用于投射曝光系统的照明光学部件的数字微镜装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及是用于投射光刻的投射曝光设备的照明光学部件(22)的部分的数字微镜装置(23d)。多个微镜(23a)成组地布置在多个镜模块(23b)中，每个镜模块具有矩形的模块边界(23c)。镜模块(23b)布置在模块列(26)中。至少一些模块列(26)沿着列边界线(27)相对于彼此移位，使得在边界线(27)之上彼此相邻的至少一些镜模块(26

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于投射曝光系统的照明光学部件的数字微镜装置
[0001]本专利申请要求德国专利申请DE 10 2020 212 351.9的优先权，其内容通过引用并入于此。


[0002]本专利技术涉及一种用于投射曝光设备的照明光学部件的微镜阵列。此外，本专利技术涉及包括这种微镜阵列的照明光学部件、包括这种照明光学部件的光学组件、包括这种照明光学部件或包括这种光学组件的照明光学单元、包括这种照明光学单元的光学系统、包括这种照明光学单元或包括这种光学系统的照明系统、包括这种照明系统的用于投射光刻的投射曝光设备、借助于这种投射曝光设备生产微结构或纳米结构部件的方法以及使用这种方法生产的微结构或纳米结构部件。

技术介绍

[0003]从WO 2015/028 451A1、WO 2013/167 409A1和WO 2009/100 856A1中已知开头所述类型的微镜阵列。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是开发一种用于开头所述类型的投射曝光设备的照明光学部件的微镜阵列，以使得首先可以实现尽可能标准化的微镜阵列生产，并且其次在微镜阵列代表待被照明的反射物体上游的最终照明光学部件的情况下，可以使用微镜阵列在该物体上实现尽可能小的反射折叠角。
[0005]根据本专利技术，该目的通过具有权利要求1所述特征的微镜阵列和具有权利要求2所述特征的微镜阵列来实现。
[0006]根据本专利技术，意识到了原则上相互冲突的需求，具体地，一方面，远离如WO 2015/028 451A1和WO 2013/167 409A1中认识的允许镜模块之间的边界线平行于物体位移方向延伸，另一方面，因生产成本而需要的微镜阵列的标准化生产，可以相互协调，以使得在不用于反射的镜模块部分和微镜阵列边界之间只能实现有利的小的突出量。
[0007]为此，如权利要求1所述，布置有镜模块的模块列相对于彼此移位，以使得，首先，微镜阵列可以反射指定的总照明光束，其次，尽管通常需要镜模块相对于物体位移方向倾斜，未使用的镜模块部分的突出量不会不期望地大，从而能够实现小的反射折叠角。特别地，这使得可以使用微镜阵列作为照明光学部件的组成部分，该照明光学部件被用作待被照明的反射物体上游的最后一个部件，因此，由于不用于反射的镜模块部分的该小的突出量，可以实现物体处的小的反射折叠角，也就是说，在物体处接近垂直入射的照明光的入射角。这种小的反射折叠角允许例如照明光在反射物体上的小的入射角，例如2
°
至8
°
的范围内的入射角。
[0008]如权利要求2所述，模块列沿着边界线的位移可以小于相应的镜模块沿着边界线的范围的一半，并且可以例如小于该镜模块沿着边界线的范围的50％、40％、30％、20％或
者甚至10％。该位移通常大于沿着边界线的相应镜模块的范围的1％。
[0009]在微镜阵列的这些配置中，微镜阵列的一些或所有相互邻近的模块列可以相对于彼此移位。特别地，这也使得可以使用微镜阵列作为照明光学部件的组成部分，该照明光学部件被用作待被照明的反射物体上游的最后一个部件，并且在该物体处可实现尽可能小的反射折叠角，也就是说接近垂直入射的照明光的入射角。这种小的入射角，例如可以在2
°
至8
°
的范围内，已经被证明特别有利于对投射光刻中使用的光刻掩模的掩模结构进行照明。
[0010]微镜阵列的镜模块可以具有方形边界。替代地或附加地，微镜阵列也可以配备有不具有方形边界的矩形镜模块。可以在非笛卡尔网格中实现镜模块的布置，其中模块列相对于彼此移位。
[0011]通常，每个模块列具有多个镜模块。单个模块列也可以具有正好一个镜模块。根据实施例，所有模块列也可以具有多个镜模块。每个模块列的镜模块的数量可以在1至100的范围内，在1至75的范围内，在1至65的范围内，并且例如在2至50的范围内。
[0012]根据本专利技术，上述目的还通过用于投射光刻的投射曝光设备的照明光学部件的微镜阵列来实现，该微镜阵列包括：
[0013]多个微镜，成组地布置在多个镜模块中，
[0014]其中，每个镜模块具有矩形的模块边界，
[0015]其中，镜模块布置在模块列中，并且至少一些模块列沿着列边界线相对于彼此移位，使得在边界线之上彼此相邻的至少一些镜模块被布置为相对于彼此移位，从而使得这些镜模块的横向于边界线延伸的模块边界侧彼此不齐平对准，
[0016]其中，微镜阵列布置在载体上，
[0017]其中，载体具有最靠近载体上的微镜阵列的镜模块的布置区域的近边界侧，并且模块列之间的至少一条边界线与该近边界侧的载体边界方向的法线包括的最小角度小于45
°
。
[0018]微镜阵列的这种设计可以与上述微镜阵列的其他设计的特征相结合。
[0019]微镜阵列可以是照明光学部件的一部分，特别是分面镜的一部分。在照明光的光路中，照明光学部件可以是待被照明的物体上游的最后一个部件。
[0020]照明光学部件可以是光学组件的一部分，该光学组件包括用于将光刻掩模保持在物场中的物体支架，并且该物体支架可以通过物体移位驱动器沿着位移方向移动。微镜阵列的模块列之间的至少一条边界线与位移方向包括的最小角度在0
°
至90
°
的范围内，特别是小于45
°
。
[0021]照明光学部件或光学组件可以是照明光学单元的一部分，该照明光学单元用于将照明光传递到物场中，待成像的物体可布置在该物场中。照明光学单元可以是光学系统的一部分，该光学系统还包括用于将物场成像到像场中的投射光学单元，晶片可布置在该像场中。
[0022]可以在照明光学单元和投射光学单元之间设置隔板，该隔板特别用于照明光学单元的部件和投射光学单元的部件的热隔离。微镜阵列的边界线和模块列与近边界侧的载体边界方向的法线之间的角度关系使得可在物体上实现小的反射折叠角，特别是当微镜阵列是待被照明的物体上游的照明或成像光光路中的最后一个光学部件时。由微镜阵列引导的照明光在物体上的入射角可以接近垂直入射，例如在2
°
至8
°
的范围内。
[0023]照明系统可以包括用于照明光的光源。
[0024]照明系统可以是投射曝光设备的一部分，该投射曝光设备还包括用于保持晶片的晶片支架。
[0025]如权利要求3所述，使边界线向近边界侧倾斜，使得在投射曝光设备的操作期间，可以相对于待成像物体的物体位移方向以倾斜的方式布置边界线。模块列之间的边界线与近边界侧的载体边界方向的法线之间包括的该最小角度可以不等于45
°
，可以小于45
°
，并且可以是例如37
°
或25
°
。因此，一旦安装了这种微镜阵列，镜模块之间的边界线就不会平行于物体位移方向延伸。
[0026]这产生了照明优势，特别是扫描积分平均效果，这已经在WO 2013/167409A1中特别讨论过。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于投射光刻的投射曝光设备(1)的照明光学部件(22；31；33；35；36；37)的微镜阵列(23d)，包括：多个微镜(23a)，成组地布置在多个镜模块(23b)中，其中，每个所述镜模块(23b)具有矩形的模块边界(23c)，其中，所述镜模块(23b)布置在模块列(26)中，并且至少一些所述模块列(26)沿着列边界线(27)相对于彼此移位，使得在边界线(27)之上彼此相邻的至少一些所述镜模块(26
i
、26
i+1
)相对于彼此移位地布置，从而使得这些镜模块的横向于所述边界线(27)延伸的模块边界侧(28)彼此不齐平对准，其中，所述模块列(26)沿着所述列边界线(27)相对于彼此移位，使得首先，所述微镜阵列(23d)能够反射指定的总照明光束，并且其次，不用于反射照明光的所述镜模块(23b)的部分的突出量不会不期望地大，从而能够实现小的反射折叠角。2.一种用于投射光刻的投射曝光设备(1)的照明光学部件(22；31；33；35；36；37)的微镜阵列(23d)
，
包括：多个微镜(23a)，成组地布置在多个镜模块(23b)中，其中，每个所述镜模块(23b)具有矩形的模块边界(23c)，其中，所述镜模块(23b)布置在模块列(26)中，并且至少一些所述模块列(26)沿着列边界线(27)相对于彼此移位，使得在边界线(27)之上彼此相邻的至少一些所述镜模块(26
i
、26
i+1
)相对于彼此移位地布置，从而使得这些镜模块的横向于所述边界线(27)延伸的模块边界侧(28)彼此不齐平对准，其中，沿着所述列边界线(27)相对于彼此移位的所述模块列(26)的位移小于相应的镜模块(23b)沿着所述列边界线(27)的范围的一半。3.根据权利要求1或2所述的微镜阵列，所述微镜阵列布置在载体(29)上，其中所述载体(29)具有近边界侧(30)，所述近边界侧(30)最靠近所述载体(29)上的微镜阵列(23a)的镜模块(23b)的布置区域，并且所述模块列(26
i
、26
i+1
)之间的至少一条边界线(27)与所述近边界侧(30)的载体边界方向的法线(N)包括的最小角度(α)在0
°
至90
°
的范围内。4.根据权利要求3所述的微镜阵列，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：