一种用于以干涉测量方式确定测试对象的光学表面形状的测量方法通过测量系统来执行，测量系统包括照明模块和多个光学部件，照明模块用于在照明模块的光源平面中产生有效光源，多个光学部件包括准直器、透明参考元件和分束器。检测器检测测量波和参考波的叠...

本发明涉及一种用于校准球面波的方法，并且涉及一种用于通过干涉测量法确定测试对象的表面形状的测试系统。在根据本发明的用于校准球面波的方法中，其中该球面波在测试系统中生成，该测试系统被设计为通过干涉测量法来确定测试对象(120)的表面形状，...

本申请涉及一种使用聚焦粒子束对样品进行成像和处理的装置，包括：(a)至少一个粒子源；(b)至少一个样品腔；(c)至少一个柱；(d)至少一个检测单元；(e)至少一个气体管线系统，其终止于来自柱的聚焦粒子束的出口处并且配置为在样品处局部地提...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其具有至少一个有流体通道(31)的部件(M3)以及用于提供流体(34)以流过流体通道(31)的装置(40)，流体通道(31)通过一供应线(41)以及一排出线(42)连接到装置(40)，并...

本发明涉及一种在EUV波长范围的反射光学元件(30)的表面(36)上沉积外层(35)的方法，其中沉积在至少一个宏循环(37)中实现。宏循环(37)包括以下步骤：在至少一个ALD循环中通过原子层沉积ALD工艺至少部分地沉积外层(35)，并...

本发明涉及一种用于将第一部件(202)支撑在光刻系统(100A、100B)的第二部件(204)上的承载系统(200)，其具有第一和第二部件(202、204)以及将第一和第二部件(202、204)彼此紧固在一起的粘合剂(212、212’)...

一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D、D’)的粒子束诱导处理的方法，其包括下列步骤：a)提供(S1)该光掩模(100)的至少一部分的图像(300)；b)确定(S2)该图像(300)中的该缺陷(D、D’)的几何形状是否为修复形状(30...

一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D)的电子束诱导处理的方法，包括以下步骤：a)为了修复缺陷(D)，在所述光掩模(100)的缺陷(D)的区域(112)中提供(S1)处于第一加速电压(EHT1)的激活电子束(202)和处理气体，以及b...

本发明揭示一种用于处理物体(特别是光刻掩模)的表面的方法、一种用于执行此方法的装置以及一种含有用于执行此方法的指令的计算机程序。一种用于处理物体(特别是光刻掩模)的表面的方法，包括以下步骤：(a.)将含有至少第一气体与第二气体的气体混合...

本发明涉及一种测量设备，该测量设备用于对试件的表面、尤其是光学元件的光学表面的形状进行干涉测量，该测量设备具有：‑照明装置，该照明装置具有用于产生照明波的照明源；以及‑干涉仪装置，该干涉仪装置具有分割元件，以便将照明波分割成朝向表面的测...

一种成像光学单元(7)，包含多个反射镜(M1至M8)，其用于将物面(5)中的物场(4)成像到像面(9)中的像场(8)中。像侧数值孔径大于0.55。物/像偏移a与子午横向方向c之间的比率为至少0.5。物面(5)与反射镜(M4)之一的最接近...

一种生产光刻设备(100)的光学元件(200)的方法，包括以下步骤：a)检测(S2)所述光学元件(200)的晶体衬底(202)的表面(208)的高度轮廓(216)，以及b)使用检测的高度轮廓(216)，确定(S3)所述光刻设备(100)...

一种成像光学单元(7)，包含多个反射镜(M1至M8)，其用于将物场(4)成像到像场(8)中。该成像光学单元具有大于0.55的像侧数值孔径。每个反射镜(M1至M8)皆配置使得：其可通过具有至少一个DOE(16)(具有预定最大直径以供测试波...

本发明涉及一种用于在衬底(3)上沉积至少一层由离子键合固体构成的层(2)的方法，包括以下步骤：将涂覆材料(8)转换为气相，并将转换为气相的涂覆材料(8)沉积在衬底(3)上。在沉积过程中，用UV/VIS光(11a、11b)照射该层(2)。...

本发明涉及一种用于光刻系统(100，200)的光学装置(1)，具有包括光学表面(3)的至少一个光学元件(2)并且具有用于使所述光学表面(3)变形的一个或多个致动器(4)。根据本发明，提供应变仪设备(5)用于确定所述光学表面(3)的变形，...

一种方法，用于更换投射曝光设备(1)的光学系统(100)，特别是DUV反射镜，包括以下步骤：a)沿光学系统(100)的中心轴(102)升高(S1)光学系统(100)，使得光学系统(100)的安装支柱(132)脱离与承载光学系统(100)...

本发明涉及一种光学部件和一种光学系统，特别用于微光刻。根据本发明的光学部件包括：第一层系统(210、710、810、910、1010)，当电磁辐射照射到其上时，该第一层系统呈现第一波长相关反射率曲线；以及至少一个第二层系统(220、72...

本发明涉及一种用于光刻系统(100A、100B)的安装件(200)，包括：被安装元件(201)；安装元件(202)；以及紧固元件(204)，其一起在至少一个自由度上相对于安装元件(202)固定被安装元件(201)，其中在至少一个自由度的...

一种用于投射曝光设备(1)的系统(100A、100B、100C)，包括第一部件(102)、第二部件(104)和解耦装置(200A、200B、200C)，解耦装置被设计成在多于一个自由度上将第二部件(104)与第一部件(102)的机械激励...

本发明涉及一种用于清洁表面、特别是光学元件的表面的方法，包括：提供液态CO2形式的液态气体(31)；从液态气体(31)产生CO2雪形式的固体，优选通过液态气体(31)的膨胀；以及将固体喷射到待清洁的表面上。该方法还包括通过颗粒过滤器(3...