成像光学单元制造技术

一种成像光学单元(7)，包含多个反射镜(M1至M8)，其用于将物场(4)成像到像场(8)中。该成像光学单元具有大于0.55的像侧数值孔径。每个反射镜(M1至M8)皆配置使得：其可通过具有至少一个DOE(16)(具有预定最大直径以供测试波前产生)的测试光学单元(15)来测量。为了反射镜(M1至M8)的所有反射面的完整测量，测试光学单元(15)的DOE(16<subgt;i</subgt;)的最大数量和/或测试光学单元(15)的至少一个DOE(16)的DOE测试定位的最大数量发挥作用，其未超过成像光学单元(7)中反射镜的数量的5倍。结果是，其中测试光学测量即使在具有与先前技术相比相对较大的像侧数值孔径的设计的情况下仍然可管理的成像光学单元。成像光学单元可能是用于生成图案化部件的投射曝光设备的照明系统的光学系统的组成部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

该专利申请案关于一种成像光学单元，包含多个反射镜，其用于将物场成像到像场中，前述成像光学单元的反射镜能够借助于测试光学单元来测量。进一步，本专利技术关于一种包含此类成像光学单元的光学系统、一种包含此类光学系统的照明系统、一种包含此类照明系统的投射曝光设备、一种用于生成微结构化或纳米结构化部件的方法、和一种通过任何此类方法生成的微结构化或纳米结构化部件。

技术介绍

1、一开始所阐述的类型的成像光学单元从de 10 2019 219 209 a1已知。

2、在反射镜测量的范围内所使用的测试光学单元使用衍射光学元件，其由于生成原因而仅可生成达给定最大直径。

技术实现思路

1、本专利技术的目的是开发一开始所阐述的类型的成像光学单元，使得即使在具有大于先前技术的像侧数值孔径的设计的情况下，测试光学测量仍然可管理。

2、依据本专利技术，此目的通过依据权利要求1中所明确说明的特征的成像光学单元来实现。

3、本专利技术已认可，作为进一步设计准则，将测试光学单元中衍射光学元件(diffrac本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种成像光学单元(7、31、32)

2.如权利要求1的成像光学单元，其特征在于，所述反射镜(M1至M8；M1至M11；M1至M9)设计用于采用一测试光学单元(15)进行测试，其中所述测试光学单元的该至少一个DOE(16)具有小于500mm的最大直径。

3.如权利要求1或2的成像光学单元，其特征在于，作为变形光学单元的实施例。

4.如权利要求1至3中任一者的成像光学单元，其特征在于，未超过20mλ的波前像差。

5.如权利要求1至4中任一者的成像光学单元，其特征在于，总共有至少八个反射镜。

6.如权利要求1至5中任一者的成像光学...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种成像光学单元(7、31、32)

2.如权利要求1的成像光学单元，其特征在于，所述反射镜(m1至m8；m1至m11；m1至m9)设计用于采用一测试光学单元(15)进行测试，其中所述测试光学单元的该至少一个doe(16)具有小于500mm的最大直径。

3.如权利要求1或2的成像光学单元，其特征在于，作为变形光学单元的实施例。

4.如权利要求1至3中任一者的成像光学单元，其特征在于，未超过20mλ的波前像差。

5.如权利要求1至4中任一者的成像光学单元，其特征在于，总共有至少八个反射镜。

6.如权利要求1至5中任一者的成像光学单元，其特征在于，为了该成像光学单元(7、3...

【专利技术属性】
技术研发人员：HJ·罗斯塔尔斯基，H·穆恩兹，C·门克，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：