本发明的基片处理方法包括：在基片的表面形成抗蚀剂膜的步骤；对基片的上述抗蚀剂膜的表面供给包含水溶性聚合物的处理液，形成界面控制膜的步骤；对形成有界面控制膜的基片进行加热的步骤；和对形成于加热后的基片的抗蚀剂膜进行曝光的步骤。膜进行曝光的...

提供一种能够准确地计算通过原子层沉积法进行的成膜中的气体供给量的技术。提供一种气体供给量计算方法，包括以下工序：从在与通过原子层沉积法进行成膜的处理容器连接的气体供给路径中流动的第一物质气体与第二物质气体的混合气体的流量减去所述第二物质...

本文披露了用于监测衬底的、衬底工艺的和/或衬底加工模块部件的热特性的系统和方法的各种实施例。更具体地，本披露提供了衬底加工系统的各种衬底加工模块(例如，液体分配模块、烘烤模块或组合烘烤模块、接口块、晶圆检查系统(WIS)模块、电镀分配模...

本公开涉及基板处理装置，能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含：棒状构件，其包含与基板的下表面相对的顶端部；整流构件，其配置为包围顶端部。顶端部包含以自顶端部的...

一种清洗用治具，该清洗用治具呈圆盘状，用于在向配置于容器内的旋转保持装置所保持的基板上供给处理液并通过所述基板的旋转来在所述基板上形成所述处理液的膜的旋转涂布装置中，在与基板同样地保持在所述旋转保持装置的状态下清洗所述容器内，在所述清洗...

一种平坦化衬底的方法，包括：接收衬底，该衬底具有在该衬底的工作表面的目标层上形成的结构，其中，这些结构和该目标层由不同材料形成。在该衬底上沉积包括溶解度改变剂的接枝材料，该接枝材料粘附到该目标层的未覆盖表面而不粘附到这些结构的表面，在该...

提供一种基板的处理方法，包括以下工序：在基板处理装置的腔室内准备基板；基于参照存储有用于计算针对所设定的电力值的校正值Y的式(1)的系数A、B、C、D的存储部、并根据所述式(1)、所述系数A、B、C、D以及表示连续成膜了的基板的处理量的...

一种使衬底平坦化的方法，包括：接收衬底，该衬底在该衬底的工作表面上具有高度不同的微制造结构，其限定了不平坦形貌；通过旋涂沉积以不平坦的方式在该衬底的工作表面上沉积包含溶解度改变剂的第一层；将该第一层暴露于基于该形貌的第一光化辐射图案；使...

在一个示例中，一种用于晶片干燥的方法包括提供第一晶片的表面，该第一晶片的表面包括待通过干燥工艺去除的液体。该方法进一步包括在第一处理室中将该液体替换为第一固体膜，该第一固体膜覆盖该第一晶片的表面。该方法进一步包括将该第一晶片从该第一处理...

本发明提供一种能够在成膜装置中抑制固体原料容器的误连接的技术。成膜装置包括：固体原料容器，其用于收容成膜用的固体原料；多个端子，所述多个端子与所述固体原料容器机械连接，并且所述多个端子能够变更电气状态；以及控制部，其检测所述多个端子的电...

实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、第一循环线路以及第二循环线路。在基板处理槽中，通过将基板浸在处理液中来对基板进行处理。第一循环线路与基板处理槽连接，使从基板处理槽排出的处理液流入基板处理槽。第二循环线路与第一循环线路连接，用...

提供一种在对表面形成有通过与水反应并被加热而曝光部或未曝光部的相对于显影液的溶解性发生变化的已曝光的抗蚀剂的基板进行热处理时能够促进该溶解性的变化的技术。因此，热处理装置具备：载置台(23)，其用于载置并加热所述基板(W)；升降机构(2...

去除加工装置具有台、多个卡盘、喷嘴以及台罩。所述台水平地配置，并以铅垂的旋转中心线为中心旋转。多个所述卡盘绕所述台的旋转中心线空开间隔地配置。所述喷嘴对由所述卡盘保持着的基板供给加工液。所述台罩在所述台的上方承接所述加工液。所述台罩具有...

本发明描述了潜伏性的光引发剂化合物，以及含有这些化合物的组合物以及它们在用于生产结构化光刻胶的光引发方法中的用途。产结构化光刻胶的光引发方法中的用途。产结构化光刻胶的光引发方法中的用途。

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。用于提高基板的面内均匀性。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板保持部、处理液供给部以及盖部。基板保持部用于水平地保持基板并使基板旋转。处理液供给部朝向保持于基板保持部的基板的一面侧供给处理液。盖...

本实用新型提供一种基板处理装置。用于提高基板的面内均匀性。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板保持部、处理液供给部以及盖部。基板保持部用于水平地保持基板并使基板旋转。处理液供给部朝向保持于基板保持部的基板的一面侧供给处理液。盖部被设置为...

提供一种信息处理系统、温度控制方法及热处理装置，其利用模拟模型，提高在对被处理基板进行热处理期间的处理容器内的温度分布的均匀性。该信息处理系统包括对被处理基板进行热处理的热处理装置、以及进行用于对加热部进行控制的目标温度的输出的信息处理...

本公开提供了基板处理方法、基板处理设备和基板处理系统。基板处理方法用于处理基板，该基板包括具有彼此不同的成分的第一区域和第二区域。该基板处理方法包括：(a)通过基板处理设备，在第一区域上优先形成第一沉积层；(b)在(a)之后，在第二区域...

本发明提供能够恰当地进行从隔膜泵的流路内的液体向其它流体的置换的处理液供给装置、液体置换方法和存储介质。处理液供给装置能够从处理液供给源(50)经由处理液流路和喷嘴(41)向被处理体供给处理液，具有：设置在处理液流路内的作为隔膜泵的辅助...

本发明涉及容器、基板处理装置以及基板处理方法。在区分使用多个种类的处理液地对基板进行处理时，减轻处理的工夫以及伴随处理的作业的工夫。容器构成为具备：贮存空间形成部，其在内部形成有对用于处理基板的处理液进行贮存的贮存空间；所述处理液的喷出...