单独的接头段(110,210,310,510,511,51...

本发明涉及一种制造用于半导体光刻的光学元件的主体(33)的方法，包括以下方法步骤：

本发明涉及一种用于操作光学系统的方法、以及一种反射镜与一种光学系统，尤其用于微光刻投射曝光装置。反射镜(尤其用于微光刻投射曝光装置，其中反射镜具有光学有效表面)包含反射镜基板(101、201、301、401、501)和多个配置在反射镜基...

本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E)，所述系统包括：光学元件(302)，该光学元件(302)包括具有反光的光学有效表面(308)的可弹性变形的分面部分(306)...

本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E、300F、300G、300H)，所述系统包括：光学元件(302)，该光学元件(302)包括基体(204)和可弹性变形的分面部...

本发明涉及将对准信息从第一组图像转移到第二组图像。获得第一成像模式下的第一组横截面图像，第一横截面图像是在时间Tai拍摄的。获得第二成像模式下的第二组横截面图像，第二横截面图像是在时间Tbj拍摄的，时间Tbj不同于时间Tai。获得第一和...

本发明涉及一种特别用于表征微光刻掩模的光学系统，包括用于生成波长小于30nm的光的光源(101、201、251)、从光源通向物平面的照明光路、从物平面通向像平面的成像光路、以及分束器(103，205，254)，照明光路和成像光路都延伸通...

本发明涉及一种用于微光刻的成像设备的光学布置结构，该光学布置结构尤其用于使用极紫外范围(EUV)内的光，所述光学布置结构具有用于保持光学元件(M3)的保持装置(109)。保持装置(109)具有至少一个保持元件(110)，其中，该保持元件...

本发明涉及一种光学部件(19)，其具有通过设计为六足的轴承连接到基座元件(27)的光学元件(25)和用于参考连接平面(28)上的至少一个六足腿(20)和两个元件(25、27)之一之间的接触点(29)的装置(31)。装置(31)被设计成在...

提出一种用以使用粒子束(112)来分析和/或处理样品(200)的装置(100)，包含样品台(120)，用于保持样品(200)；提供单元(110)，用于提供粒子束(112)，提供单元(110)包含：开口(114)，用于将粒子束(112)引...

本发明涉及是用于投射光刻的投射曝光设备的照明光学部件(22)的部分的数字微镜装置(23d)。多个微镜(23a)成组地布置在多个镜模块(23b)中，每个镜模块具有矩形的模块边界(23c)。镜模块(23b)布置在模块列(26)中。至少一些模...

本发明涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，包括：可移动元件(201)，其被设计为光学元件或参考结构；以及具有第一和第二部分(202a、202b)的功能元件(202)，其中第一部分(202a)通过接合装置沿着紧...

提出一种装置(100)，其用以使用粒子束(110)来分析和/或处理样品(10)，包含：提供单元(106)，用于提供粒子束(110)；屏蔽元件(202)，用于屏蔽由在样品(10)上累积的电荷(Q)所产生的电场(E)，其中屏蔽元件(202)...

本发明涉及一种带电粒子束系统，带电粒子束系统包括偏转子系统，偏转子系统被配置来基于由第一数字信号和第二数字信号的独立数字模拟转换产生的模拟信号的总和在偏转方向上偏转带电粒子束。本发明还涉及一种配置带电粒子束系统的方法，使得可以通过仅改变...

本发明涉及一种用于半导体光刻的光学组件(20)，包括光学元件(21)和用于使光学元件(21)变形的致动器(26.4)，其中致动器(26.4)由至少三个截面段(27)构成。在这种情况下具有可在不同情况下借助于控制器控制的至少第一组(31)...

本发明提供一种配置在晶片(60)上的多个半导体结构的缺陷检测的方法(3010)，方法包括获得(3101)晶片(60)的显微图像(42、80)，显微图像(42、80)描绘出多个半导体结构(62、171、172)。方法还包括从数据库(55)...

本发明涉及一种用于光刻系统(100A、100B)的光学元件(200、210、220、230、240)，包括光学表面(201、211、221、231、241)和光敏电阻(202、212、222、232、242)，该光敏电阻具有根据入射到光...

本发明关于光学系统，尤其关于光刻系统，其包含：板形部件(214)，尤其是光阑元件；较佳为框形的保持器(216)，用于保持部件(214)；以及多个腹板(218a,b)，用于将板形部件(214)连接到保持器(216)。板形部件(214)可拆...