用于校准球面波的方法，以及测试系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于校准球面波的方法，并且涉及一种用于通过干涉测量法确定测试对象的表面形状的测试系统。在根据本发明专利技术的用于校准球面波的方法中，其中该球面波在测试系统中生成，该测试系统被设计为通过干涉测量法来确定测试对象(120)的表面形状，并且其中至少一个球面校准镜(130、230)用于校准该球面波，该球面波被引导到所述球面校准镜上，基于多个连续执行的干涉测量来校准该球面波，这些干涉测量在由球面校准镜分别反射的、待校准的球面波的部分区域方面彼此不同。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于校准球面波的方法，并且涉及一种用于通过干涉测量法确定测试对象的表面形状的测试系统。

技术介绍

1、微光刻用于生产微结构部件，例如集成电路或液晶显示器。微光刻工艺在所谓的投射曝光设备中进行，该投射曝光设备包括照明装置和投射镜头。在此，通过照明装置照明的掩模(＝掩模母版)的像通过投射镜头投射到衬底(例如，硅晶片)上，该衬底涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)并且布置在投射镜头的像平面中，以便将掩模结构转印到衬底的光敏涂层上。

2、在设计用于euv范围的投射镜头中，也就是说在例如大约13nm或大约7nm的波长处，由于缺乏合适可用的透光折射材料，反射镜被用作成像过程的光学部件。例如从us2016/0085061 a1中已知的、被设计用于euv的典型的投射镜头可以具有例如在na＝0.55范围内的像侧数值孔径(na)，并且将(例如环段形状的)物场成像到像平面或晶片平面中。像侧数值孔径(na)的增加通常伴随着投射曝光设备中使用的反射镜所需的反射镜表面积的增大。这又会导致：除了制造外，测试反射镜的表面形状也是一项艰巨的挑战。p>

3、在这种本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于校准球面波的方法，其中所述球面波在测试系统中生成，所述测试系统被设计为通过干涉测量法来确定测试对象(120)的表面形状，并且其中至少一个球面校准镜(130、230)用于校准所述球面波，所述球面波被引导到所述球面校准镜上，

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，同一个球面校准镜(130、230)被移动到不同的位置，从而用于反射所述球面波的不同部分区域。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所讨论的不同干涉测量中检测到的所述球面波的至少两个部分区域具有共同的重叠区域。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，考虑到为所述重叠区...

【技术特征摘要】

1.一种用于校准球面波的方法，其中所述球面波在测试系统中生成，所述测试系统被设计为通过干涉测量法来确定测试对象(120)的表面形状，并且其中至少一个球面校准镜(130、230)用于校准所述球面波，所述球面波被引导到所述球面校准镜上，

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，同一个球面校准镜(130、230)被移动到不同的位置，从而用于反射所述球面波的不同部分区域。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所讨论的不同干涉测量中检测到的所述球面波的至少两个部分区域具有共同的重叠区域。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，考虑到为所述重叠区域分别获得的测量数据中的相对偏差，对在所述多个干涉测量中分别获得的测量数据进行计算校正。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在待校准的所述球面波的被反射的部分区域方面彼此不同的、所执行的所述干涉测量的数量总计为至少三个，特别是至少四个。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，在通过干涉测量法确定球面测试对象的表面形状的范围内，在所述测试系统中生成所述球面波作为测试波。

7.根据权利要求1至5中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·赫茨勒，M·德雷埃尔，H·詹内怀恩，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：