光学系统和光刻设备技术方案

本发明专利技术涉及一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，包括：可移动元件(201)，其被设计为光学元件或参考结构；以及具有第一和第二部分(202a、202b)的功能元件(202)，其中第一部分(202a)通过接合装置沿着紧固平面(204)紧固到可移动元件(201)，并且第二部分(202b)包括功能表面(203)；其中功能元件(202)包括用于通过变形将第一部分(202a)从第二部分(202b)去耦的去耦装置(207)，其中去耦装置(207)由功能元件(202)的变窄部(205)形成；变窄部(205)横向位于功能表面(203)的区域之外；并且功能表面(203)是测量表面，其适于为了定位和/或定向可移动元件(201)的目的而采集。向可移动元件(201)的目的而采集。向可移动元件(201)的目的而采集。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学系统和光刻设备


[0001]本专利技术涉及光学系统、具有这种光学系统的光刻设备以及用于在这种光学系统中定位和/或定向可移动元件的方法。
[0002]优先权申请DE102020211691.1的内容通过引用整体并入。

技术介绍

[0003]微光刻用于生产微结构部件，例如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻设备来执行微光刻过程。在这种情况下，通过照明系统照明的掩模(掩模母版)的图像通过投射系统投射到衬底上，例如硅晶片，该衬底涂有光敏层(光致抗蚀剂)并布置在投射系统的像平面中，以便将掩模结构转印到衬底的光敏涂层上。
[0004]受集成电路生产中对更小结构的需求的驱动，目前正在开发的是EUV光刻设备，其使用波长在0.1nm至30nm范围内，特别是13.5nm的光。在这种EUV光刻设备的情况下，由于大多数材料对这种波长的光的高吸收率，必须使用反射光学单元，也就是说反射镜，来代替以前的折射光学单元，也就是说透镜元件。
[0005]反射镜可以例如紧固至支撑框架(力框架)，并且被设计为至少部分可操纵的，以便允许相应的反射镜在高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，包括：光学元件或参考结构形式的可移动元件(201)；以及具有第一和第二部分(202a、202b)的功能元件(202)，其中所述第一部分(202a)使用接合剂沿着紧固平面(204)紧固到所述可移动元件(201)，所述第二部分(202b)包括功能表面(203)；其中，所述功能元件(202)包括用于所述第一部分(202a)与所述第二部分(202b)的变形去耦的去耦装置(207)，所述去耦装置(207)由所述功能元件(202)的收缩部(205)形成；所述收缩部(205)横向布置在所述功能表面(203)的区域之外；并且所述功能表面(203)是适于检测的测量表面，用于定位和/或定向所述可移动元件(201)的目的。2.如权利要求1所述的光学系统，其中，所述功能元件(202)的收缩部(205)是所述功能元件(202)相对于所述第一部分(202a)的第一横截面(Q1)且相对于所述第二部分(202b)的第二横截面(Q2)的横截面缩减。3.如权利要求2所述的光学系统，其中，所述横截面缩减为所述第一和/或第二横截面(Q1、Q2)的至少10％，优选至少30％，特别优选至少50％。4.如权利要求2或3所述的光学系统，其中，所述横截面缩减为所述第一和/或第二横截面(Q1、Q2)的至多70％。5.如权利要求1至4中任一项所述的光学系统，其中，所述收缩部(205)包括至少一个切口，所述切口垂直于所述功能表面(202)缩回。6.如权利要求1至5中任一项所述的光学系统，其中，所述收缩部(205)具有以对齐方式布置在所述功能元件(202)的相对侧上的两个切口。7.一种用于光刻设备(100A、100B)的光学系统(200)，包括：光学元件或参考结构形式的可...

【专利技术属性】
技术研发人员：D，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：